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Nikalyte NL-Cube物理氣相沉積系統(tǒng)

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 杭州雷邁科技有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號
  • 產(chǎn)地
  • 廠商性質(zhì) 代理商
  • 更新時(shí)間 2025/1/26 11:49:11
  • 訪問次數(shù) 65

聯(lián)系方式:蔣新浩查看聯(lián)系方式

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杭州雷邁科技有限公司(Labmates Technology成立于2010公司致力于實(shí)驗(yàn)室*科學(xué)儀器和工業(yè)專用設(shè)備的研發(fā),、銷售和技術(shù)服務(wù),,產(chǎn)品應(yīng)用于新材料、電子,、半導(dǎo)體,、化工、光伏,、玻璃等眾多行業(yè)及高等院校和科研機(jī)構(gòu),。

公司主營產(chǎn)品包括鐵電材料測試儀、寬頻介電阻抗譜儀,、薄膜壓電測試儀,、3D輪廓儀、顯微CT,、光譜分析儀,、X射線衍射儀和分光光度儀等分析測試儀器和設(shè)備。我們關(guān)注科技發(fā)展趨勢和動態(tài),,與時(shí)俱進(jìn)引進(jìn)新興功能性材料的分析和表征整體解決方案,,已與眾多高校及科研院所建立起技術(shù)交流和合作關(guān)系,以專業(yè)應(yīng)用技術(shù)為優(yōu)勢,,以產(chǎn)品整體解決方案為己長,,為用戶提供可靠的產(chǎn)品和有效的服務(wù)。

經(jīng)過團(tuán)隊(duì)每一個(gè)成員的持續(xù)努力和奮斗,,公司不斷拓展業(yè)務(wù)范圍和知識的邊界,,穩(wěn)步發(fā)展。專業(yè)的銷售和技術(shù)服務(wù)工程師,,結(jié)合*的產(chǎn)品和誠實(shí)守信的經(jīng)營理念,,贏得廣大客戶的認(rèn)可。特別在不斷涌現(xiàn)的新材料和技術(shù)方面,,我們緊跟步伐,,不斷開拓,竭誠為廣大客戶提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品和服務(wù),!

我們的愿景是通過提供以科學(xué)為基礎(chǔ)的高品質(zhì),、新技術(shù)的產(chǎn)品和服務(wù),成為*實(shí)驗(yàn)室的專業(yè)合作伙伴,,此正是我們的英文名稱“Labmates”之寓意,。我們真誠感謝客戶的支持,期待分享一個(gè)成功的未來,。





分光測色儀,,鐵電測試儀,,光學(xué)輪廓儀,原子力顯微鏡,,光譜儀,,測配色系統(tǒng)等實(shí)驗(yàn)室儀器和設(shè)備

Nikalyte NL-Cube物理氣相沉積系統(tǒng)是一個(gè)緊湊且靈活的PVD(物理氣相沉積)系統(tǒng),具備薄膜,、納米顆粒和合金沉積能力,。該系統(tǒng)有兩種型號:375型(最多可容納五個(gè)源,基底直徑可達(dá)四英寸)和300型(最多可容納四個(gè)源,,基底直徑可達(dá)兩英寸),。由于其體積相對較小,真空腔體的抽真空速度較快,,周轉(zhuǎn)時(shí)間約為30分鐘,。

Nikalyte NL-Cube物理氣相沉積系統(tǒng)


Nikalyte NL-Cube物理氣相沉積系統(tǒng)可兼容多種源,包括磁控濺射源,、納米顆粒源,、小型電子束源、熱舟源以及原子和離子源,。系統(tǒng)可以配置為向上濺射或向下濺射模式,。此外,還提供基底旋轉(zhuǎn),、偏壓以及最高可達(dá)800的加熱選項(xiàng),。

真空腔體在英國制造,采用高質(zhì)量的304不銹鋼材質(zhì),,并配有輕質(zhì)鋁制門,。它安裝在一個(gè)系統(tǒng)機(jī)架上,該機(jī)架包含控制系統(tǒng),、電源和真空泵,。整個(gè)系統(tǒng)配備輪子以便移動,并在定位后可鎖定腳部以固定位置,。

集成的PC和多功能Spectrum軟件提供了無縫的用戶體驗(yàn),,使客戶能夠遠(yuǎn)程控制該系統(tǒng)并運(yùn)行復(fù)雜的工藝配方。

Nikalyte NL-Cube物理氣相沉積系統(tǒng)


 

關(guān)鍵特性:

·         可用的源包括磁控濺射源,、納米粒子源,、小型電子束源、熱舟蒸發(fā)源,、原子源和離子源,。

·         提供向上濺射或向下濺射配置。

·         提供旋轉(zhuǎn),、偏壓以及高達(dá)800℃的加熱選項(xiàng),。

·         周轉(zhuǎn)時(shí)間約為45分鐘,。

·         真空度可達(dá)5×10??托。

·         系統(tǒng)機(jī)架包含控制系統(tǒng),、電源和泵,。

·         集成的個(gè)人電腦配備Spectrum軟件,可實(shí)現(xiàn)自動化過程控制,、復(fù)雜配方和數(shù)據(jù)記錄。

 

The Cube系統(tǒng)配置:

項(xiàng)目

Cube    300

Cube    375

沉積腔尺寸

300×300×300   mm

375×375×375   mm

基礎(chǔ)真空度

<1×10??

<5×10??

濺射方向

向下濺射/向上濺射

向下濺射/向上濺射

樣品臺

2英寸晶圓,,20轉(zhuǎn)/分鐘旋轉(zhuǎn),,射頻/直流偏壓和加熱至400℃

4英寸晶圓,20轉(zhuǎn)/分鐘旋轉(zhuǎn),,射頻/直流偏壓和加熱至800℃

抽真空系統(tǒng)

80/秒渦輪分子泵配7.2立方米/小時(shí)干式前級泵

300/秒渦輪分子泵配7.2立方米/小時(shí)干式前級泵

閥門

手動/自動閥門,、快門、直線驅(qū)動和抽真空擋板閥

手動/自動閥門,、快門,、直線驅(qū)動和抽真空擋板閥

控制軟件

配方驅(qū)動過程、電源控制和數(shù)據(jù)記錄

配方驅(qū)動過程,、電源控制和數(shù)據(jù)記錄

原位監(jiān)測

石英晶體微量天平用于過程監(jiān)測和終點(diǎn)檢測

石英晶體微量天平用于過程監(jiān)測和終點(diǎn)檢測

源端口

最多4個(gè)沉積源

最多5個(gè)沉積源

源類型

納米粒子源,、磁控濺射源、小型電子束蒸發(fā)源,、熱舟蒸發(fā)源,、K型離子源、射頻原子源

納米粒子源,、磁控濺射源,、小型電子束蒸發(fā)源、熱舟蒸發(fā)源,、K型離子源,、射頻原子源

涂層均勻性

±2%(樣品旋轉(zhuǎn)時(shí))

 




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