大多數(shù)光學實驗或工業(yè)生產(chǎn)都對系統(tǒng)穩(wěn)定性有較高的要求,。各種因素造成的振動會導致儀器測量結(jié)果的不穩(wěn)定性和不準確性,，嚴重干擾生產(chǎn)和實驗的進行，振動來源主要分為來自系統(tǒng)之外的振動和系統(tǒng)內(nèi)部的振動,，地面固有振動,，工作人員踩踏地板以及開、關(guān)門或墻壁碰撞等通過地面?zhèn)鱽淼恼駝泳鶎傧到y(tǒng)之外的振動,，這一類振動需通過光學平臺的隔振支架衰減,；而來自系統(tǒng)內(nèi)部的振動包括儀器振動、氣流,、冷卻水流等,，則需依靠光學平臺的桌面阻尼來隔絕。

 隨著光學加工設備和測量儀器精度的不斷提高,， 其對工作環(huán)境的振動隔離提出了更加嚴苛的要求,。例如，離子激光器泵浦噴流染料激光器時，激光器的振動要求達到了微米級,；由于可見光波長約為0.5微米,，即使振動在次微米級別時，以光的干涉為基礎(chǔ)的實驗（如全息攝影） 也將無法進行,； LμmArray 公司的并行激光直寫設備的直寫頭振動線位移不能超過15nm ;超精密機械加工的表面粗糙度要求已經(jīng)達到 0.1nm  ;高精度掃面探針顯微鏡的雙向分辨率都已達到亞納米級,。因此，對光學加工設備及光學測量儀器進行有效的隔振是保證科研生產(chǎn)活動正常進行的必要條件,。

同時,，對于大型精密光學儀器來說，其除了有近乎嚴苛的隔振要求外,，儀器本身往往還具有較大的體積和質(zhì)量,，這對作為隔振基礎(chǔ)的光學隔振平臺的承載能力和工作空間也提出了更進一步的要求。因此,，隔振性能好,、承載能力強、工作空間大的大型或超大型精密光學隔振平臺具有了較大的市場需求,。

創(chuàng)譜儀器自主研發(fā)生產(chǎn)的光學隔振平臺廣泛的應用于精密科研光學試驗,、加工及測量中，是您理想的選擇,。

平臺儀器架是我司根據(jù)客戶應用,，研發(fā)的一款可以獨立放置，移動的多層支架,，可以充分利用光學平臺上方空間,，放置示波器、各種控制器,、電腦適配器等,，且操作時不會影響平臺的穩(wěn)定性。

 支架槽內(nèi)配有多個電源插座和漏電保護器,，在保證人員安全的情況下,，為客戶提供了極大的便利。