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NANO 36™ 熱蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
產(chǎn)品標(biāo)簽

PVD熱蒸發(fā)薄膜沉積

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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司是集半導(dǎo)體儀器裝備代理及技術(shù)服務(wù)的高新技術(shù)企業(yè)。

致力于提供半導(dǎo)體前道制程工藝裝備,、后道封裝裝備,、半導(dǎo)體分析測(cè)試設(shè)備、半導(dǎo)體光電測(cè)試儀表及相關(guān)儀器裝備維護(hù),、保養(yǎng),、售后技術(shù)支持及實(shí)驗(yàn)室整體服務(wù)。

公司目前已授實(shí)用新型權(quán)利 29 項(xiàng),,軟件著作權(quán) 14 項(xiàng),,是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè),、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè),。










冷熱臺(tái),快速退火爐,,光刻機(jī),,納米壓印、磁控濺射,,電子束蒸發(fā)

NANO 36™
經(jīng)濟(jì)實(shí)惠的緊湊型濺射或熱蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)

Kurt J. Lesker Company® NANO 36™ 是我們優(yōu)化的入門級(jí)沉積系統(tǒng),。我們的腔室設(shè)計(jì)特別適合手套箱集成。NANO 36 具有更高的功能和更小的占地面積,,提供了實(shí)惠的價(jià)格點(diǎn),,同時(shí)保持了您期望從 KJLC 獲得的質(zhì)量。

NANO 36 與以下沉積技術(shù)兼容:

  • 熱蒸發(fā)(最多四個(gè) 2 英寸船組件),。

  • Torus® 磁控濺射源(最多三個(gè) 2“ 或 3” 源),。

  • 1cc 或 10cc LTE 有機(jī)沉積源(最多四個(gè))。

  • 兩個(gè)熱源和兩個(gè) LTE 源的組合,。

  • 可根據(jù)要求提供定制配置,。

KJLC的軟件允許用戶友好的配方創(chuàng)建,以及一個(gè)可靠,、不間斷的處理模塊,,無論計(jì)算機(jī)用戶界面的狀態(tài)如何,都可以完成過程,。有關(guān)此直觀,、且可靠的軟件包的更多信息,請(qǐng)參閱“軟件”選項(xiàng)卡,。




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