：/[email protected]

透射電鏡（TEM）用氮化硅薄膜窗口
產品概述：
與X射線用氮化硅窗口類似，透射電鏡（TEM）用氮化硅薄膜窗口也使用低應力氮化硅薄膜基底,。但整體尺度更小，適合TEM裝樣的要求,。窗口有單窗口和多窗口陣列等不同規(guī)格,。同時SHNTI也定制多孔氮化硅薄膜窗口。

現(xiàn)在SHNTI可以提供透射電鏡（TEM）用氮化硅薄膜窗系列產品,，規(guī)格如下：
外框尺寸:

• 3 mm x 3 mm （窗口尺寸：0.5 mm,，薄膜厚度：50 nm）
• 3 mm x 3 mm （窗口尺寸：1.0 mm，薄膜厚度：50 nm）
• 3 mm x 3 mm （窗口尺寸：1.0 mm,，薄膜厚度：100 nm）
• 窗口類別：雙縫,、九窗格（3×3陣列）

邊框厚度： 200μm、381μm,。 
Si3N4薄膜厚度： 50nm,、100nm
SHNTI也可以為用戶定制產品（30-200nm），但要100片起訂,。
本產品為一次性產品,，SHNTI不建議用戶重復使用，本產品不能進行超聲清洗,，適合化學清洗,、輝光放電和等離子體清洗。

技術指標：
表面平整度：
我們認為薄膜與其下的硅片同樣平整， TEM用氮化硅薄膜窗口的表面粗糙度為：0.6-2nm。*適用于TEM表征,。

親水性
該窗格呈疏水性,，如果樣品取自水懸浮液，懸浮微粒則不能均勻地分布在薄膜上,。用等離子蝕刻機對薄膜進行親水處理，可暫時獲得親水效果。雖然沒有對其使用壽命進行過測試,，但預期可以獲得與同樣處理的鍍碳TEM網格相當?shù)膲勖Ｎ覀兛梢陨a此種蝕刻窗格，但無法保證其使用壽命,。如果實驗室有蝕刻工具也可對其進行相應的處理提高其親水性能,。



溫度特性：
氮化硅薄膜窗口產品是耐高溫產品，能夠承受1000度高溫,，非常適合在其表面利用CVD方法生長各種納米材料,。

化學特性：
氮化硅薄膜窗口是惰性襯底。

應用簡介和優(yōu)點：
1,、 適合TEM,、SEM、AFM,、XPS,、EDX等的對同一區(qū)域的交叉配對表征。
2,、 大窗口尺寸,，適合TEM大角度轉動觀察。
3,、 無碳,、無雜質的清潔TEM觀測平臺。
4,、 背景氮化硅無定形,、無特征。
5,、 耐高溫,、惰性襯底，適應各種聚合物,、納米材料,、半導體材料、光學晶體材料和功能薄膜材料的制備環(huán)境,，（薄膜直接沉積在窗口上）,。
6、 生物和濕細胞樣本的理想承載體,。特別是在等離子體處理后,，窗口具有很好的親水性。,。
7,、 耐高溫、惰性襯底,，也可以用于化學反應和退火效應的原位表征,。
8,、 適合做為膠體、氣凝膠,、有機材料和納米顆粒等的表征實驗承載體,。

氮化硅薄膜應用范圍非常廣，甚至有時使不可能變?yōu)榭赡?，但所有應用都有無氮要求（因樣本中有氮存在）：
惰性基片可用于高溫環(huán)境下,，通過TEM、SEM或AFM（某些情況下）對反應進行動態(tài)觀察,。
作為耐用基片,，首先在TEM下，然后在SEM下對同一區(qū)域進行“匹配”,。
作為耐用匹配基片,，對AFM和TEM圖像進行比較。
聚焦離子束（FIB）樣本的裝載,，我們*使用多孔薄膜,，而非不間斷薄膜。


許多研究納米微粒,，特別是含氮納米微粒的人員發(fā)現(xiàn)此種薄膜窗格在他們實驗中*,。氣凝膠和干凝膠的基本組成微粒尺寸極小,，此項研究人員也同樣會發(fā)現(xiàn)氧化硅薄膜窗格的價值,。
優(yōu)點：
• SEM應用中，薄膜背景不呈現(xiàn)任何結構和特點,。
• x-射線顯微鏡中,，裝載多個分析樣的*方法。
• 無氮
高溫應用,，氮化硅薄膜在1000°C高溫下仍能保持穩(wěn)定的性能,。

使用前清潔：
氮化硅薄膜窗格在使用前不需進行額外清潔。有時薄膜表面邊角處會散落個別氧化物或氮化物碎片,。由于單片網格需要從整個硅片中分離,，并對外框進行打磨，因此這些微小碎片不可避免,。盡管如此,，我們相信這些碎片微粒不會對您的實驗產生任何影響。

如果用戶確實需要對這些碎片進行清理,，我們建議用H2SO4 : H2O2 （1:1）溶液清潔有機物,，用H2O:HCl: H2O2 （5:3:3）溶液清潔金屬。

通常不能用超聲波清洗器清潔薄膜,，因超聲波可能使其粉碎性破裂,。

：

：[email protected]