NL-QMS磁控濺射納米顆粒尺寸控制系統(tǒng)

四極桿質譜儀（Quadrupole Mass Spectrometer, QMS）在磁控濺射納米顆粒尺寸控制中的應用主要體現在以下幾個方面：

1.       實時監(jiān)測與反饋：

o    QMS能夠實時監(jiān)測納米顆粒的尺寸分布,，通過質量過濾器按質量或直徑實時掃描或過濾沉積的納米顆粒,，從而促進生長條件的優(yōu)化。

o    通過調整工藝參數,，如磁控濺射電流,、結露區(qū)長度和氣體流量等，可以精確控制納米顆粒的尺寸。

2.       精確控制納米顆粒尺寸：

o    在1-20 nm范圍內調整納米顆粒的尺寸分布,，這對于許多應用領域（如生物醫(yī)學,、電子材料等）至關重要。

o    例如,，在銀納米團簇的制備中,，通過調節(jié)濺射電流和氬氣流量，可以獲得平均粒徑為2, 4和6 nm的銀納米團簇,。

3.       工藝參數的優(yōu)化：

o    QMS可以與透射電子顯微鏡（TEM）等其他表征手段結合,，對比在線和離線測量結果，確保納米顆粒尺寸控制的準確性和一致性,。

o    通過QMS的監(jiān)測數據,，可以優(yōu)化工藝參數，如濺射電流,、氣體流量和結露區(qū)長度,，以實現對納米顆粒尺寸的精確控制。

4.       應用實例：

o    在等離子體氣相凝聚技術中,，QMS被用于在線測量銀納米團簇的粒徑尺寸與分布,，并與TEM離線測量值進行比對，驗證了QMS在納米顆粒尺寸控制中的有效性,。

通過上述方法,，NL-QMS能夠有效地控制納米顆粒的尺寸，滿足不同應用領域對納米顆粒尺寸的精確要求,。

 NL-QMS磁控濺射納米顆粒尺寸控制系統(tǒng)技術規(guī)格