為了使電子顯微鏡中的樣品能夠成像,，它們需要有導(dǎo)電性，通過在樣品上形成導(dǎo)電層的鍍膜,，用來抑制電荷,，減少熱損傷，并提高在SEM中定位檢查所需的二次電子信號(hào),。

　　磁控濺射儀的測(cè)試原理：在封閉腔室中，放置陽極靶材,，充入氣體,，保持一定的真空度，在陽極和陰極之間加載高壓,，會(huì)發(fā)生輝光放電現(xiàn)象,。電離的氣體離子會(huì)轟擊、侵蝕陽極靶材,。靶材原子會(huì)因此向四周擴(kuò)散,，在磁力的束縛下在一定范圍內(nèi)沉積，最終在樣品表面形成一個(gè)均勻的鍍層,。這個(gè)鍍層可以抑制荷電,，減小熱損傷，提高二次電子產(chǎn)率,，從而改善掃描電鏡觀察效果,。

　　平時(shí)使用時(shí)，最常見靶材的是金靶,。正是這個(gè)原因,，離子濺射儀也俗稱“噴金儀”。然而,，為了獲得更細(xì)小的晶粒尺寸,、更薄的連續(xù)鍍層，有時(shí)候也會(huì)使用其他靶材（比如鉻,、鉑金,、銅）。

　　產(chǎn)品概覽

　　磁控濺射儀的產(chǎn)品特點(diǎn)

　　樣品腔尺寸：圓柱形，直徑150mmx高度120mm,；

　　樣品腔真空度：極限真空度：＜0.1Pa,，工作真空度：0-10Pa，恒壓控制,；

　　樣品臺(tái)：可以裝載樣品8-15個(gè),，高度可調(diào)范圍為40mm；

　　靶材：Au靶為標(biāo)配,，Pt,，Cu（選件）規(guī)格：直徑57mmx0.1mm厚；

　　濺射電流：微處理器控制,，安全互鎖,，可調(diào)，最大電流200mA,，程序化數(shù)字控制,；

　　濺射頭：低電壓平面磁控管，靶材更換快速,，環(huán)繞暗區(qū)護(hù)罩,；

　　真空計(jì)：皮拉尼真空計(jì)，測(cè)量范圍：0.01Pa-常壓,；

　　真空泵：雙級(jí)直連式高速真空泵,，抽速：66L/min，真空度：10-2Pa,；

　　厚度監(jiān)控：使用高分辨厚度監(jiān)控儀,，精確測(cè)定所鍍膜的厚度；（選配）

　　操作方式：觸摸屏控制,，手動(dòng)和自動(dòng)模式可選，操作簡便,；

　　機(jī)箱設(shè)計(jì)：長寬高40*35*50cm,，堅(jiān)固防腐蝕的箱體，帶有電源,、電壓,、電流、真空度等顯示,。