大多數(shù)光學(xué)實(shí)驗(yàn)或工業(yè)生產(chǎn)都對系統(tǒng)穩(wěn)定性有較高的要求,。各種因素造成的振動會導(dǎo)致儀器測量結(jié)果的不穩(wěn)定性和不準(zhǔn)確性，嚴(yán)重干擾生產(chǎn)和實(shí)驗(yàn)的進(jìn)行,，振動來源主要分為來自系統(tǒng)之外的振動和系統(tǒng)內(nèi)部的振動,，地面固有振動，工作人員踩踏地板以及開,、關(guān)門或墻壁碰撞等通過地面?zhèn)鱽淼恼駝泳鶎傧到y(tǒng)之外的振動,，這一類振動需通過光學(xué)平臺的隔振支架衰減；而來自系統(tǒng)內(nèi)部的振動包括儀器振動,、氣流,、冷卻水流等，則需依靠光學(xué)平臺的桌面阻尼來隔絕,。

  隨著光學(xué)加工設(shè)備和測量儀器精度的不斷提高,， 其對工作環(huán)境的振動隔離提出了更加嚴(yán)苛的要求。例如,，離子激光器泵浦噴流染料激光器時,，激光器的振動要求達(dá)到了微米級；由于可見光波長約為0.5微米,，即使振動在次微米級別時,，以光的干涉為基礎(chǔ)的實(shí)驗(yàn)（如全息攝影） 也將無法進(jìn)行； LμmArray 公司的并行激光直寫設(shè)備的直寫頭振動線位移不能超過15nm ;超精密機(jī)械加工的表面粗糙度要求已經(jīng)達(dá)到 0.1nm  ;高精度掃面探針顯微鏡的雙向分辨率都已達(dá)到亞納米級,。因此,，對光學(xué)加工設(shè)備及光學(xué)測量儀器進(jìn)行有效的隔振是保證科研生產(chǎn)活動正常進(jìn)行的必要條件。

同時,，對于大型精密光學(xué)儀器來說,，其除了有近乎嚴(yán)苛的隔振要求外，儀器本身往往還具有較大的體積和質(zhì)量,，這對作為隔振基礎(chǔ)的光學(xué)隔振平臺的承載能力和工作空間也提出了更進(jìn)一步的要求,。因此，隔振性能好,、承載能力強(qiáng),、工作空間大的大型或超大型精密光學(xué)隔振平臺具有了較大的市場需求。

創(chuàng)譜儀器自主研發(fā)生產(chǎn)的光學(xué)隔振平臺廣泛的應(yīng)用于精密科研光學(xué)試驗(yàn),、加工及測量中,，是您理想的選擇。

當(dāng)實(shí)驗(yàn)室重有很多的儀器,，比較雜亂的時候,，我們可以根據(jù)您的儀器來定制儀器罩或者儀器配件箱，讓您的實(shí)驗(yàn)室整齊劃一

產(chǎn)品信息：定制精密儀器罩

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技術(shù)參數(shù)：定制精密儀器罩

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