廠家正式*代理商：岱美有限公司

      岱美有限公司與Filmetrics從03年開始的合作關(guān)系,，單是國內(nèi)16年間已賣出超過600臺不同型號儀器，在國內(nèi)有多個服務(wù)處均有工程師,，保證能為客戶提供及時的服務(wù),。

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Filmetrics硅片涂層厚度測量儀-晶圓厚度測量功能強大，測量厚度從1nm到10mm

 薄膜特性表征工具/光學參數(shù)測量/反射率測量/厚度測量/透射率測量,，應(yīng)用于半導(dǎo)體材料厚度測量,、非金屬材料厚度測量、光刻膠,、光學掩膜、介電薄膜,、晶圓表面涂層厚度測量,、圓晶薄膜厚度測量、硅片表面涂層材料厚度測量,，研究透光性材料的工具,。

     硅片涂層厚度測量儀-晶圓厚度測量儀 F20都能測量薄膜厚度、光學常數(shù),，還是想要知道材料的反射率和透過率,。僅需花費幾分鐘完成安裝，通過USB連接電腦,，設(shè)備就可以在數(shù)秒內(nèi)得到測量結(jié)果,?；谀衬K化設(shè)計的特點，硅片涂層厚度測量儀-晶圓厚度—Filmetrics  F20適用于各種應(yīng)用：

  測量厚度,、折射率,、反射率和穿透率：

-     單層膜或多層膜疊加

-     單一膜層

-     液態(tài)膜或空氣層

  不同條件下的測量，包括：

-     在平面或彎曲表面

-     光斑**可達20微米

-     桌面式,、XY坐標自動化膜厚測量,，或在線配置

以硅片涂層厚度測量儀-晶圓厚度膜厚儀—Filmetrics  F20為例

型號參數(shù)

Filmetrics公司：

    硅片涂層厚度測量儀-晶圓厚度—Filmetrics利用反射干涉的原理進行無損測量，可測量薄膜厚度及光學常數(shù),。測量精度達到埃級的分辯率,，測量迅速，操作簡單,，界面友好,，是目前市場上**性價比的薄膜厚度測量設(shè)備。設(shè)備光譜測量范圍從近紅外到紫外線,，波長范圍從200nm到1700nm可選,。凡是光滑的，透明或半透明的和所有半導(dǎo)體膜層都可以測量,。其可測量薄膜厚度在 1nm 到 13mm 之間,，測量精度高達1 埃，測量穩(wěn)定性高達 0.7 埃,，測量時間只需一到二秒, 并有手動及自動機型可選,。可應(yīng)用領(lǐng)域包括：生物醫(yī)學（Biomedical）, 液晶顯示(Displays), 硬涂層(Hard coats), 晶圓涂層,、金屬膜(Metal), 眼鏡涂層(Ophthalmic) , 聚對二甲笨(Parylene), 電路板(PCBs&PWBs), 多孔硅(Porous Silicon), 光阻材料(Thick Resist),半導(dǎo)體材料(Semiconductors)涂層測厚 , 太陽光伏(Solar photovoltaics),涂層測厚,、 真空鍍層(Vacuum Coatings), 圈筒檢查(Web inspection applications)等。

應(yīng)用：

通過Filmetrics膜厚測量儀新反射式光譜測量技術(shù),多達3-4層透明薄膜厚度,、 n,、k值及粗糙度能在數(shù)秒鐘測得。其應(yīng)用廣泛,，例如：

膜層實例：

幾乎任何光滑,、半透明、低吸收的膜都能測,。包括：

SiO2（二氧化硅）           SiNx（氮化硅）                    DLC（類金剛石碳）

Photoresist（光刻膠）     Polyer Layers（高分子聚合物層）      Polymide（聚酰亞胺）

Polysilicon（多晶硅）      Amorphous Silicon（非晶硅）

基底實例：

對于厚度測量,，大多數(shù)情況下所要求的只是一塊光滑、反射的基底,。對于光學常數(shù)測量,，需要一塊平整的鏡面反射基底；如果基底是透明的,，基底背面需要進行處理使之不能反射,。

包括：

Silicon（硅）         Glass（玻璃）               Aluminum（鋁）

Gas（砷化鎵）        Steel（鋼）                 Polycarbonate（聚碳酸脂）

Polymer Films（高分子聚合物膜）

產(chǎn)品應(yīng)用,，在可測樣品基底上有了飛躍：

●幾乎所有材料表面上的鍍膜都可以測量，即使是藥片,，木材或紙張等粗糙的非透明基底,。

●玻璃或塑料的板材、管道和容器,。

●光學鏡頭和眼科鏡片,。

優(yōu)勢：

*     提供在線診斷

*     配送獨立的軟件包

*     精通的歷史功能即程序數(shù)據(jù)可存儲、**及策劃結(jié)果

*     免費軟件升級

產(chǎn)品工作原理：

極易操作,、快速,、準確、機身輕巧及價格便宜為其主要優(yōu)點,，F(xiàn)ilmetrics提供以下型號以供選擇:

一,、單點測量系統(tǒng)（從 1nm 到 13mm 單層及多層厚度測量）

F20

*銷量好的薄膜測量系統(tǒng)，有各種不同附件和波長(由220nm紫外線區(qū) 至1700nm近紅外線區(qū))覆蓋范圍,，為任意攜帶型,，可以實現(xiàn)反射率、膜厚,、n,、k值測量。

F3-sX

在沉積過程中可實時監(jiān)測半導(dǎo)體與介電層薄膜厚度到3毫米, 例如硅片

F10-ARc

可測量鏡片和其他曲面的反射率,，用于涂層厚度測量

F10-HC

測量硬涂層和防霧層厚度和折射率,，聚碳酸酯硬涂層在汽車等行業(yè)應(yīng)用普通

F3-CS

提供微小視野及微小樣品測量，USB連接電腦即可使用,，攜帶方便

F10-AR

測量眼科鏡頭和其他彎曲表面的反射率,。還可以提供測量硬涂層厚度和透射率的可選件

F10-RT

可同時測量反射率和透射率，也可選配測量膜層厚度和折射率,。普遍應(yīng)用于真空涂層領(lǐng)域

在膜厚儀—FilmetricsF20實現(xiàn)反射率跟穿透率的同時測量,，特殊光源設(shè)計特別適用于透明基底樣品的測量。

二,、F40 系列- 基于微米(顯微)級別光斑尺寸厚度測量

膜厚儀—FilmetricsF40

可以固定到您的顯微鏡上來測量小至 1um 光斑點的厚度和折射率

這型號安裝在任何顯微鏡外,，可提供小到1um光點(100倍放大倍數(shù))來測量微小樣品。

三,、F50/F60系列- 表面的自動測繪

F50

為我們的膜厚儀—FilmetricsF20系列產(chǎn)品增添自動測繪能力，以每秒鐘 2 個點的快速測繪厚度和折射率

這型號配備全自動XY工作臺,，由8"x8"到18"x18"或客戶提供所需尺寸均可,。通過快速掃瞄功能，可取得整片樣品厚度分布情況(mapping),。

F54

能以每秒測量兩個點的速度快速的測繪薄膜厚度,，樣品直徑可達450毫米

F60-t

滿足生產(chǎn)環(huán)境的臺式測繪系統(tǒng),，包括自動基準確定、凹槽定位,、全封閉測量平臺以及其它裝置

四,、F30 系列- 在線厚度監(jiān)控儀器

F30

檢測金屬有機化學氣相沉積(MOCVD)、陰極濺鍍和其他沉積工藝中監(jiān)控反射率,、厚度和沉積率

這型號可安裝在任何真空鍍膜機腔體外的窗口,。可實時監(jiān)控長晶速度,、實時提供膜厚,、n、k值,。并可切定某一波長或固定測量時間間距,。更可加裝至三個探頭，同時測量三個樣品,，具紫外線區(qū)或標準波長可供選擇,。

F32

實時監(jiān)控薄膜頂部和底部的反射率和沉積速率