SHNTI的X-射線薄膜窗能夠?qū)崿F(xiàn)軟X-射線（如真空紫外線）的zui大透射率,。主要用于同步輻射X射線透射顯微成像時(shí)承載樣品,。 X-射線越軟（能量越低），穿透能力越差,，所需氮化硅薄膜窗越薄,。特別在“離軸”狀態(tài)工作（即薄膜與光束成一定角度）時(shí)，也需要較薄的薄膜窗口,，便于X射線更好地穿透,。
SHNTI提供的氮化硅薄膜窗口是利用現(xiàn)代MEMS技術(shù)制備而成，由于此種氮化硅窗口選用低應(yīng)力氮化硅（0-250MP）薄膜,，因此比計(jì)量式和ST氮化硅薄膜更堅(jiān)固耐用,。SHNTI提供的氮化硅薄膜窗口非常適合應(yīng)用于透射成像和透射能譜等廣泛的科學(xué)研究領(lǐng)域，例如,，X-射線（上海光源透射成像/能譜線站）,、TEM、SEM,、IR,、UV等。
現(xiàn)在SHNTI可以提供X-射線顯微成像/能譜（同步輻射）用氮化硅薄膜窗系列產(chǎn)品,，規(guī)格如下：
外框尺寸 （4種標(biāo)準(zhǔn)規(guī)格）:

5 mm x 5 mm （窗口尺寸：1.0 mm 或和 1.5 mm 方形）

7.5 mm x 7.5 mm （窗口尺寸：2.0 mm 或 2.5 mm）

10 mm x 10 mm （窗口尺寸：3.0 mm 或 5 mm 方形）

邊框厚度： 200μm,、381μm、525μm,。 
Si3N4薄膜厚度：50,、100、150和200nm
SHNTI也可以為用戶定制產(chǎn)品（30-500nm）,，但要100片起訂,。

本產(chǎn)品為一次性產(chǎn)品，SHNTI不建議用戶重復(fù)使用,，本產(chǎn)品不能進(jìn)行超聲清洗,，適合化學(xué)清洗、輝光放電和等離子體清洗,。

氮化硅薄膜窗口系列
SN-LDE-505-15 氮化硅薄膜窗口,，框架：5×5mm，窗口：1.5×1.5mm，膜厚：50nm 
SN-LDE-510-15 氮化硅薄膜窗口,，框架：5×5mm,，窗口：1.5×1.5mm，膜厚：100nm
SN-LDE-515-15 氮化硅薄膜窗口,，框架：5×5mm,，窗口：1.5×1.5mm，膜厚：150nm
SN-LDE-520-15 氮化硅薄膜窗口,，框架：5×5mm,，窗口：1.5×1.5mm，膜厚：200nm
SN-LDE-705-25 氮化硅薄膜窗口,，框架：7.5×7.5mm,，窗口：2.5×2.5mm，膜厚：50nm 
SN-LDE-710-25 氮化硅薄膜窗口,，框架：7.5×7.5mm,，窗口：2.5×2.5mm，膜厚：100nm
SN-LDE-715-25 氮化硅薄膜窗口,，框架：7.5×7.5mm,，窗口：2.5×2.5mm，膜厚：150nm
SN-LDE-720-25 氮化硅薄膜窗口,，框架：7.5×7.5mm,，窗口：2.5×2.5mm，膜厚：200nm
SN-LDE-105-30 氮化硅薄膜窗口,，框架：10×10mm,，窗口：3×3mm，膜厚：50nm
SN-LDE-110-30 氮化硅薄膜窗口,，框架：10×10mm,，窗口：3×3mm，膜厚：100nm
SN-LDE-115-30 氮化硅薄膜窗口,，框架：10×10mm,，窗口：3×3mm，膜厚：150nm
SN-LDE-120-30 氮化硅薄膜窗口,，框架：10×10mm,，窗口：3×3mm，膜厚：200nm
氮化硅薄膜窗口陣列系列
SN-AR-522-15 氮化硅薄膜窗口,，框架：5×5mm,，窗口：1.5×1.5mm，2×2陣列,，膜厚：50nm
SN-AR-733-15 氮化硅薄膜窗口,，框架：7.5×7.5mm,，窗口：1.5×1.5mm，3×3陣列,；膜厚：50nm  
SN-AR-1044-15 氮化硅薄膜窗口，框架：5×5mm,，窗口：1.5×1.5mm,，膜厚：100nm 
氧化硅薄膜窗口系列
SO-505-15 氧化硅薄膜窗口，框架：5×5mm,，窗口：1.5×1.5mm,，膜厚：50nm 
SO-510-15 氧化硅薄膜窗口，框架：5×5mm,，窗口：1.5×1.5mm,，膜厚：100nm
SO-520-15 氧化硅薄膜窗口，框架：5×5mm,，窗口：1.5×1.5mm,，膜厚：150nm
SO-705-25 氧化硅薄膜窗口，框架：7.5×7.5mm,，窗口：1.5×1.5mm,，3×3陣列，膜厚：50nm 
SO-710-25 氧化硅薄膜窗口,，框架：7.5×7.5mm,，窗口：1.5×1.5mm，3×3陣列,，膜厚：100nm
SO-720-25 氧化硅薄膜窗口,，框架：7.5×7.5mm，窗口：1.5×1.5mm,，3×3陣列,，膜厚：200nm
氮化硅薄膜窗口系列
SN-1010-2-AU10 氮化硅基底框架：10×10mm，窗口：2×2mm,，膜厚：100nm,，金膜厚度：10nm 
SN-1020-2-AU10 氮化硅基底框架：10×10mm，窗口：2×2mm,，膜厚：200nm,，金膜厚度：10nm
SN-710-2-AU10 氮化硅基底框架：7.5×7.5mm，窗口：2×2mm,，膜厚：100nm,，金膜厚度：10nm 
SN-720-2-AU10 氮化硅基底框架：7.5×7.5mm，窗口：2×2mm,，膜厚：200nm,，金膜厚度：10nm
特殊定制產(chǎn)品
SN-5H5-15 氮化硅基底框架：5×5mm,，硅片厚度：200um，窗口：1.5×1.5mm,，膜厚：500nm 
SN-5H10-15 氮化硅基底框架：5×5mm,，硅片厚度：200um，窗口：1.5×1.5mm,，膜厚：1000nm 
SN-LDE-4-10 氮化硅片100nm-4英寸整張,，10×10mm切片 

襯底厚度：200um 溫度范圍：1000℃ 真空適應(yīng)：1個(gè)大氣壓
厚度可以選擇：200um，381um,，525um,，需要提前說(shuō)明。

：

：[email protected]