makeway 近常壓X射線光電子能譜儀
- 公司名稱 上海麥科威半導(dǎo)體技術(shù)有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào) makeway
- 產(chǎn)地 上海浦東新區(qū)浦東南路855號(hào)
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時(shí)間 2025/6/5 9:51:25
- 訪問(wèn)次數(shù) 164
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價(jià)格區(qū)間 | 面議 | 儀器種類 | 進(jìn)口 |
---|---|---|---|
應(yīng)用領(lǐng)域 | 綜合 |
技術(shù)參數(shù):
1近常壓XPS真空系統(tǒng),,包含分析腔和快速進(jìn)樣腔
1.1 分析腔采用μ金屬腔體或不銹鋼腔體加消磁線圈
1.2 分析腔配備分子泵以及前級(jí)泵,真空≤5×10-9 mbar
1.3 快速進(jìn)樣腔采用不銹鋼腔體
1.4 快速進(jìn)樣腔配備分子泵和前級(jí)泵,,真空≤5×10-8 mbar
2電子能量分析器
*2.1 半球型,,平均半徑150 mm
*2.2四級(jí)差分抽氣系統(tǒng),,一級(jí)和二級(jí)差分抽氣之間配有閥門(mén),可以實(shí)現(xiàn)真空腔體進(jìn)氣時(shí)保證分析器的真空度
2.3工作壓力最大可達(dá)25 mbar
*2.4分析器接收角:≥44o
2.5 工作距離 300-500μm
2.6 八個(gè)入口狹縫,,三個(gè)出口狹縫
2.7 能量分辨率 ≤10 meV
*2.8探測(cè)能量范圍可達(dá)3.5 keV
*2.9 Ag 3d峰計(jì)數(shù)率(在Al靶X光源束斑≤250 μm, 20 W條件下):
≥70 kcps在UHV條件,;≥7 kcps 在10 mbar N2條件;≥0.5 kcps在25 mbar N2條件
*2.10 配有一維探測(cè)器(ADCMOS)
3 單色化陽(yáng)極靶微聚焦X射線光源
*3.1 類型:?jiǎn)紊?/span>Al/Ag/Cr三陽(yáng)極靶
*3.2工作范圍:10-10 – 25 mbar
3.3 Al靶光斑尺寸: ≤ 200 μm
3.4 Al靶光通量≥1.0x1010 photons /s; Ag靶光通量≥1.0x109 photons/s,,Cr靶光通量≥1.0x1010 photos/s
3.5 配有差抽系統(tǒng)
3.6 配套水冷機(jī)組,,最大水壓可達(dá)9 bar
4 進(jìn)氣氣路
4.1配有三路進(jìn)氣管路系統(tǒng),,配備質(zhì)量流量計(jì),,用于氣體通入
4.2帶有自動(dòng)壓力控制,壓力范圍:1-30 mbar
5 分析腔四軸全自動(dòng)樣品架
5.1四軸樣品架移動(dòng)范圍:
X = ±12.5 mm
Y = ±12.5 mm
Z 方向范圍隨系統(tǒng)配置
P = ±180° polar(極角)
5.2 四軸全自動(dòng)化馬達(dá)
*5.3配備150 W紅外激光加熱器,,在25 mbar N2條件下,,樣品溫度最高可達(dá)1000 ℃
5.5 配有液氮冷卻,樣品溫度可到150 K
6. 紫外光源
6.1 束流密度>2x1016 photons/(sec x sterad)
*6.1 能量分辨率:FWHM<2meV
6.3 可用氣體:He,、Ne,、Ar等
6.4 樣品上束斑尺寸:<500μm
*6.5 可在近常壓環(huán)境下進(jìn)行UPS測(cè)試;
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