【外形尺寸】：1040*670*830mm

【工作臺范圍】：X：280；Y：280,；Z：80（mm）

【間隙控制精度】：2μm

【max速度】：0-60（X軸）,、0-70（Y軸）、0-40（Z軸）mm/s

【平臺加熱溫度】：室溫-150℃

【溫度偏差】：±2℃

【平臺平面精度】：±5μm（100mm）

【溶劑體系】：水性,、油性,、有機溶劑等

【適用基材】：玻璃、PET,、CPI,、金屬箔等柔性基材

【基材固定方式】：真空吸附

【驅(qū)動方式】：步進電機+伺服電機+進口研磨級絲桿

【控制方式】：觸控屏控制

【涂布工藝】：狹縫涂布、超聲噴涂,、刮刀刮涂,、線棒輥涂

【涂布厚度】：0.05-20μm（干膜厚度）   視涂布工藝和油墨而定

【涂布寬度】：10-150mm                      選配

【涂布條數(shù)】：1-10                                根據(jù)選用涂布頭而定

【狹縫頭唇口線度】：≤3μm                    可自由設(shè)定涂布條數(shù)

【液體粘度】：≤1500cps     

【特點】：模塊化設(shè)計，集成集狹縫涂布,、刮刀刮涂,、線棒刮涂、超聲噴涂工藝,，實現(xiàn)不同涂布功能的切換,；

                 按需供墨，狹縫涂布墨水用量低,，減少浪費和污染,；

                 大尺寸觸控屏控制，自定義涂布過程,，便于開展涂布工藝研究,；

                 關(guān)鍵部件（狹縫涂布頭、PLC控制部分,、伺服電機,、研磨級絲桿等）采用國外進口，保證系統(tǒng)精度及設(shè)備可靠性,；

                 可按用戶要求集成真空加熱系統(tǒng),、自動測距系統(tǒng),，CCD成像系統(tǒng)等；

                 各類桌面級設(shè)備已應(yīng)用于國內(nèi)高校,、科研機構(gòu)及各類研發(fā)中心,。

【適用范圍】：針對納米及亞微米級功能性涂層的涂布試驗、墨水調(diào)試,、工藝研究,、小規(guī)模制樣研發(fā)等；

                        涉及行業(yè)包括水凝膠,、液態(tài)金屬,、智能包裝材料、光電材料,、光刻膠,、功能涂層、微電子及半導(dǎo)體封裝等大面積涂布制備,，以及氫燃料電池,、電解水制氫、鋰電池,、異質(zhì)結(jié)太陽能電池,、薄膜太陽能電池、鈣鈦礦太陽能電池,、有機太陽能電池,、OLED、QLED,、柔性穿戴器件,、電子皮膚等器件的制備。

【亮點】：集合狹縫,、刮刀,、線棒、超聲工藝于一體,；

                 模塊化設(shè)計,，便于工藝研究。