1. 產(chǎn)品概述：

英思特晶片清洗機(jī)是用于晶片清洗的專業(yè)設(shè)備，旨在去除晶片表面的各類雜質(zhì),，如顆粒,、有機(jī)物、金屬離子等,，以滿足半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域?qū)邼崈舳鹊膰?yán)格要求,。它通常由設(shè)備主體、清洗槽（可能有多種不同功能的清洗槽,，如化學(xué)清洗槽,、純水沖洗槽等）、漂洗槽,、干燥系統(tǒng),、電氣控制系統(tǒng)等多個部分構(gòu)成，通過一系列精心設(shè)計的清洗工藝步驟,，實現(xiàn)對晶片的高效清潔,。

2. 設(shè)備應(yīng)用：

· 半導(dǎo)體制造：半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)過程中，晶片清洗是關(guān)鍵環(huán)節(jié),。該清洗機(jī)廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體晶圓制造,，如在光刻、刻蝕,、鍍膜等工藝前,，對晶圓進(jìn)行清洗，確保晶圓表面潔凈度,，提升芯片性能,、良率和可靠性，例如去除晶圓表面微小顆粒和金屬雜質(zhì),，防止其在后續(xù)工藝中導(dǎo)致芯片缺陷或性能下降 145,。

· 光伏產(chǎn)業(yè)：用于光伏電池生產(chǎn)中硅片的清洗，通過有效清洗硅片表面污染物,，提高硅片光電轉(zhuǎn)換效率,，保障太陽能電池的性能和質(zhì)量

3. 設(shè)備特點：

1、設(shè)備主體,、電氣控制部分,、化學(xué)工藝槽等；并提供與廠務(wù)供電,、供氣,、供水、排廢水,、排氣系統(tǒng)配套的接口等,。

2,、設(shè)備主體使用德國進(jìn)口瓷白10mm PP板材，堅固耐用,，雙層防漏,，SUS304+阻燃PVC德國進(jìn)口板（不銹鋼板）組合而成，防止外殼銹蝕,。

3,、設(shè)備安裝左右對開透明PVC門，分隔與保護(hù)人員安全,，邊緣處設(shè)備密封條,，安全門進(jìn)風(fēng)處裝有過濾網(wǎng)；模組化設(shè)計,，腐蝕槽,、純水沖洗槽放置在一個統(tǒng)一的承漏底盤中。底盤采用滿焊接工藝加工而成,，杜絕機(jī)臺的滲漏危險,。

4、位于設(shè)備下部,，所有工藝槽,、管路、閥門部分均有清晰的標(biāo)簽注明,；藥液管路采用PFA管,，純水管路采用PFA管，化學(xué)腐蝕槽廢液,、沖洗廢水通過用管道排放,。

5、電器控制,、氣路控制和工藝槽控制部份在設(shè)備后部單獨電器控制柜,，電氣元件有充分的防護(hù)以免酸霧腐蝕以保障設(shè)備性能運行穩(wěn)定可靠；所有可能與酸霧接觸的電氣及線路均PFA防腐隔絕處理,，電氣柜CDA/N2充氣保護(hù)其中的電器控制元件,。

6、機(jī)臺部配備有PP純水槍和PP氮各二只分置于兩側(cè),，水槍滴漏活水設(shè)計,，方便操作員手工清洗槽體或工件。

4. 產(chǎn)品參數(shù)（以部分為例）：

以下參數(shù)僅供參考,，實際參數(shù)可能因定制化需求和設(shè)備型號而有所不同,。

· 清洗槽數(shù)量和類型：例如有多個不同功能清洗槽,，如化學(xué)清洗槽,、純水沖洗槽等,，數(shù)量可能為 3 - 5 個或更多。

· 適用晶片尺寸：如 2 寸,、4 寸,、6 寸、8 寸等,，或可兼容多種尺寸,。

· 溫度控制范圍：根據(jù)不同清洗工藝要求，溫度控制范圍可能在一定區(qū)間內(nèi)可調(diào),，如 30 - 150℃,。

· 清洗時間：每個清洗步驟的時間可根據(jù)工藝設(shè)定，例如 1 - 30 分鐘不等,。

· 溶液循環(huán)系統(tǒng)：具備高效的溶液循環(huán)和過濾系統(tǒng),，以保證清洗溶液的清潔度和有效性。

· 設(shè)備外形尺寸：如長度 2 - 5 米,、寬度 1 - 2 米,、高度 1.5 - 2.5 米。

· 電源要求：通常為三相交流電,，如電壓 380V,，頻率 50Hz，整機(jī)額定電功率根據(jù)設(shè)備配置而定,，可能在 10 - 50kW 之間,。

· 其他參數(shù)：還可能包括純水流量、壓縮空氣壓力和流量,、排廢管道尺寸等相關(guān)參數(shù),。