1 產(chǎn)品概述:

  物理氣相沉積（Physical Vapor Deposition,，簡稱PVD）平臺是一種利用物理方式將材料從源頭蒸發(fā)或濺射到基底表面進(jìn)行薄膜制備的先進(jìn)設(shè)備,。該技術(shù)通過高速粒子的撞擊，將材料從固態(tài)或液態(tài)轉(zhuǎn)化為氣態(tài),，并沉積在基底上形成薄膜,。PVD平臺廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光學(xué),、電子,、航空航天、生物醫(yī)學(xué)等多個領(lǐng)域,，是材料科學(xué)和現(xiàn)代工業(yè)中關(guān)鍵工藝設(shè)備,。

2 設(shè)備用途：

  半導(dǎo)體行業(yè)：在半導(dǎo)體材料表面沉積一層或多層薄膜，以制備晶體管,、集成電路等半導(dǎo)體器件,，提高器件性能和穩(wěn)定性。

  光學(xué)領(lǐng)域：在光學(xué)元件表面沉積光學(xué)薄膜,，改變其光學(xué)性能,，如反射率、透過率和折射率等,，滿足特定光學(xué)需求,。

  航空航天：在航空航天部件表面沉積耐磨、耐腐蝕,、耐高溫的薄膜,，提高部件的使用壽命和安全性。

  生物醫(yī)學(xué)：在醫(yī)療器械表面沉積生物相容性好的薄膜,，提高器械的生物相容性和耐腐蝕性,。

  數(shù)據(jù)存儲：在硬盤、光盤等數(shù)據(jù)存儲介質(zhì)表面沉積薄膜,，提高存儲密度和讀寫速度,。

3 設(shè)備特點

1.    高精度與高質(zhì)量：PVD平臺能夠制備出高精度、高質(zhì)量的薄膜,，滿足各種精密加工需求,。      

2.    多功能性：支持多種鍍膜方式，如蒸發(fā)鍍膜,、濺射鍍膜,、脈沖激光沉積等，滿足不同材料的鍍膜需求。

3.    高靈活性：設(shè)備設(shè)計靈活,，可根據(jù)具體需求進(jìn)行定制,，適應(yīng)不同尺寸和形狀的基底。

4.    高真空環(huán)境：設(shè)備在高度真空環(huán)境下工作,，減少雜質(zhì)污染,，保證薄膜的純凈度和質(zhì)量。

4 設(shè)備參數(shù)

   擁有較大的腔室,，基片臺尺寸為 500mm×700mm,，可容納多達(dá) 14 個源，能適應(yīng)多種物理氣相沉積工藝,，也可配置以達(dá)到超高真空（UHV）環(huán)境,。沉積源選項豐富：

   濺射方面，提供射頻（RF）,、直流（DC）,、脈沖直流（Pulsed DC）、高功率脈沖磁控濺射（HIPIMS）和反應(yīng)濺射等模式,，并有圓形,、線性和圓柱形陰可供選擇。