1. 產(chǎn)品概述：

KaRoll RTR1C 是一種先進(jìn)的卷對卷薄膜濺射系統(tǒng)，主要用于在柔性基底材料上連續(xù)地進(jìn)行薄膜濺射沉積,。它能夠?qū)⒏鞣N金屬,、合金或化合物材料以精確的厚度和均勻性沉積在卷狀的基底上,，如聚合物薄膜、金屬箔等,。該系統(tǒng)通常由放卷裝置,、收卷裝置、真空腔室,、濺射源,、鍍膜控制系統(tǒng)等部分組成。在真空環(huán)境下,，通過濺射源產(chǎn)生的高能粒子撞擊靶材,，使靶材原子濺射出來并沉積在移動的基底上，從而形成連續(xù)的薄膜,。

2. 設(shè)備應(yīng)用：

· 電子領(lǐng)域：可用于制造柔性電子器件,，如柔性顯示屏的電極、電路等,。例如在可折疊手機(jī)的屏幕制造中,，通過該系統(tǒng)濺射導(dǎo)電薄膜，實(shí)現(xiàn)屏幕的導(dǎo)電和信號傳輸功能,。

· 太陽能領(lǐng)域：用于制備柔性太陽能電池的薄膜電極或光吸收層等,。有助于提高太陽能電池的光電轉(zhuǎn)換效率和柔韌性，使其更適用于不同的應(yīng)用場景,，如便攜式太陽能充電設(shè)備,、太陽能屋頂?shù)取?/span>

· 光學(xué)領(lǐng)域：可以生產(chǎn)光學(xué)薄膜，如增透膜,、反射膜等,，應(yīng)用于柔性光學(xué)元件、可穿戴光學(xué)設(shè)備等,。比如在智能眼鏡的鏡片上鍍制特定的光學(xué)薄膜,，改善其光學(xué)性能。

· 包裝領(lǐng)域：為一些特殊的包裝材料提供功能性的薄膜涂層,，如阻隔膜,、防靜電膜等，提升包裝材料的性能和附加值,。例如在食品包裝中,，使用該系統(tǒng)鍍制阻隔膜，提高包裝對氧氣,、水分等的阻隔性能,，延長食品的保質(zhì)期。

3. 設(shè)備特點(diǎn)：

· 高精度鍍膜：具備精確的鍍膜控制技術(shù),，能夠?qū)崿F(xiàn)薄膜厚度的高精度控制,，保證薄膜性能的一致性和穩(wěn)定性,。例如，可將薄膜厚度的誤差控制在極小范圍內(nèi),，滿足對薄膜厚度精度要求較高的應(yīng)用場景,。

· 高生產(chǎn)效率：卷對卷的連續(xù)生產(chǎn)方式，大大提高了生產(chǎn)效率,，能夠?qū)崿F(xiàn)大規(guī)模的快速鍍膜生產(chǎn),。與傳統(tǒng)的間歇式鍍膜方式相比，在相同時間內(nèi)可以處理更多的基底材料,，降低生產(chǎn)成本,。

· 良好的膜層均勻性：通過優(yōu)化的濺射源設(shè)計(jì)和先進(jìn)的鍍膜工藝，確保在整個基底寬度和長度方向上都能獲得均勻的薄膜沉積,。這對于需要大面積均勻薄膜的應(yīng)用非常重要,，如大面積的柔性顯示屏或太陽能電池板,。

· 適用于多種材料：可以濺射多種不同的材料,，包括常見的金屬（如銅、鋁,、銀等）,、合金以及一些化合物材料，滿足不同應(yīng)用對薄膜材料的需求,。能夠根據(jù)客戶的具體要求,，選擇合適的靶材進(jìn)行鍍膜，提供多樣化的薄膜性能,。

· 靈活的工藝參數(shù)調(diào)節(jié)：允許用戶根據(jù)不同的產(chǎn)品需求,，靈活地調(diào)整鍍膜工藝參數(shù),，如濺射功率,、沉積速率、基底移動速度等,。這使得設(shè)備能夠適應(yīng)不同類型的基底材料和薄膜應(yīng)用,，為研發(fā)和生產(chǎn)提供了更大的靈活性。

· 可靠的真空系統(tǒng)：擁有高性能的真空系統(tǒng),，確保在鍍膜過程中維持穩(wěn)定的高真空環(huán)境,，減少雜質(zhì)和氣體對薄膜質(zhì)量的影響?？煽康恼婵障到y(tǒng)有助于提高薄膜的純度和質(zhì)量,，降低薄膜中的缺陷密度。

4. 產(chǎn)品參數(shù)（以部分為例）：

以下參數(shù)僅供參考,，實(shí)際參數(shù)可能因定制化需求和設(shè)備型號而有所不同,。

· 基底寬度：常見的基底寬度可能在 100 毫米到 1000 毫米之間,，具體取決于設(shè)備型號和應(yīng)用需求。

· 最大卷徑：例如,，最大卷徑可能達(dá)到 500 毫米或更大,，以適應(yīng)不同規(guī)模的卷狀基底材料。

· 濺射源數(shù)量和類型：可能配備多個濺射源,，如直流濺射源,、射頻濺射源等，數(shù)量可能為 2 - 8 個不等,，具體根據(jù)鍍膜工藝和產(chǎn)能要求確定,。

· 鍍膜速度：鍍膜速度根據(jù)不同的材料和工藝要求有所變化，一般在每分鐘幾米到幾十米的范圍內(nèi),。

· 真空度：能夠達(dá)到較高的真空度,，如 10^-3 帕或更高，以保證濺射過程的順利進(jìn)行和薄膜質(zhì)量,。

· 設(shè)備尺寸：設(shè)備的外形尺寸根據(jù)其設(shè)計(jì)和產(chǎn)能有所不同,，例如長度可能在 3 - 10 米，寬度在 1.5 - 3 米,，高度在 2 - 3 米,。

· 電源要求：通常需要三相交流電，電壓如 380V,，頻率 50Hz,，整機(jī)額定功率根據(jù)設(shè)備配置而定，可能在 20 - 100kW 之間,。