1. 產(chǎn)品概述：

12英寸槽式清洗設(shè)備Pinnacle300平臺(tái)適用于集成電路,、功率半導(dǎo)體、襯底材料,、硅基微顯示領(lǐng)域的清洗工藝,。該機(jī)臺(tái)主要由傳輸模塊、工藝模塊,、藥液供給系統(tǒng),、電源柜等組成。傳輸模塊將晶圓傳送到位置,，可同時(shí)傳送50片,，工藝模塊用于清洗和蝕刻，藥液供給模塊用于高精度藥液配比,、加熱,、供給、濃度監(jiān)測(cè),。

2. 設(shè)備應(yīng)用：

晶圓尺寸

12英寸

適用材料

光阻,、單晶硅、多晶硅,、氧化硅,、氮化硅、金屬膜,、金屬氧化物

適用工藝

爐前,、刻蝕/拋光后清洗、光阻,、金屬氧化物,、氮化物去除、控?fù)跗厥?/span>

適用領(lǐng)域

集成電路,、功率半導(dǎo)體,、襯底材料、硅基微顯示

3. 特色參數(shù)：

清洗槽數(shù)量：通常具有多個(gè)清洗槽,，以實(shí)現(xiàn)不同的清洗工藝步驟,，例如可能有多個(gè)化學(xué)清洗槽,、純水沖洗槽等。

 12英寸槽式清洗設(shè)備清洗方式：可支持多種清洗方式,，如化學(xué)清洗、兆聲清洗等,，以有效去除晶圓表面的各種污染物,。

 溫度控制：具備精確的溫度控制能力，可在一定溫度范圍內(nèi)對(duì)清洗液或工藝過(guò)程進(jìn)行溫度調(diào)節(jié),，滿(mǎn)足不同清洗工藝的需求,。

 工藝時(shí)間：能夠?qū)γ總€(gè)清洗步驟的時(shí)間進(jìn)行精確設(shè)定和控制，確保清洗效果的一致性,。

 晶圓尺寸：適用于 12 英寸晶圓清洗,，能很好地滿(mǎn)足大尺寸晶圓的清洗要求。

 自動(dòng)化程度：具有較高的自動(dòng)化水平,，可實(shí)現(xiàn)晶圓的自動(dòng)傳輸,、定位和清洗過(guò)程的自動(dòng)控制，提高生產(chǎn)效率和減少人為操作誤差

4. 設(shè)備特點(diǎn)

可配備多藥液工藝槽,，支持DIO?等附屬功能

軟件量身定制,，具備快速更新能力

較高的溫度控制穩(wěn)定性

超高的補(bǔ)水精度

精準(zhǔn)的蝕刻速率控制

優(yōu)秀的干燥效果