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鈣鈦礦鍍膜機(jī)

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北京鴻瑞正達(dá)科技有限公司—實驗室整體建設(shè)解決方案集成者:
鴻瑞正達(dá)主要服務(wù)于高等院校,、科研院所和研發(fā)企業(yè),專注于科研領(lǐng)域,,助力科研成果轉(zhuǎn)化,。公司提供材料研究成套設(shè)備及整套解決方案,包括:高壓科學(xué)材料,、金屬材料,、電池研發(fā)、地質(zhì)地礦材料,、脆性材料,、薄膜材料等研究領(lǐng)域的科研成套設(shè)備。

我們的服務(wù)理念是:讓科研更高效,、便捷,。

 

 

 

 

 

 

 

 

實驗室設(shè)備,材料科學(xué),質(zhì)譜儀,,電化學(xué),,電池,催化


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產(chǎn)品簡介: 鈣鈦礦鍍膜機(jī)主要由有機(jī)/金屬源蒸發(fā)沉積室,、真空排氣系統(tǒng),、真空測量系統(tǒng)、蒸發(fā)源,、樣品加 熱控溫,、電控系統(tǒng)、配氣系統(tǒng)等部分組成,。 適用于制備金屬單質(zhì)薄膜,、半導(dǎo)體薄膜、氧化物薄膜,、有機(jī)薄 膜等,, 可用于科研單位進(jìn)行新材料、新工藝薄膜研究工作,, 也可用于大批量生產(chǎn)前的試驗工作,, 廣泛應(yīng)用 于有機(jī)、無機(jī),、鈣鈦礦薄膜太陽能電池,、 OLED 等研究領(lǐng)域。鈣鈦礦鍍膜機(jī)工作過程中樣品位于真空室上 方,,蒸發(fā)源位于真空室下方,,向上蒸發(fā)鍍膜,且蒸發(fā)源帶有擋板裝置,,防止蒸發(fā)源被污染,。


產(chǎn)品名稱

鈣鈦礦鍍膜機(jī)

主要特點

1、樣品位于真空室上方,,蒸發(fā)源位于真空室下方,,向上蒸發(fā)鍍膜,且蒸發(fā)源帶有擋板裝置,。


2,、設(shè)有烘烤加熱功能,可在鍍膜過程中加熱樣品,, 烘烤加熱溫度可達(dá) 180℃,。


3、設(shè)有斷水,、斷電連鎖保護(hù)報警裝置及防誤操作保護(hù)報警裝置。

技術(shù)參數(shù)

1、鍍膜室:不銹鋼材料,,采用方形前后開門結(jié)構(gòu),,內(nèi)帶有防污板, 腔室尺寸約為 600mm×


450mm×450mm

2,、真空排氣系統(tǒng):采用分子泵+機(jī)械泵系統(tǒng)


3,、真空度:鍍膜室極限真空≤6×10-4Pa


4、系統(tǒng)漏率:≤ 1×10-7Pa


5,、蒸發(fā)源:安裝在真空室的下底上,; 有機(jī)蒸發(fā)源 4 個、 容積 5ml ,,2 臺蒸發(fā)電源,,可測溫、





控溫,, 加熱溫度 400℃,, 功率 0.5KW;無機(jī)蒸發(fā)源 4 套,、 容積 5ml ,,2 臺蒸發(fā)電

源, 加熱電流 300A ,,功率 3.2KW,;蒸發(fā)源擋板采用自動磁力控制方式控制其開



6、樣品架:安裝在真空室的上蓋上,, 可放置 ?120mm 的樣品,、載玻片, 旋轉(zhuǎn)速度 0-30rpm


7,、加熱溫度: RT-180℃,,測溫、控溫


8,、膜厚控制儀:石英晶振膜厚控制儀,, 膜厚測量范圍 0-999999?




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