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連續(xù)式多腔磁控濺鍍?cè)O(shè)備

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 北京瑞科中儀科技有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號(hào)
  • 產(chǎn)地
  • 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
  • 更新時(shí)間 2024/7/10 13:16:11
  • 訪問次數(shù) 499

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北京瑞科中儀科技有限公司專注半導(dǎo)體材料研究分析設(shè)備的研發(fā)和應(yīng)用。專業(yè)的團(tuán)隊(duì),,專精的服務(wù),,提供理想的解決方案。

我們長期專注于半導(dǎo)體材料研究與分析設(shè)備的經(jīng)銷和代理,,為高校,、企業(yè)科研工作者提供專業(yè)的分析解決方案。以專業(yè)技能為導(dǎo)向,,用科技來解決用戶在科研中遇到的難題,。專業(yè)的技術(shù)工程師和科研工作者進(jìn)行現(xiàn)場演示和技術(shù)交流,,打消顧慮,彼此協(xié)作,,為我國的科研領(lǐng)域譜寫新篇章,。

北京瑞科中儀科技有限公司長期代理銷售供應(yīng)多種分子材料的研究分析設(shè)備,其中包括但不限于掃描電子顯微鏡,、感應(yīng)耦合等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)、離子束刻蝕機(jī),、等離子清洗機(jī),、物理氣相沉積系統(tǒng)以及各品牌的光學(xué)顯微鏡以及實(shí)驗(yàn)室設(shè)備儀器。

客戶至上的服務(wù)理念,,以人為本的企業(yè)文化,,我們始終為用戶提供專業(yè)的服務(wù)!

合作丨共贏,,選擇我們,,選擇未來!

 

半導(dǎo)體材料分析,材料刻蝕

應(yīng)用領(lǐng)域 環(huán)保,化工,電子

連續(xù)式多腔磁控濺鍍?cè)O(shè)備 In-Line的濺鍍沉積是指基板在一個(gè)或多個(gè)濺鍍陰極下方以線性的方式通過以獲取其薄膜沉積,。其基板沿著軌道穿過各個(gè)真空腔內(nèi),。

連續(xù)式多腔磁控濺鍍?cè)O(shè)備其電漿產(chǎn)生器有許多種類並且每一種都可使用,例如射頻電源,、直流電源或脈衝直流電源,。 還可以容納諸如濺鍍蝕刻、基板加熱或電漿清洗之類的可選步驟,,並且具有完整的儀器和控制裝置可用於金屬導(dǎo)電薄膜,、電介質(zhì)、光學(xué)薄膜或其他濺鍍應(yīng)用,。

SYSKEY的In-Line濺鍍沉積可精確控制其濺鍍製程條件,,從而為客戶提供優(yōu)質(zhì)的薄膜。

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應(yīng)用領(lǐng)域腔體
  • 奈米研究技術(shù),。

  • 產(chǎn)品質(zhì)量控制和質(zhì)量檢查,。

  • 材料研究

  • 太陽能電池,。

  • 觸碰螢?zāi)?/span>,。

  • TFT-LCD

  • 氧化物,、氮化物和金屬材料的研究,。

  • 客製化的腔體尺寸取決於基板尺寸和

    其應(yīng)用

  • 具有顯示功能的全領(lǐng)域真空計(jì)和用

    於壓力控制的Baratron真空計(jì),。

  • 腔體的極限真空度約為10-7Torr,。



配置和優(yōu)點(diǎn)選件
  • 客製化基板尺寸最大為1100 x 1300 mm2(玻璃)。

  • 優(yōu)異的薄膜均勻度小於±5%

  • 高沉積速率≥ 250nm/min和高效率陰極,。

  • 濺鍍功率:射頻 5kW,,直流或脈衝直流20kW。

  • 具有高均勻的氣體分佈的流量控制器,。

  • 穩(wěn)定的溫度控制,,可將基板加熱到400°C

  • 水平或垂直濺鍍,。

  • 基板載臺(tái)回流線,。

  • 自動(dòng)傳送機(jī)構(gòu)

  • OES,、RGA或製程監(jiān)控的額外備用端口,。





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