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晶圓測(cè)厚儀 MX203-4-21
- 公司名稱 那諾中國(guó)有限公司
- 品牌
- 型號(hào)
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2025/6/25 16:50:08
- 訪問(wèn)次數(shù) 59
晶圓測(cè)厚儀晶圓厚度測(cè)量?jī)x晶圓厚度測(cè)量?jī)x器晶圓厚度測(cè)量晶圓TTV測(cè)量
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ALD,,PECVD,RIE,,磁控濺射,,熱蒸鍍,電子束,,離子束,,晶圓清洗機(jī),PA-MOCVD,,飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜儀(TOF-SIMS)
晶圓測(cè)厚儀 MX203-4-21是一款手動(dòng)載片的晶圓幾何特性量測(cè)儀,,適用于直徑分別為 50 mm、75 mm和 100 mm的硅片,。該設(shè)備專為控制晶圓厚度與形狀而設(shè)計(jì),,同時(shí)可選配應(yīng)力評(píng)估功能以滿足更全面的檢測(cè)需求。
MX20系列晶圓厚度測(cè)量?jī)x主要用于測(cè)量直徑為2寸,,3寸,,4寸,5寸,,6寸,,8寸,12寸晶圓的厚度,,TTV,,Bow彎曲度,Warp翹曲度,,F(xiàn)latness平整度,,Stress應(yīng)力等晶圓參數(shù),。
晶圓測(cè)厚儀 MX203-4-21與所有其他 E+H 晶圓幾何量測(cè)儀器一樣,采用了 E+H 的非接觸式電容式距離傳感器技術(shù),。每片晶圓的純測(cè)量時(shí)間最長(zhǎng)為 5 秒,,在操作員進(jìn)行手動(dòng)裝載與卸載的情況下,完成一個(gè)完整的晶圓測(cè)量流程大約需要 20 秒,。
The Wafer Geometry Station晶圓幾何特性測(cè)量工作站
晶圓幾何測(cè)量站由一個(gè)下探針頭和一個(gè)上探針頭構(gòu)成,。每個(gè)探針頭均以一塊平板為基礎(chǔ),該平板中徑向排列嵌入了 21 個(gè)非接觸式電容距離傳感器,。兩塊傳感器板呈水平安裝,,并以面對(duì)面的方式精確對(duì)齊。通過(guò)用參考晶圓進(jìn)行簡(jiǎn)單的校準(zhǔn),,即可獲得每對(duì)傳感器之間的距離,。
Measurement Principle 測(cè)量原理
厚度Thickness和翹曲度Bow/Warp測(cè)量在一個(gè)周期內(nèi)完成。在測(cè)量過(guò)程中,,晶圓自由地放置在下探針頭內(nèi)部安裝的支撐點(diǎn)上,。對(duì)頂部傳感器至晶圓正面的距離,以及底部傳感器至晶圓背面的距離進(jìn)行測(cè)量,。
晶圓厚度由每對(duì)傳感器之間已知距離減去所測(cè)得的頂部與底部距離之和計(jì)算得出,。此外,翹曲測(cè)量還額外利用了底部傳感器測(cè)得的距離數(shù)據(jù),。在整個(gè)測(cè)量過(guò)程中,,晶圓始終保持靜止?fàn)顟B(tài),從而確保了測(cè)量結(jié)果的高度重復(fù)性和精確性,。
Measurement type 測(cè)量類別
Thickness 晶圓厚度
Flatness (TTV) 平整度/總厚度變化
Bow 彎曲
Warp 翹曲
Stress 應(yīng)力(選配)
Technical Data 技術(shù)參數(shù)
晶圓直徑 | 50mm, 75mm, 100mm |
厚度準(zhǔn)確性 | ±0.5 µm |
分辨率 | 50nm |
厚度范圍 | 200-800μm |
自動(dòng)進(jìn)樣 | No |
軟件 | MXNT |
相關(guān)型號(hào)
型號(hào) | MX 203-4-21 | MX 203-6-33 | MX 203-8-37 | MX 204-6-33 |
晶圓尺寸 | 2'',3'',4'' | 4'',5'',6'' | 6'',8'' | 4'',5'',6'' |
厚度準(zhǔn)確性 | ±0.5 µm | ±0.6μm | ±0.5 µm | ±0.6μm |
分辨率 | 50nm | 50nm | 50nm | 50nm |
厚度范圍 | 200-800μm | 300-900μm | 400-1000μm | 100-700μm |
自動(dòng)進(jìn)樣 | No | No | No | Yes |
軟件 | MXNT | MXNT | MXNT | MXNT |
應(yīng)用 | Thickness,Flatness(TTV),Bow,Warp,Stress | Thickness,Flatness(TTV),Stress |