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FSM413紅外激光測厚儀

具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

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岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司(Dymek Company Ltd ,,下面簡稱岱美)成立于1989年,是一間擁有多年經(jīng)驗(yàn)的高科技設(shè)備分銷商,,主要為數(shù)據(jù)存儲,、半導(dǎo)體、光通訊,、高校及研發(fā)中心提供各類測量設(shè)備,、工序設(shè)備以及相應(yīng)的技術(shù)支持,并與一些重要的客戶建立了長期合作的關(guān)系,。自1989年創(chuàng)立至今,,岱美的產(chǎn)品以及各類服務(wù)、解決方案廣泛地運(yùn)用于中國香港,,中國大陸(上海,、東莞、北京),,中國臺灣,,泰國,,菲律賓,,馬來西亞,越南及新加坡等地區(qū),。


岱美在中國大陸地區(qū)主要銷售或提供技術(shù)支持的產(chǎn)品:

晶圓鍵合機(jī),、納米壓印設(shè)備、紫外光刻機(jī),、涂膠顯影機(jī),、硅片清洗機(jī)、超薄晶圓處理設(shè)備,、光學(xué)三維輪廓儀,、硅穿孔TSV量測、非接觸式光學(xué)三坐標(biāo)測量儀,、薄膜厚度檢測儀,、主動及被動式防震臺系統(tǒng)、應(yīng)力檢測儀,、電容式位移傳感器,、定心儀等。


岱美重要合作伙伴包括有:

Thetametrisis, EVG, FSM, Opto-Alignment, Herz, PLSINTEC, Film Sense, Reditech, Lazin, Delcom, Microsense, Shb, boffotto, RTEC, Kosaka, Nanotronics, MTInc, 4D, Daeil, Microphysics,

n&k Technology, First Nano, Schmitt, LESCO, Otsuka, STI, Kurashiki, Ryokosha, SURAGUS, Westbond...


如有需要,,請聯(lián)系我們,,了解我們?nèi)绾伍_始與您之間的合作,實(shí)現(xiàn)您的企業(yè)或者組織機(jī)構(gòu)長期發(fā)展的目標(biāo),。




膜厚儀,,輪廓儀,,EVG鍵合機(jī),EVG光刻機(jī),,HERZ隔震臺,,Microsense電容式位移傳感器

紅外激光測厚儀是一種使用紅外激光作為測量工具的高精度測厚設(shè)備。它主要用于非接觸的測量各種材料的厚度,,包括金屬,、塑料、玻璃,、陶瓷等,。紅外激光測厚儀具有測量精度高、重復(fù)性好,、操作簡單,、無需特殊環(huán)境等特點(diǎn)。

 

紅外激光測厚儀測量精度可以達(dá)到微米級別,,遠(yuǎn)超過傳統(tǒng)的測厚設(shè)備,。采用非接觸的測量方式,可以避免因接觸而對被測物品造成的損壞或形變,??梢栽趲酌腌妰?nèi)完成測量,提高了測量效率,??梢詼y量各種類型的材料,測量范圍寬廣,。對環(huán)境要求低,,無需特殊的測量環(huán)境。被廣泛應(yīng)用于石油,、化工,、冶金、航空,、電力,、汽車制造、鐵路,、船舶,、科研等多個領(lǐng)域。

產(chǎn)品名稱:FSM413紅外激光測厚儀

產(chǎn)品型號:FSM 413EC, FSM 413MOT,,F(xiàn)SM 413SA DP FSM 413C2C, FSM 8108 VITE C2C

1.  簡單介紹

FSM 128 薄膜應(yīng)力及基底翹曲測試設(shè)備廠家介紹:美國Frontier Semiconductor(FSM)成立于1988年,,總部位于圣何塞,多年來為半導(dǎo)體行業(yè)等高新行業(yè)提供各式精密的測量設(shè)備,主要產(chǎn)品包括:光學(xué)測量設(shè)備:三維輪廓儀,、拉曼光譜,、 薄膜應(yīng)力測量設(shè)備、 紅外干涉厚度測量設(shè)備,、電學(xué)測量設(shè)備:高溫四探針測量設(shè)備,、非接觸式片電阻及 漏電流測量設(shè)備、金屬污染分析,、等效氧化層厚度分析(EOT)

2.  FSM 413 紅外干涉測量設(shè)備產(chǎn)品簡介

1)   利紅外干涉測量技術(shù),非接觸式測量

2)   適用于所有可讓紅外線通過的材料

硅,、藍(lán)寶石、砷化鎵,、磷化銦,、碳化硅、玻璃,、石 英,、聚合物…

3.  FSM413紅外激光測厚儀應(yīng)用

1.襯底厚度(不受圖案硅片、有膠帶,、凹凸或者粘合硅片影響)

2.平整度

3.厚度變化(TTV)

4.溝槽深度

5.過孔尺寸,、深度、側(cè)壁角度

6.粗糙度

7.薄膜厚度

8.環(huán)氧樹脂厚度

9.襯底翹曲度

10.晶圓凸點(diǎn)高度(bump height)

11.MEMS 薄膜測量

12.TSV 深度,、側(cè)壁角度…

image015.jpg

TSV測試

image016.jpg

TTV應(yīng)用

4.  規(guī)格

1)   測量方式:紅外干涉(非接觸式)

2)   樣本尺寸:  50,、75、100,、200,、300 mm,, 也可以訂做客戶需要的產(chǎn)品尺寸

3)   測量厚度: 15—780μm (單探頭)

      3 mm (雙探頭總厚度測量)

4)   掃瞄方式:半自動及全自動型號,

     另2D/3D掃瞄(Mapping)可選

5)   襯底厚度測量: TTV,、平均值、*小值,、*大值,、公差。

6)   粗糙度: 20—1000Å (RMS)

7)   重復(fù)性: 0.1μm (1 sigma)單探頭*

      0.8 μm (1 sigma)雙探頭*

8)   分辨率: 10 nm

9)   設(shè)備尺寸:

413-200: 26”(W) x 38” (D) x 56” (H)

413-300: 32”(W) x 46” (D) x 66” (H)

10) 重量: 500 lbs

11) 電源: 110V/220VAC    

12) 真空: 100 mm Hg

13) 樣本表面光滑(一般粗糙度小于0.1μm RMS)

150μm厚硅片(沒圖案,、雙面拋光并沒有摻雜)



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