化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器>光刻及涂膠顯影設(shè)備>無(wú)掩模光刻機(jī)/直寫(xiě)光刻機(jī)>CG-MLC6 實(shí)驗(yàn)室無(wú)掩膜曝光機(jī)
CG-MLC6 實(shí)驗(yàn)室無(wú)掩膜曝光機(jī)
參考價(jià) | ¥ 1 |
訂貨量 | ≥1件 |
- 公司名稱 合肥重光電子科技有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào) CG-MLC6
- 產(chǎn)地 安徽省合肥市經(jīng)開(kāi)區(qū)
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2025/3/22 17:46:46
- 訪問(wèn)次數(shù) 25
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產(chǎn)品特點(diǎn):
數(shù)字光刻系統(tǒng)
微納器件無(wú)掩模版直寫(xiě)光刻
光掩模版制作
3D結(jié)構(gòu)曝光功能
自動(dòng)對(duì)準(zhǔn)功能
用戶自定義標(biāo)記對(duì)準(zhǔn)功能
可視化定點(diǎn)曝光功能
自動(dòng)聚焦功能
不規(guī)則樣片曝光
快速、精細(xì)兩種曝光模式
支持多種數(shù)據(jù)格式(GDSⅡ/ Gerber/ O DB++)
背部對(duì)準(zhǔn)功能(選配)
實(shí)驗(yàn)室無(wú)掩膜曝光機(jī)
405nm LD光源(375nm可選)
參數(shù):
型號(hào) | MLC Lite | ||
ModeⅠ | Mode Ⅱ | Mode Ⅲ | |
最小特征尺寸 | 0.5μm | 1μm | 2μm |
最小線寬線距 | 0.8μm | 1.2μm | 2.5μm |
CD均勻性 | 10% | 10% | 10% |
兩層對(duì)位精度 5x5m㎡ | 500nm | 800nm | 1000nm |
兩層對(duì)位精度 50x50m㎡ | 800nm | 1000nm | 1500nm |
產(chǎn)能 | 50mm2/min | 100mm2/min | 300mm2/min |
最小基板尺寸 | 5mm x 5mm | ||
基板厚度 | 0.1 - 12mm(可選) | ||
曝光面積 | 150mm x 150mm | ||
灰度曝光 | 可選128階 | ||
曝光光源 | Laser, 405nm or 375nm |