1 產(chǎn)品概述:

   物理氣相沉積（PVD）平臺是一種在真空環(huán)境中，通過物理方法將固體或液體材料源表面氣化成氣態(tài)原子,、分子或離子,，并沉積在基體表面形成具有特定功能的薄膜的設(shè)備。PVD平臺通常包括真空系統(tǒng),、加熱系統(tǒng),、氣體控制系統(tǒng)、沉積室,、基體支撐及驅(qū)動系統(tǒng)等部分,。AE物理氣相沉積平臺可能集成了這些關(guān)鍵技術(shù)組件，以提供高效,、精確的薄膜沉積解決方案,。

2 設(shè)備用途：

  AE物理氣相沉積平臺的主要用途包括：

1. 表面改性：通過沉積耐磨、耐腐蝕,、導(dǎo)電,、絕緣、潤滑等特性的薄膜,，改善基體材料的表面性能,。

2. 功能薄膜制備：制備具有光導(dǎo),、壓電、磁性,、超導(dǎo)等功能的薄膜,，應(yīng)用于電子、光學(xué),、傳感器等領(lǐng)域,。

3. 裝飾和保護：在高檔手表、珠寶,、建筑材料等表面沉積金屬或合金薄膜,，提供美觀和防腐蝕保護。

4. 微納加工：在微電子,、半導(dǎo)體,、納米技術(shù)等領(lǐng)域，制備高精度,、高質(zhì)量的薄膜結(jié)構(gòu),。

3 設(shè)備特點

  高精度和均勻性：通過精確控制沉積參數(shù)，如溫度,、壓力,、氣體流量等，實現(xiàn)薄膜的高精度和均勻性沉積,。

  多功能性：支持多種PVD技術(shù),，如真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜,、真空離子鍍膜等,，滿足不同應(yīng)用需求,。

  環(huán)保和節(jié)能：在真空環(huán)境中進行沉積,，減少環(huán)境污染；采用高效能源利用技術(shù),，降低能耗,。

  自動化和智能化：集成計算機控制系統(tǒng)，實現(xiàn)自動化操作和智能化監(jiān)控,，提高生產(chǎn)效率和產(chǎn)品質(zhì)量,。

Angstrom Engineering 的 Amod PVD 平臺是一款物理氣相沉積系統(tǒng)，以下是其一些技術(shù)特點和應(yīng)用：
技術(shù)參數(shù)和特點：

• 尺寸：可生產(chǎn)100-1200mm基板,。

• 鍍膜源：濺射（射頻,、直流、脈沖直流,、HIPIMS和反應(yīng)式）,、熱蒸發(fā)（使用各種舟形,、絲狀和坩堝加熱器）、電子束蒸發(fā)（提供多種源功率和電源選項）,。

• 等離子和離子束處理：使用一系列離子源進行清洗和薄膜增強,，包括輝光放電等離子清洗。

緊湊的 600 mm x 1000 mm 系統(tǒng)占用空間,。渦輪分子泵提供高真空,。QCM傳感器經(jīng)過精心隔離，以確保不會受到相鄰源材料的干擾,。包括全系統(tǒng)培訓(xùn),。
特征基于配方的高多層控制。順序沉積或共同沉積,。夾具支持高達 100mm x 100mm 的基材,。準備進行手套箱集成。源配置可輕松安裝大 100 mm x 100 mm 的基板尺寸,。腔室可容納 2 或 4 個熱阻源,。