蒸鍍掩膜版機械掩膜版標定掩模板激光精密切割微納加工高精定制

華諾激光專業(yè)定做掩膜版 mask 金屬掩模板 不銹鋼掩膜版 ,，主要適合于高校,、科研所、高科技公司的實驗室使用,，也適合于工廠批量生產(chǎn),，掩模板可以應用于電子束蒸發(fā)，熱蒸發(fā),，磁控濺射等真空鍍膜設備中,，用來制備OTFT、OPV,、OLED,、鈣鈦礦太陽能電池，光電探測器,，場效應晶體管等各種器件圖形化薄膜和電極,。由于都是定制的產(chǎn)品,，具體價格需要發(fā)圖紙確認后，才能正式報價,。

光刻掩膜版（又稱光罩,，英文為Mask Reticle），簡稱掩膜版,，是微納加工技術常用的光刻工藝所使用的圖形母版,。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結構，再通過曝光過程將圖形信息轉移到產(chǎn)品基片上,。

不銹鋼掩模板是以不銹鋼材料為基板生產(chǎn)的掩模板,，此掩模板的特是

平整度好、精度高,、金屬硬度高可以反復使用,，適用于蒸鍍線路、電極,、芯片層等,。受高校研發(fā)部門、科研所喜愛,。

芯片掩模板用于芯片線路蒸鍍使用,，優(yōu)質的材料再結合本公司多年生產(chǎn)經(jīng)驗，制造的掩模板平整度高,、精度高,，利于掩模圖像的轉移，適合芯片生產(chǎn)廠家和高校實驗室,。

電極掩模板是一款精度在10微米以內的金屬掩模板,，該掩模板的特點是高精度、高平整度,、高硬度,、受熱變形量小等，集眾多優(yōu)點于一身,，受到廣大院校和研究所好評,。