【外形尺寸】：1040*670*1850mm

【工作臺范圍】：X:280 Y:280 Z:80（mm）

【間隙控制精度】：2μm

【max速度】：0-60（X軸）,、0-70（Y軸）、0-40（Z軸）mm/s

【平臺加熱溫度】：室溫-150℃

【溫度偏差】：±2℃

【平臺平面精度】：±5μm（100mm）

【溶劑體系】：水性,、油性,、有機(jī)溶劑等

【適用基材】：玻璃、PET,、CPI、金屬箔等柔性基材

【基材固定方式】：真空吸附

【驅(qū)動方式】：步進(jìn)電機(jī)+伺服電機(jī)+進(jìn)口研磨級絲桿

【控制方式】：觸控屏控制

【涂布工藝】：狹縫涂布,、超聲噴涂,、刮刀刮涂,、線棒輥涂（選配）

【涂布厚度】：0.05-20μm（干膜厚度）{視涂布工藝和油墨而定}

【涂布寬度】：10-200μm                    {根據(jù)選用涂布頭而定}

【涂布條數(shù)】：1-10                             {可自由設(shè)定涂布條數(shù)}

【狹縫頭唇口線度】：≤3μm

【液體粘度】：1500cps

【特點(diǎn)】：落地式設(shè)備,，為設(shè)備提供平穩(wěn)性與儲存空間；    

                 配備FFU空氣凈化系統(tǒng),；

                 模塊化設(shè)計,，集成集狹縫涂布、刮刀刮涂,、線棒刮涂、超聲噴涂工藝,，實(shí)現(xiàn)不同涂布公的切換,；

                 按需供墨，狹縫涂布墨水用量低,，減少污染和浪費(fèi)；

                 大尺寸觸控屏控制,，自定義涂布過程,，便于開展涂布工藝研究；

                 可按用戶要求集成真空加熱系統(tǒng),、自動測距系統(tǒng)，CCD成像系統(tǒng)等,。

【適用范圍】：針對納米及亞微米級功能性涂層的涂布試驗(yàn),、墨水調(diào)試、工藝研究,、小規(guī)模制樣研發(fā)等,。

                        涉及行業(yè)包括水凝膠,、液態(tài)金屬、智能包裝材料,、光電材料,、光刻膠,、功能涂層、微電子及半導(dǎo)體封裝等大面積涂布制備,，以及氫燃料電池,、電解水制氫,、鋰電池、異質(zhì)結(jié)太陽能電池,、薄膜太陽能電池、鈣鈦礦太陽能電池,、有機(jī)太陽能電池,、OLED、QLED,、柔性穿戴器件、電子皮膚等器件的制備,。

【亮點(diǎn)】：落地式設(shè)備,；

                 結(jié)合狹縫、刮刀,、線棒、超聲工藝,；

                 模塊化設(shè)計,，便于工藝研究。