MAKEWAY 低能電子顯微鏡/LEEM
- 公司名稱 上海麥科威半導(dǎo)體技術(shù)有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號 MAKEWAY
- 產(chǎn)地 德國
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時間 2025/4/29 20:18:05
- 訪問次數(shù) 119
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應(yīng)用領(lǐng)域 | 綜合 |
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LEEM是廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)領(lǐng)域的高技術(shù)分析儀器,能集原位觀測,、超快及光電子成像于一體,,即我們所稱的“長眼睛的超級XPS",能對薄膜以及二維材料,、鋰離子電池,、鈣鈦礦太陽能電池材料等的表面電子行為進行實時激發(fā)、圖像采集及定量分析,,此外LEEM還可定量地解析各種薄膜材料在生長過程中所處的能帶狀態(tài),,因而可以對電子材料制備、使用和失效過程進行有效的表征,,從而揭示電子材料的化學(xué)成分,、能帶及其價態(tài)與性能的作用機理,。LEEM與成像功能和離子濺射刻蝕相結(jié)合,可以用于固體表面元素成分及價態(tài)的面分布和深度剖析,;與離子蒸鍍或其他分子束外延技術(shù)相結(jié)合,,可以進行原位樣品的制備及分析工作。當電子到樣品的著陸能量較低時,,會在樣品表面發(fā)生衍射,。對衍射斑點進行成像,可以獲得LEED圖像,,得知表面晶向結(jié)構(gòu),。同時可以與光闌配合,調(diào)控電子束在表面的位置與大小,,進行微區(qū)LEED表征,,這樣就不僅可以對樣品表面進行實空間成像,還可以得知樣品各微觀位置的晶向結(jié)構(gòu),。這也是PEEM/LEEM系統(tǒng)一大優(yōu)勢,。因此,LEEM在電子薄膜材料,、半導(dǎo)體材料,、納米材料、能源,、催化分析等方面具有不可替代的作用,。
配置清單:
序號 | 具體配置 | 數(shù)量 |
1 | 超高真空分析腔 | 1套 |
2 | 冷場發(fā)射電子槍 | 1套 |
3 | 電子光學(xué)透鏡系統(tǒng) | 1套 |
4 | 超高真空泵組 | 1套 |
5 | 高精度五軸全自動馬達驅(qū)動樣品臺 | 1套 |
6 | 樣品傳輸和快速進樣腔 | 1套 |
7 | 減震平臺 | 1套 |
8 | 操作電腦(預(yù)裝操作系統(tǒng)和數(shù)據(jù)采集軟件,2個24寸顯示屏) | 1套 |
9 | 紫外光源 | 1套 |
10 | 帶相差矯正功能 | 1 套 |
技術(shù)參數(shù):
1,、 主分析腔真空≤2×10-10mbar,,主分析腔和快速進樣腔之間配有過渡腔,留有擴展接口,,可用于后期與其它設(shè)備互聯(lián),;
2、 *高精度5軸馬達全自動驅(qū)動樣品臺,,XYZ和2個Tilt方向全部馬達驅(qū)動
3,、 高通量放電汞燈一個,用于PEEM成像
4,、 高溫成像樣品溫度可達1500K,;
5、 *磁偏轉(zhuǎn)棱鏡采用90°偏轉(zhuǎn),,易于光路整體校正,;
6、 *冷場發(fā)射電子槍,電子束斑直徑200nm- 40μm,,能量分布FWHM ≤0.3 eV,;
空間分辨率<5nm(LEEM模式),<10nm(PEEM模式)
像差校正:LEEM空間分辨率優(yōu)于3nm
7,、 能量分辨率< 250 meV,;
8、 樣品位置穩(wěn)定性<5nm,,再現(xiàn)性<500nm;
9,、 軟件能操控能量狹縫位置,,可快速實現(xiàn)能量過濾成像;