狹縫涂布設備 Slot-Die
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- 公司名稱 普邁精醫(yī)科技(北京)有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號
- 產地 中國
- 廠商性質 代理商
- 更新時間 2025/2/27 16:07:29
- 訪問次數 273
產品標簽
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產地類別 | 國產 | 應用領域 | 環(huán)保,能源,電子/電池,綜合 |
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產品介紹:
狹縫涂布設備 Slot-Die
技術特點:
多段式供液,,涂布膜層均勻性高
通過3個激光傳感器,,實現快速自動對刀、防撞刀
搭配高精度注液泵
可采用鈣鈦礦溶劑驗收

技術參數:

真空閃蒸及退火設備 VCD & Annealing
技術特點:
集成閃蒸和退火工藝,,成膜環(huán)境和成膜過程高度可控
大面積樣品退火受熱均勻,,保證相變一致性
快速去除濕膜中的殘余溶劑,均勻的過飽和
變頻調速羅茨泵實現抽氣速率可控

技術參數:

激光劃刻設備 Laser Scriber
技術特點:
P1,、P2,、P3飛秒、皮秒紅外激光可選
高度定制化,,膜面/玻璃面劃刻可選,,平頂光斑可選
精度高,具備逐線功能,,線間距小
工藝成熟,,邊緣光潔,無火山環(huán)及毛邊

技術參數:

蒸鍍設備 Evaporation System
技術特點:

蒸鍍設備 Evaporation System
技術特點:
多源共蒸,,實現大面積鍍膜
熱場和溫控精確

技術參數:

原子層沉積設備 Atomic Layer Deposition
技術特點:
精確控制薄膜厚度
薄膜均勻性高
溫控精度高
全自主工藝腔室設計,,空間型和時間型可選,多片和單片可選

技術參數:

磁控濺射設備 Sputtering System
技術特點:
工藝穩(wěn)定性高
自研氧化鎳反應濺射控制器
ITO/NiOx靶采用圓柱靶,,靶材利用率高
靶-基距可調,,低損傷TCO導電膜鍍膜

技術參數:
