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化工儀器網>產品展廳>分析儀器>X射線儀器>X射線衍射儀(XRD)>XRD衍射儀 臺式桌面型X射線衍射儀

XRD衍射儀 臺式桌面型X射線衍射儀

參考價298000-358000/件
具體成交價以合同協(xié)議為準

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      公司是一家從事精密檢測儀器設備的生產銷售,售后培訓,,維修維護,,并提供配套應用分析及實驗室構建方案的一家公司。公司主營產品有:RoHS分析儀,、X-RAY檢測設備,,X射線數字成像系統(tǒng),,鋰電池檢測設備,鍍層測厚儀,、合金分析儀,、RoHS2.0檢測儀、RoHS2.0測試儀,、膜厚儀,、手持式合金分析儀、直讀光譜儀,、高效液相色譜儀,、GC-MS氣相色譜質譜聯用儀、ICP電感耦合光譜儀,、AAS原子吸收分光光度計等,并針對重金屬環(huán)保檢測,、有害物質分析,、材料成分析提供整套實驗室構建、耗材,、培訓等一站式解決方案,。為客戶提供更加*產品和更加滿意的服務,同時為電子,、電器,、珠寶、玩具,、食品,、建材、冶金,、地礦,、塑料、石油,、化工,、醫(yī)藥等眾多行業(yè)提供更為完善的行業(yè)整體解決方案,從而推動中國經濟快速全球化,。

    公司擁有完善的銷售務網絡,,在全國設立多個服務網點和營銷代理,擁有強大的服務支撐體系,。公司成立客戶服務中心,,提供24小時免費服務熱線。公司與國外多家品牌建立合作關系,,產品品種齊全,,為各行業(yè)提供的分析解決方案和儀器設備,。作為一家科技創(chuàng)新型企業(yè),擁有XRF行業(yè)的軟件研發(fā)工程師和硬件研發(fā)工程師,,平均從業(yè)經驗十年以上,。






光譜,色譜,,質譜,,ROHS檢測儀,X-ray無損分析設備,,電鍍層厚度測試儀,,材料成分分析儀,手持式光譜儀等,。

發(fā)生器功率 600WkW 價格區(qū)間 20萬-50萬
角度偏差 <±0.02° 儀器種類 探測器及其他設備
應用領域 地礦,能源,電子/電池,制藥/生物制藥,綜合 重復性 正比計數探測器,、SDD探測器
最小步進角度 -3° - +150°

臺式桌面型X射線衍射儀X射線衍射儀在X射線光束通過索拉狹縫、發(fā)散狹縫照射在樣品上,,樣品臺位于測角儀中心,,基于反射幾何θs-θd,X射線光束在滿足布拉格定律時,,在特定的方向上發(fā)生衍射現象,,經過防散射狹縫、索拉狹縫,、接收狹縫到達X射線探測器上,,最終經過數據處理系統(tǒng)在分析軟件上展現出采集的衍射圖譜。


臺式桌面型X射線衍射儀是公司自主研發(fā)的一款多功能粉末衍射分析儀器,,其融合XRD和計算機軟件等多項技術,,可快速對粉末、塊狀或薄膜等形態(tài)的樣品進行主要物相定性,、定量分析,、晶體結構分析、材料結構分析及結晶度測定,,具有操作簡便,、精度高、檢測速度快等特點,,為材料研究,、生物醫(yī)藥、礦物,、塑料制品,、半導體等眾多領域提供高精度的分析。

X射線衍射(XRD)是一種理想的、非破壞性的,、可應用于大部分類型樣品的無損分析方法,!
X射線衍射可用于晶相的確定,含量檢測以及原子結構的測定,。樣品用量少,,消除了可能產生的樣品物相被破壞和性質改變的風險。
在實際應用中,,對除X射線衍射外的其他方法,,復雜組分樣品的測量一直是一個艱巨的挑戰(zhàn)。對于X射線衍射,,衍射圖譜中所有的細節(jié)信息都是有價值的,,且會被考慮到,并終使樣品表征充分,。

X射線衍射分析儀.jpg


儀器采用*技術制造,,測角儀測角準確度與精確度均達到*水平。光源與探測器能長時間穩(wěn)定工作,,保證衍射峰位,、峰形和強度測量準確、精確,。進行物相結構分析,,包括:物相含量,、晶粒大小判斷,、結晶度、奧氏體含量,、晶胞測定,、二類應力計算、衍射線條指標化,、物相結構等分析,;薄膜材料分析,小角粒徑分析等,。儀器包括高穩(wěn)定性X射線發(fā)生器,、高精密測角儀、封閉正比探測器(或SDD探測器,、或一維高速半導體陣列探測器),、數據處理軟件、相關應用軟件等,。

儀器特點
長壽命X射線管:金屬陶瓷X射線管,,具有散熱好、運行功率高(40kV×40mA)、使用壽命長特點
高精密測角儀:衍射角驅動采用伺服電機驅動+光學編碼控制技術,,具有定位準確,、測量精度高
測角儀內藏式設計,使儀器表現更整潔,、美觀,、大方,在衍射角度測量范圍內,,衍射角度線性度小于0.02°
拓寬衍射儀應用領域的附件齊全:高溫,、低溫、多功能等衍射儀各種附件安裝實現“即插即用”,軟件自動識別控制技術,,方便操作人員對儀器的使用
射線防護安全可靠:X射線散射線防護裝置更安全可靠,,樣品測量時射線防護門自動禁止打開,雙重防護,,任何情況下都能避免操作人員受到散射線輻射

應用領域
未知樣品中物相鑒定
混合樣品中已知相定量分析
晶體結構解析(Rievtveld分析)
非常規(guī)條件下晶體變化(高低溫)
薄膜物相,、多層膜厚度、表面粗糙度,、電荷密度
金屬材料織構,、應力分析


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