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化工儀器網>產品展廳>半導體行業(yè)專用儀器>光刻及涂膠顯影設備>有掩模光刻機>CG-920 半自動光刻機

CG-920 半自動光刻機

參考價 1
訂貨量 ≥1
具體成交價以合同協議為準

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聯系我們時請說明是化工儀器網上看到的信息,,謝謝!


     合肥重光電子科技有限公司是一家專業(yè)從事儀器設備的生產商。針對國家大力扶持的太陽能電池和半導體等科技領域,。

        我司有專業(yè)的檢測儀器和工藝實驗設備,,能夠滿足不同客戶的打樣和定制化需求。同時我司與中國科學技術大學微納加工平臺、合肥工業(yè)大學微納加工平臺保持技術上的交流,,能有效幫助客戶解決工藝問題,。

        我司提供產品的定制化代工業(yè)務,滿足客戶對自營品牌的需求,,讓客戶從而實現資產輕量化運營,。

        ‍‍我司產品優(yōu)勢:提供定制化服務,滿足客戶多樣化需求,,從而為客戶節(jié)約更多科研經費,。其中低速勻膠平穩(wěn),結束低粘度光阻勻膠依賴進口品牌,。

 

 

 

勻膠,、熱板、顯影,、等離子,、光刻設備

技術參數

掩模版 、硅片    


硅片尺寸

8"/ 6"

硅片厚度

max.10 mm

掩模版尺寸

9" ×9"/ 7" ×7" (SEMI)

掩模版厚度

max.6.35 mm

曝光模式    


接觸方式

軟接觸,、硬接觸,、真空接觸

曝光間隙

0~1000 μm

間隙精度

1 μm

曝光強度

0 ~ ≥40mw/cm 2

曝光鏡頭    


光源類型

LED

曝光波長

365nm,405nm,,

光強均勻性

≤4% 8" / ≤3% 6"

分辨率

真空接觸≤1um


硬接觸 ≤1.5μm


軟接觸≤2.2μm


間隙 ≤3.6μm

對 準 模 式


頂部對準

< ±1 μm

可選配底部對準

< ±2 μm

頂部對準調焦范圍

5 mm

底部對準調焦范圍

5 mm


運動范圍

X:±5mmY:±5mmθ :   ±5°

分辨率

0.04 μm

頂 部 對 準 鏡 頭  


移動范圍

6" 40~150mm


8" 40~200 mm

底部對準鏡頭


移動范圍

6" 40~150mm


8" 40~200 mm

用 戶 界 面


Windows 10

可存儲工藝菜單

場務需求  


真空< -0.8 kPa ; 氮氣> 0.5 Mpa ; 壓縮空氣: 0.6~0.8 Mpa

供 電 需 求


電壓: 230 V  ± 10%

頻率: 50~60 Hz

尺 寸 重 量  


長 ×寬 ×: 1200  × 1000 mm

高: 1973 mm重量 : ~ 400 kg



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