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MAKEWAY 低能電子顯微鏡/LEEM

具體成交價以合同協(xié)議為準

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上海麥科威半導(dǎo)體技術(shù)有限公司(Shanghai Makeway Semiconductor LTD)是一家專業(yè)的微納材料,、半導(dǎo)體和微電子材料及器件研發(fā)儀器及設(shè)備的供應(yīng)商,所銷售的儀器設(shè)備廣泛用于高校,、研究所、以及半導(dǎo)體和微電子領(lǐng)域的高科技企業(yè),。目前總部在上海,,香港、南通,、深圳,、北京分別設(shè)立分公司和辦事處,快速響應(yīng)客戶需求。同時上海麥科威在快速擴展海外市場,,并設(shè)立新加坡分公司,,輻射東南亞市場。

      上海麥科威半導(dǎo)體技術(shù)有限公司主要銷售產(chǎn)品包括:  - 霍爾效應(yīng)測試儀,;  - 快速退火爐,;  - 回流焊爐,共晶爐,,釬焊爐,,真空燒結(jié)爐;  - 電子束蒸發(fā)鍍膜機,,熱蒸發(fā)鍍膜機;  - 探針臺,,低溫探針臺,微探針臺,;  - 金剛石劃片機,; - 球焊機,鍥焊機,;  - 磁控濺射鍍膜機,;  - 原子層沉積系統(tǒng),等離子增強原子層沉積設(shè)備,;  - 電化學(xué)C-V剖面濃度分析儀(ECV Profiler),; - 掃描開爾文探針系統(tǒng); - 光學(xué)膜厚儀,; -貼片機-PECVD\CVD,;-脈沖激光沉積系統(tǒng)-PLD-納米壓印,;-等離子清洗機,、去膠機;-反應(yīng)離子刻蝕RIE; - 光刻機,、無掩膜光刻機,; - 勻膠機; - 熱板,,烤膠板,; -少子壽命、太陽能模擬器,;-NMR-瞬態(tài)能譜儀-外延沉積-等離子清洗機-離子注入-劃片機,、裂片機光刻機(針尖/電子束光刻機EBL,紫外光刻機,,激光直寫光刻機),,鍍膜機(磁控濺射機,,電子束蒸發(fā)機,化學(xué)沉積機,,微波等離子沉積機,,原子層沉積機  等等…

企業(yè)客戶:華為技術(shù)有限公司, 深圳市鵬芯微集成電路制造,, 深圳清力技術(shù),, 安徽格恩半導(dǎo)體, 蘇州稀晶半導(dǎo)體科技,, 矽品半導(dǎo)體,, 廈門海辰新能源科科, 中核同創(chuàng)(成都)科技,, 洛瑪瑞芯片技術(shù)(常州),,偉創(chuàng)力科技, 奧普科星河北科技,,廣東五星太陽能,,廣東萬和集團,西安西測股份,, 普源精電科技,, 普源精電科技股份, 上海蔚來汽車,, 北京華脈泰科,, 廣醫(yī)東金灣高景太陽能科技, 深圳匯佳成電子,, 深圳市化訊半導(dǎo)體材料,, 珠海珍迎機電, 合肥鼎材科技,, 山東金晶節(jié)能玻璃,, 江蘇云意電氣股份, 廣東風(fēng)華技股份,, 浙江中能合控股集團,,固安維信諾,淮安天合光能,,浙江老鷹半導(dǎo)體,, 四川信通電子科技等。


科研院所/高等院校: 北京航空航天大學(xué),, 汕頭大學(xué),, 南方醫(yī)科大學(xué), 清華大學(xué),, 北京大學(xué),, 復(fù)旦大學(xué), 西北工業(yè)大學(xué),, 南京醫(yī)科大學(xué),, 香港中文大學(xué), 香港城市大學(xué),, 蘇州大學(xué),, 深圳職業(yè)技術(shù)學(xué)院, 南京大學(xué)合肥國家試驗室,, 上海交通大學(xué)醫(yī)學(xué)院,, 華南理工大學(xué),華東師范大學(xué),,江南大學(xué),,重慶26所, 深圳大學(xué),, 南方科技大學(xué),, 深圳技術(shù)大學(xué), 理化技術(shù)研究所,, 中國工程物理研究院激光聚變研究中心,, 廣東粵港澳大灣區(qū)黃埔材料研究院, 桂林電子科技大學(xué),, 上海硅酸鹽研究所,, 中國航天五院,中科合肥智慧農(nóng)業(yè)協(xié)同創(chuàng)新研究院等,。

 

 

 

 

 

 

 

 

半導(dǎo)體設(shè)備,,快速退火爐,原子層沉積,,鍵合機,,光刻機

應(yīng)用領(lǐng)域 綜合

LEEM是廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)領(lǐng)域的高技術(shù)分析儀器,能集原位觀測,、超快及光電子成像于一體,,即我們所稱的“長眼睛的超級XPS",能對薄膜以及二維材料,、鋰離子電池,、鈣鈦礦太陽能電池材料等的表面電子行為進行實時激發(fā)、圖像采集及定量分析,,此外LEEM還可定量地解析各種薄膜材料在生長過程中所處的能帶狀態(tài),,因而可以對電子材料制備、使用和失效過程進行有效的表征,,從而揭示電子材料的化學(xué)成分,、能帶及其價態(tài)與性能的作用機理,。LEEM與成像功能和離子濺射刻蝕相結(jié)合,可以用于固體表面元素成分及價態(tài)的面分布和深度剖析,;與離子蒸鍍或其他分子束外延技術(shù)相結(jié)合,,可以進行原位樣品的制備及分析工作。當電子到樣品的著陸能量較低時,,會在樣品表面發(fā)生衍射,。對衍射斑點進行成像,可以獲得LEED圖像,,得知表面晶向結(jié)構(gòu),。同時可以與光闌配合,調(diào)控電子束在表面的位置與大小,,進行微區(qū)LEED表征,,這樣就不僅可以對樣品表面進行實空間成像,還可以得知樣品各微觀位置的晶向結(jié)構(gòu),。這也是PEEM/LEEM系統(tǒng)一大優(yōu)勢,。因此,LEEM在電子薄膜材料,、半導(dǎo)體材料,、納米材料、能源,、催化分析等方面具有不可替代的作用,。

配置清單

序號

具體配置

數(shù)量

1

超高真空分析腔

1

2

冷場發(fā)射電子槍

1

3

電子光學(xué)透鏡系統(tǒng)

1

4

超高真空泵組

1

5

高精度五軸全自動馬達驅(qū)動樣品臺

1

6

樣品傳輸和快速進樣腔

1

7

減震平臺

1

8

操作電腦(預(yù)裝操作系統(tǒng)和數(shù)據(jù)采集軟件,2個24寸顯示屏)

1

9

紫外光源

1

10

帶相差矯正功能










技術(shù)參數(shù)

1,、 主分析腔真空≤2×10-10mbar,,主分析腔和快速進樣腔之間配有過渡腔,留有擴展接口,,可用于后期與其它設(shè)備互聯(lián),;

2、 *高精度5軸馬達全自動驅(qū)動樣品臺,,XYZ2Tilt方向全部馬達驅(qū)動

3,、 高通量放電汞燈一個,用于PEEM成像

4,、 高溫成像樣品溫度可達1500K,;

5、 *磁偏轉(zhuǎn)棱鏡采用90°偏轉(zhuǎn),,易于光路整體校正,;

6、 *冷場發(fā)射電子槍,電子束斑直徑200nm- 40μm,,能量分布FWHM ≤0.3 eV,;

空間分辨率<5nmLEEM模式),<10nmPEEM模式)

像差校正:LEEM空間分辨率優(yōu)于3nm

7,、 能量分辨率< 250 meV,;

8、 樣品位置穩(wěn)定性<5nm,,再現(xiàn)性<500nm

9,、 軟件能操控能量狹縫位置,,可快速實現(xiàn)能量過濾成像







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