1.產品概述：

本沉積系統(tǒng)可用于制備光學薄膜,、電學薄膜,、磁性薄膜、硬質保護薄膜和裝飾薄膜等,，工藝性能穩(wěn)定,、模塊化結構，采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng),?？赏ㄟ^直流濺射及射頻濺射方式鍍膜，能制備各種金屬,、合金薄膜,、非金屬薄膜、化合物薄膜等,?？蔀R射材料廣泛，包括各種金屬,、合物薄膜,、非金屬薄膜、化合物薄膜等,。濺射模式多樣,，例如直流濺射、反應濺射,、斜靶共濺射等,。采用計算機控制，具有液晶顯示屏、鼠標鍵盤操作,，windows 會話界面,，操作簡便，并支持自動控制和手動控制兩種方式,，可實現真空系統(tǒng)及工藝過程的全自動化操作,。

2.設備用途：

用于納米單層及多層功能膜、硬質膜,、金屬膜,、半導體膜、介質膜等新型薄膜材料的制備,?？蓮V泛應用于大院校、科研院所的薄膜材料的科研項目

3.真空室

真空室結構:六邊形側開門

真空室尺寸:φ350x370mm

限真空度:≤6.0E-4Pa

沉積源:永磁靶1套,，φ2英寸

樣品尺寸,，溫度:φ2英寸，1片,，高800℃

占地面積（長x寬x高）:約1米x1米x1.9米

電控描述:手動

工藝:片內膜厚均勻性：≤±3%