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DZ350 高真空有機及熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)

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熱阻蒸發(fā)薄膜沉積

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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司是集半導(dǎo)體儀器裝備代理及技術(shù)服務(wù)的高新技術(shù)企業(yè),。

致力于提供半導(dǎo)體前道制程工藝裝備,、后道封裝裝備、半導(dǎo)體分析測試設(shè)備,、半導(dǎo)體光電測試儀表及相關(guān)儀器裝備維護,、保養(yǎng)、售后技術(shù)支持及實驗室整體服務(wù),。

公司目前已授實用新型權(quán)利 29 項,,軟件著作權(quán) 14 項,是創(chuàng)新型中小企業(yè),、科技型中小企業(yè),、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。










冷熱臺,,快速退火爐,,光刻機,納米壓印,、磁控濺射,,電子束蒸發(fā)

1.產(chǎn)品概述:

該設(shè)備主要由有機/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng),;真空測量系統(tǒng),;蒸發(fā)源,;樣品加熱控溫;電控系統(tǒng),;配氣系統(tǒng)等部分組成,。

2.產(chǎn)品應(yīng)用:

在實際應(yīng)用中,這種系統(tǒng)常用于半導(dǎo)體,、光電子,、有機電子等域,用于制備各種有機薄膜,、金屬薄膜或復(fù)合薄膜,,以滿足不同器件和材料的研究與開發(fā)需求。

3.真空室:

沈陽科學(xué)儀器的高真空有機及熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng) DZ350的詳細介紹可能因具體型號和配置而有所不同

真空室結(jié)構(gòu):U形開門

真空室尺寸:φ350×400mm

限真空度:≤6.6E-5Pa

沉積源:2個鎢舟,、2個有機源

樣品尺寸,,溫度:50mmx50mm,1片,,高300℃

占地面積(長x寬x高):約2.5米×1.2米×1.8米

電控描述:采用先進的控制系統(tǒng),,方便用戶設(shè)置和調(diào)整工藝參數(shù),如蒸發(fā)溫度,、沉積時間等,。

手動:樣品臺:擁有可旋轉(zhuǎn)或可移動的樣品臺,以便均勻沉積薄膜,。

工藝:不含工藝







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