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光譜橢偏儀SE-200

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

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江蘇集萃中科旨在光學(xué)組件,、光學(xué)儀器,、智能光電感知三大方向，開(kāi)展系列關(guān)鍵技術(shù)攻關(guān)與產(chǎn)業(yè)化實(shí)踐,，目前已形成3D光學(xué)輪廓儀,、白光干涉儀、反射膜厚儀,、光致發(fā)光,、無(wú)損檢測(cè)儀,、光譜橢偏儀等標(biāo)準(zhǔn)化產(chǎn)品。公司服務(wù)涵蓋光學(xué)儀器的研發(fā),、生產(chǎn)及制造一站式服務(wù),同時(shí)為客戶提供基于智能光電感知的智慧工廠整體解決方案,。




白光干涉儀、光學(xué)輪廓儀,、粗糙度儀,、光學(xué)膜厚儀、光譜橢偏儀等光學(xué)產(chǎn)品,。

產(chǎn)地類別 國(guó)產(chǎn) 應(yīng)用領(lǐng)域 綜合

描述：

集萃中科光電光譜橢偏儀SE-200是一款自主研發(fā)的光學(xué)測(cè)量設(shè)備,，專為高精度、高效率的材料光學(xué)特性分析而設(shè)計(jì),。它能夠自動(dòng)快速,、準(zhǔn)確地測(cè)量材料的折射率、消光系數(shù)和膜厚,，適用于科研,、半導(dǎo)體、光伏,、光學(xué)鍍膜,、顯示面板等領(lǐng)域的薄膜與材料表征需求。


?產(chǎn)品功能：

折射率測(cè)量

精確測(cè)定材料在不同波長(zhǎng)下的折射率,，為光學(xué)設(shè)計(jì)及材料研究

提供關(guān)鍵數(shù)據(jù),。

消光系數(shù)測(cè)量

分析材料的光吸收特性，助力光電器件性能優(yōu)化,。

膜厚測(cè)量

支持納米至微米級(jí)薄膜的厚度檢測(cè),，分辨率高，重復(fù)性好,。

快速自動(dòng)測(cè)試

具備多點(diǎn)自動(dòng)掃描功能,，測(cè)量速度達(dá)1秒/點(diǎn)，大幅提升

批量檢測(cè)效率,。


產(chǎn)品特點(diǎn)：

光學(xué)系統(tǒng)  用以采集全波段內(nèi)的原始橢圓偏振參數(shù)Psi&Del

入射角度：65°,；

光束偏離：＜0.3°；

測(cè)量參數(shù)： Psi&Del,、TanPsi&CosDel,；Alpha&Beta；

偏振器：格蘭-湯姆森,；

材質(zhì):  α-BBO,；

補(bǔ)償器：四分之一波長(zhǎng)相位延遲，超消色差；

光強(qiáng)選擇：線性光密度光選,。保證測(cè)試過(guò)程中較佳信噪比,，提升測(cè)試精度；既防止光 強(qiáng)過(guò)強(qiáng)引起的光強(qiáng)截止,，又防止光強(qiáng)不夠引起的信噪比過(guò)低,，影響測(cè)試精 度；

光路設(shè)計(jì)：偏振光學(xué)主體由雙光纖連接至光源及光譜儀系統(tǒng),；光路穩(wěn)定,，且方便更換 壽命到期的燈泡；

光纖：抗紫外鈍化,；NA=0.22,；孔徑600μm，增加抗靜電套圈,；

微細(xì)光斑：直徑≤200μm,，達(dá)到分離透明及半透明襯底前后表面光斑的效果；微細(xì) 光斑裝置可自由拆卸,；

出射狹縫：150μm,，用以分離透明及半透明襯底的后表面無(wú)效光；

高效鏡組：配置紫外滲透高效收光鏡組,。

光譜采集  背照式TE制冷CCD光纖譜儀,，讀取全波段光強(qiáng)數(shù)值

檢測(cè)單元：2048元快速背照式CCD探測(cè)器，狹縫25微米或50微米,；

具體參數(shù)：A.光譜范圍優(yōu)于350nm-1000nm,；

B.雜散光＜0.02%@400nm；

C. 信噪比4800:1,；

D. 動(dòng)態(tài)范圍50000:1,；

E. 全息光路,；

F. 數(shù)字分辨率16-bit,；

G. 讀取速度>400kHz；

H. 數(shù)據(jù)傳輸速度600MB/s,；

I. 最小積分時(shí)間/調(diào)節(jié)步長(zhǎng)6 us /1us,；

J. 外觸發(fā)延遲95ns+/-20ns；

K. 計(jì)算機(jī)接口USB3.0,；

L. 操作系統(tǒng)Win7/Win10,；

紫外區(qū)平均量子化效率：背照式CCD，平均量子化效率≥75%,；

冷卻系統(tǒng) 微型TE制冷,，制冷溫度可達(dá)環(huán)境下溫度30℃，制冷溫度可通過(guò)軟件設(shè)置；

積分方式：軟件智能化設(shè)置積分時(shí)間,，以較佳信噪比獲得高強(qiáng)度信號(hào)和弱信號(hào),；

儲(chǔ)存空間：具有EEPROM 64組光譜數(shù)據(jù)存儲(chǔ)空間，可由光譜儀單獨(dú)存儲(chǔ)后一次性 輸入計(jì)算機(jī),，減少單次傳輸過(guò)程時(shí)間損耗,；

線性矯正：具有光譜全域線性矯正功能，線性矯正因子可由軟件讀出,，在非線性光譜 區(qū)亦保證較高的光譜線性度,；

抗靜電：增加抗靜電干擾配置。

光源系統(tǒng)  鹵素光源

燈源體：光源系統(tǒng),，燈泡材質(zhì)石英玻璃,，波長(zhǎng)范圍350nm-2000nm，

光源質(zhì)保：10000小時(shí),；

電源：鹵素光源獨(dú)立電源,；

電壓：4.95v；

散熱：能自燈源體均勻散熱,。不會(huì)因散熱不暢引起燈泡體溫度過(guò)高影響使用壽命,，又不會(huì)因散熱不均影響光強(qiáng)漂移。

全自動(dòng)多點(diǎn)移動(dòng)測(cè)試  可自動(dòng)多點(diǎn)移動(dòng)測(cè)試,，移動(dòng)方式為X-Y(X-Theita極坐標(biāo)可選)形移動(dòng),，含Z軸自動(dòng)對(duì)焦，將試片自動(dòng)對(duì)焦至較佳測(cè)量位置

點(diǎn)數(shù)可設(shè)置： 如1,，3,，5，9,，16,，25…100點(diǎn)；

位置限定：具有正負(fù)極限位置及零位光耦,；軟件設(shè)定對(duì)焦起始結(jié)束位置及對(duì)焦位移步 長(zhǎng),；

對(duì)焦方式：光學(xué)對(duì)焦；采集特殊積分時(shí)間及特殊波長(zhǎng)下的垂直Z向移動(dòng)對(duì)應(yīng)的光強(qiáng) 曲線,，利用高斯擬合,，尋找較佳試片測(cè)量位置；

載物臺(tái)面： 適用于較大12英寸規(guī)格的硅片測(cè)試,，向下兼容,，尋邊低于3mm。

測(cè)量分析軟件  適用于Windows11操作系統(tǒng)（正版）,；圖形化操作界面,，軟件操作方便,、直觀

一鍵測(cè)量：能一鍵測(cè)量 (完成包括對(duì)焦，光選,，采集,，分析在類)的全部測(cè)量流程。另外提供對(duì)焦,、光選,、采集、建模,、回歸等分步功能按鈕,；

軟件建模：包括EMA，Dispersion,，Grade,，Roughness等；

復(fù)雜建模：包括Sellmeier(2),、Sellmeier(3),、Cauchy(n,k)、Cauchy(epsi),、 ModifCauchy(n,k),、Drude、IRTail,、Lorentz,、Gauss、CriticalPoint等復(fù) 雜理論建模模型,，且使用簡(jiǎn)單清晰,；

折射率垂直梯度分析：包括對(duì)折射率垂直梯度的分析；

粗糙度分析：包括對(duì)鍍膜膜層界面粗糙度的分析,；

膜層分析：可進(jìn)行單層及多層膜分析顯示,，分析膜層數(shù)不受限制；

波長(zhǎng)范圍及波長(zhǎng)數(shù)目：可自定義分析波長(zhǎng)范圍及波長(zhǎng)數(shù)目,；

修正模型及擬合：用戶可自定義修正模型和擬合參數(shù),；

數(shù)據(jù)庫(kù)： 提供便于使用、用戶可擴(kuò)展（自定義）的材料數(shù)據(jù)庫(kù)及模型數(shù)據(jù)庫(kù),；

波長(zhǎng)顯示：光譜能以能量及波長(zhǎng)單位顯示,；

輸出結(jié)果：擬合出所測(cè)薄膜厚度, n&k常數(shù);

MES：支持MES功能；

具有三級(jí)權(quán)限：OperationMode,、EngineerMode、SyscosMode,。

測(cè)試與分析性能

速度：?jiǎn)吸c(diǎn)約1秒,；49點(diǎn)約1分30秒；

波長(zhǎng)范圍：350nm-1050nm；

膜厚顯示精度：0.1 ? (For 100nm SiO2),；

折射率顯示精度：1x10-3 (For 100nm SiO2),；

膜厚重復(fù)性精度：0.1? (Std，10次,，F(xiàn)or 100nm SiO2,，)；

折射率重復(fù)性精度：1x10-3(Std,，10次,， For 100nm SiO2)；

厚度范圍：0.1nm - 10000nm,；

膜厚精度：0.3nm（跟標(biāo)準(zhǔn)片標(biāo)定值差異）,；

折射率精度：0.003（跟標(biāo)準(zhǔn)片標(biāo)定值差異）。

控制系統(tǒng)

運(yùn)動(dòng)控制：7軸,；

實(shí)時(shí)系統(tǒng)：含外觸發(fā)及軟件自觸發(fā),；

校準(zhǔn)歸零：起偏器P、補(bǔ)償器C,、檢偏器A,、光選器F、對(duì)焦軸Z,、移動(dòng)軸XY有自歸零位置校準(zhǔn)功能,，同時(shí)對(duì)偏振態(tài)控制器配置高精度對(duì)對(duì)編碼位置鎖定器，具有帶隙補(bǔ)償功能,。


三視圖：

  • 光譜橢偏儀SE-200

    正視圖

  • 光譜橢偏儀SE-200

    側(cè)視圖

  • 光譜橢偏儀SE-200

    后視圖


技術(shù)參數(shù)：

基本參數(shù)選型表

光譜范圍

350-1000nm

C

-

-

可見(jiàn)

210-1000nm

UC

-

-

紫外可見(jiàn)

210-1700nm

UN

-

-

紫外-可見(jiàn)-近紅外

光學(xué)補(bǔ)償器

RC

-

-

-

單補(bǔ)償器

RC2

-

C2

-

雙補(bǔ)償器

多點(diǎn)

X-Y(笛卡爾坐標(biāo))

-

-

M

大行程至230mm

X-R（極坐標(biāo)）

-

-

R

大直徑至300mm


光譜橢偏儀SE-200




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