徠卡Leica EM ACE200真空鍍膜儀是一款集噴金儀、噴碳儀,、蒸鍍儀功能于一身的多功能設(shè)備,，專為SEM和TEM分析提供高質(zhì)量、導(dǎo)電的金屬或碳涂層,。該系統(tǒng)通過(guò)配置不同的模式（如離子濺射,、碳絲蒸發(fā)等），并在全自動(dòng)化系統(tǒng)中實(shí)現(xiàn)了結(jié)果的可重復(fù)性,。其技術(shù)參數(shù)包括石英晶體測(cè)量,、行星旋轉(zhuǎn)、輝光放電等選項(xiàng),，以及精確至0.1nm的膜厚控制功能,。此外，該設(shè)備還具備方形樣品室,、一體化觸摸控制界面等特點(diǎn),，便于用戶操作和維護(hù)。

為SEM和TEM分析生產(chǎn)同質(zhì)和導(dǎo)電的金屬或碳涂層,，之前從未有過(guò)比與Leica EM ACE200涂層系統(tǒng)更方便的設(shè)備了,。配置為濺射鍍膜機(jī)或碳絲蒸發(fā)鍍膜機(jī)后，可以在全自動(dòng)化系統(tǒng)中獲得可重復(fù)的結(jié)果,，實(shí)現(xiàn)了一臺(tái)EM ACE200具有噴金儀,，噴碳儀，蒸鍍儀三種功能,。如果您的分析需要這兩種方法,，徠卡顯微系統(tǒng)在一臺(tái)儀器中提供可互換機(jī)頭的組合儀表。各個(gè)選項(xiàng),，如石英晶體測(cè)量,、行星旋轉(zhuǎn)、輝光放電和可交換屏蔽共同構(gòu)成這臺(tái)低真空鍍膜機(jī),。

徠卡Leica EM ACE200真空鍍膜儀技術(shù)參數(shù)：

1,、適用于常規(guī)SEM/TEM/DEX噴涂要求

2、可選離子濺射模式,、碳絲蒸發(fā)模式,、或雙模式、可選揮發(fā)放電功能

3,、方向型離子濺射模式,，可提高平面樣品鍍膜效果，脈沖式碳絲蒸發(fā)模式,，實(shí)現(xiàn)對(duì)碳膜厚度的控制

4,、可選配石英膜厚監(jiān)控器,，可程序化控制膜厚，并反饋鍍膜儀,，精度為0.1nm

5,、標(biāo)配有鍍膜金屬擋板，可用于干預(yù)濺射,，確保鍍膜純度

6,、專業(yè)設(shè)計(jì)方形樣品室，尺寸：140mm寬x145mm深x150mm高,，樣品臺(tái)直徑80mm

7,、工作距離：30-100mm

8、濺射電流：≤150mA

9,、極限真空度：≤7x10-3mbar

10,、一體化觸摸控制界面，操作簡(jiǎn)單