1.產(chǎn)品概述：

高真空電子束蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)主要由蒸發(fā)室,、主抽過渡管路,、旋轉基片架、光加熱系統(tǒng),、電子槍及電源,、石英晶體振蕩膜厚監(jiān)控儀、工作氣路,、抽氣系統(tǒng),、控制系統(tǒng)、安裝機臺等部分組成,，體現(xiàn)立方整體外觀,，適用于超凈間間壁隔離安裝，操作面板一端處在相對要求較高超凈環(huán)境,，其余部分（含低溫泵抽系統(tǒng)）處在相對要求較低超凈環(huán)境,。

2.設備用途：

高真空電子束蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)配有一套電子槍及電源，可滿足在Al,，Ni,，Ag，Pt,，Pd,，Mo,Cr和Ti等多種金屬和介質膜基片上均勻沉積多層膜的需要。

該系統(tǒng)的主要功能是利用電子束蒸發(fā)技術在基片上沉積各種薄膜材料,。

3.產(chǎn)品優(yōu)勢：

限真空度高：能夠達到≤6.×10^-5 Pa,，這有助于減少薄膜制備過程中的雜質和氣體干擾，提高薄膜質量,。

電子槍功率可調范圍大：電子槍功率 0—10kW 可調,，可以滿足不同材料蒸發(fā)和薄膜沉積的需求，適應多種工藝條件,。

配備水冷式坩堝：4 穴坩堝,，每個容量不少于一定數(shù)值（具體容量可能因型號而有所不同），可容納多種材料同時蒸發(fā)。

樣品臺性能優(yōu)良：可容納較大尺寸的樣品,，并且能夠加熱至較高溫度（具體溫度可能因型號而有所不同）,，轉速可在一定范圍內調節(jié)，滿足不同實驗需求,。

具備精確的膜厚監(jiān)測儀：彩色 LCD 顯示屏,，提供英文或中文版本，設有“quick setup”（快速設定）菜單,、多個區(qū)分上下文按鈕以及簡便的參數(shù)設定旋鈕,，易于設定和操作，且測量速率和分辨率較高,，存儲容量大,，能夠使用單傳感器或多傳感器監(jiān)控源材料，提供精確的源分布監(jiān)控,，有利于實現(xiàn)對薄膜沉積過程的精確控制和質量監(jiān)測,。

包含金屬蒸發(fā)源組件：可提供多套蒸發(fā)電源，大輸出功率滿足一定要求（如 1.8kW,，電壓 6V,，電流×A），有助于提高薄膜沉積的效率和穩(wěn)定性,。

擁有較高的分子泵抽速：≥×l/s,，能夠快速有效地抽取真空室內的氣體，維持高真空環(huán)境,。

其他方面：可能還具有良好的設備穩(wěn)定性,、可靠性，以及完善的售后及質保服務等,。

4.產(chǎn)品參數(shù)：

真空室結構:U形開門

真空室尺寸:900×900×1100mm

限真空度:≤6.0E-5Pa

沉積源:6個40cc坩堝

樣品尺寸,，溫度:φ4英寸，26片,，高300℃

占地面積（長x寬x高）:約3.5米x3.9米x2.1米

電控描述:全自動

工藝:片內膜厚均勻性：≤±3%

特色參數(shù) :樣品尺寸及數(shù)量可定制,，工件架有拱形基片架和行星形基片架：可根據(jù)用戶基片尺寸設計工件架