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原子層沉積設備 Atomic Layer Deposition

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原子層沉積設備

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普邁精醫(yī)科技(北京)有限公司(PRECISION MEDICINE TECHNOLOGY(Beijing)Co.LTDEVOQUA德國懿華在中國的合作伙伴,,為實驗室客戶提供專業(yè)的科研檢測設備解決方案,。

我們了解科學儀器在全球的應用,匯集于專業(yè)的解決方案,,傳遞給國內頂級科研及檢測人員,,輔助我們的客戶取得事業(yè)進步和成功。

我們提供的專業(yè)解決方案有:

實驗室純水及超純水供給解決方案:可根據(jù)客戶需求,,提供1.2-14/分鐘的超純水,10-1000/小時的純水設備及設計方案,,并提供全部相關耗材,,EDI去離子模塊。

生物樣本庫解決方案:樣本庫前期設計,、各功能區(qū)規(guī)劃,,到樣本前后處理設備,、樣本凍存耗材,、樣本凍存設備,再到樣本自動化工作站,、自動化樣本庫,、樣本庫管理軟件,為客戶提供一站式樣本存儲解決方案,。

細胞培養(yǎng)解決方案:該方案涵蓋組織提取,,研磨消解,培養(yǎng)分選,,生化分析,,分離富集,凍存轉運各環(huán)節(jié)的儀器設備及耗材,,并提供相關檢測服務及科研服務,。

細胞囊泡及外泌體EXOSOME解決方案:該方案涵蓋細胞囊泡及外泌體EXOSOME的分離提取,鑒定鑒別,,測序分析及后續(xù)應用,。我們?yōu)榭蛻籼峁┫嚓P環(huán)節(jié)專業(yè)儀器,試劑盒,,耗材,,并提供相關檢測服務及科研服務,。

分子生物學解決方案:該方案包含基因表達,分子克隆,,蛋白表達,,核酸檢測等各分子生物學研究領域所需要的設備及耗材,并提供流程自動化方案和技術服務,。

醫(yī)療科研解決方案:普邁精醫(yī)針對醫(yī)療科研行業(yè),,根據(jù)醫(yī)療科研人員的實際需求,整合以上多個解決方案,,并和眾多優(yōu)秀廠家合作,,開發(fā)傳統(tǒng)科學儀器在醫(yī)療上的創(chuàng)新型應用,為客戶提供多方位的醫(yī)療科研和醫(yī)療檢驗儀器,,耗材,,技術服務保障。

 

 

 

 

 

 

 

通用實驗室設備,,分子生物學設備,,顯微鏡,成像設備,,科研用耗材

產地類別 國產 應用領域 環(huán)保,能源,電子,綜合

鈣鈦礦單結太陽能電池設備和整線解決方案
提供從設備配置,、技術服務、到量產工藝優(yōu)化,,以及質量控制的全過程解決方案,,滿足包含從300mmx300mm到1200mmx2400mm尺寸的全產品線,滿足CE/UL標準,,承諾PCE 20%@300mmx300mm電池組件,、PCE 18%@0.6mx1.2m電池組件。

原子層沉積設備 Atomic Layer Deposition

鈣鈦礦/晶硅疊層太陽能電池設備和整線解決方案
在單結鈣鈦礦太陽能電池設備配置的基礎上,,提供一步涂布法或干濕兩步法的鈣鈦礦/晶硅疊層電池制備工藝,,包含從182mmx182mm到210mmx210mm尺寸的全產品線,滿足CE/UL標準,,承諾高電池效率,。

產品介紹:

狹縫涂布設備 Slot-Die


技術特點:
  • 多段式供液,涂布膜層均勻性高

  • 通過3個激光傳感器,,實現(xiàn)快速自動對刀,、防撞刀

  • 搭配高精度注液泵

  • 可采用鈣鈦礦溶劑驗收

原子層沉積設備 Atomic Layer Deposition
技術參數(shù):
原子層沉積設備 Atomic Layer Deposition

真空閃蒸及退火設備 VCD & Annealing

技術特點:
  • 集成閃蒸和退火工藝,成膜環(huán)境和成膜過程高度可控

  • 大面積樣品退火受熱均勻,,保證相變一致性

  • 快速去除濕膜中的殘余溶劑,,均勻的過飽和

  • 變頻調速羅茨泵實現(xiàn)抽氣速率可控

原子層沉積設備 Atomic Layer Deposition
技術參數(shù):
原子層沉積設備 Atomic Layer Deposition

激光劃刻設備 Laser Scriber

技術特點:
  • P1、P2,、P3飛秒,、皮秒紅外激光可選

  • 高度定制化,,膜面/玻璃面劃刻可選,平頂光斑可選

  • 精度高,,具備逐線功能,,線間距小

  • 工藝成熟,邊緣光潔,,無火山環(huán)及毛邊

原子層沉積設備 Atomic Layer Deposition
技術參數(shù):
原子層沉積設備 Atomic Layer Deposition

蒸鍍設備 Evaporation System

技術特點:
  • 多源共蒸,,實現(xiàn)大面積鍍膜

  • 熱場和溫控精確

原子層沉積設備 Atomic Layer Deposition

技術參數(shù):
原子層沉積設備 Atomic Layer Deposition

原子層沉積設備 Atomic Layer Deposition

技術特點:
  • 精確控制薄膜厚度

  • 薄膜均勻性高

  • 溫控精度高

  • 全自主工藝腔室設計,空間型和時間型可選,,多片和單片可選

原子層沉積設備 Atomic Layer Deposition
技術參數(shù):
原子層沉積設備 Atomic Layer Deposition


磁控濺射設備  Sputtering System

技術特點:
  • 工藝穩(wěn)定性高

  • 自研氧化鎳反應濺射控制器

  • ITO/NiOx靶采用圓柱靶,,靶材利用率高

  • 靶-基距可調,低損傷TCO導電膜鍍膜

原子層沉積設備 Atomic Layer Deposition
技術參數(shù):
原子層沉積設備 Atomic Layer Deposition


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