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化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>物理特性分析儀器>測厚儀>白光干涉測厚儀>F10,、F20、F40,、F50,、F-60 硅片涂層厚度測量儀-晶圓厚度

F10、F20,、F40,、F50、F-60 硅片涂層厚度測量儀-晶圓厚度

參考價(jià) 10
訂貨量 ≥1
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

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岱美有限公司(下面簡稱岱美)成立于1989年,,是一間擁有多年經(jīng)驗(yàn)的性高科技設(shè)備分銷商,,主要為半導(dǎo)體、MEMs,、光通訊,、數(shù)據(jù)存儲、高校及研發(fā)中心提供各類測量設(shè)備,、工序設(shè)備以及相應(yīng)的技術(shù)支持,,并與一些重要的客戶建立了*合作的關(guān)系。

自1989年創(chuàng)立至今,,岱美的產(chǎn)品以及各類服務(wù),、解決方案廣泛地運(yùn)用于中國大陸、香港,、中國臺灣,、新加坡、泰國,、馬來西亞,、菲律賓等地區(qū)。
主要產(chǎn)品包括有:EVG晶圓鍵合設(shè)備,、EVG納米壓印設(shè)備,、EVG紫外光刻機(jī)、EVG涂膠顯影機(jī),、EVG硅片清洗機(jī),、EVG超薄晶圓處理設(shè)備、壓力計(jì),、流量計(jì),、等離子電源、非接觸式光學(xué)三坐標(biāo)測量儀,、薄膜厚度檢測儀,、電容式位移傳感器、振動(dòng)樣品磁強(qiáng)計(jì) (VSM),、粗糙度檢測儀,、電鏡 (SEM)、透鏡 (TEM),、原子力顯微鏡 (AFM),、防振臺系統(tǒng)、三維原子探針材料分析儀 (Atom Probe),、激光干涉儀,、平面/球面大口徑動(dòng)態(tài)激光干涉儀,、氦質(zhì)譜檢漏儀、紫外線固化儀,、碳納米管生長設(shè)備等,。
岱美中國擁有八十多名訓(xùn)練有素的工程師,能夠?yàn)楦鞯貐^(qū)用戶作出快捷,、可靠的技術(shù)支持和維修服務(wù),;為確保他們的專業(yè)知識得以更新及并適應(yīng)新的要求,岱美定期委派工程師前往海外接受專項(xiàng)技術(shù)訓(xùn)練,,務(wù)求為顧客提供更高質(zhì)素的售后服務(wù)及技術(shù)支持。
總部位于中國香港的岱美分別在新加坡,、泰國,、中國臺灣、馬來西亞,、菲律賓及中國大陸(上海,、東莞及北京)設(shè)立了分公司及辦事處,以帶給客戶更快捷更的銷售及維修服務(wù),。
我們真誠希望和業(yè)界的用戶互相合作,,共同發(fā)展!,!
     

膜厚測量儀,、隔震臺、磁強(qiáng)計(jì)

產(chǎn)地類別 進(jìn)口 價(jià)格區(qū)間 面議
應(yīng)用領(lǐng)域 化工,生物產(chǎn)業(yè),電子/電池,航空航天,電氣

廠家正式*代理商:岱美有限公司

      岱美有限公司與Filmetrics從03年開始的合作關(guān)系,,單是國內(nèi)16年間已賣出超過600臺不同型號儀器,,在國內(nèi)有多個(gè)服務(wù)處均有工程師,保證能為客戶提供及時(shí)的服務(wù),。

免費(fèi)樣機(jī)演示及測量

輕輕一按即可實(shí)現(xiàn)測量,!

請聯(lián)系我們,專業(yè)的應(yīng)用工程師將為你演示它是如此的方便,!

 

Filmetrics硅片涂層厚度測量儀-晶圓厚度測量功能強(qiáng)大,,測量厚度從1nm到10mm

 薄膜特性表征工具/光學(xué)參數(shù)測量/反射率測量/厚度測量/透射率測量,應(yīng)用于半導(dǎo)體材料厚度測量,、非金屬材料厚度測量,、光刻膠、光學(xué)掩膜,、介電薄膜,、晶圓表面涂層厚度測量、圓晶薄膜厚度測量,、硅片表面涂層材料厚度測量,,研究透光性材料的工具。

     硅片涂層厚度測量儀-晶圓厚度測量儀 F20都能測量薄膜厚度、光學(xué)常數(shù),,還是想要知道材料的反射率和透過率,。僅需花費(fèi)幾分鐘完成安裝,通過USB連接電腦,,設(shè)備就可以在數(shù)秒內(nèi)得到測量結(jié)果,。基于某模塊化設(shè)計(jì)的特點(diǎn),,硅片涂層厚度測量儀-晶圓厚—Filmetrics  F20適用于各種應(yīng)用:

  測量厚度,、折射率、反射率和穿透率:

-     單層膜或多層膜疊加

-     單一膜層

-     液態(tài)膜或空氣層

  不同條件下的測量,,包括:

-     在平面或彎曲表面

-     光斑**可達(dá)20微米

-     桌面式,、XY坐標(biāo)自動(dòng)化膜厚測量,或在線配置

以硅片涂層厚度測量儀-晶圓厚度膜厚儀—Filmetrics  F20為例

F20.jpg

型號參數(shù)

F20參數(shù).jpg

 

 

Filmetrics公司:

    硅片涂層厚度測量儀-晶圓厚度—Filmetrics利用反射干涉的原理進(jìn)行無損測量,,可測量薄膜厚度及光學(xué)常數(shù),。測量精度達(dá)到埃級的分辯率,測量迅速,,操作簡單,,界面友好,是目前市場上**性價(jià)比的薄膜厚度測量設(shè)備,。設(shè)備光譜測量范圍從近紅外到紫外線,,波長范圍從200nm到1700nm可選。凡是光滑的,,透明或半透明的和所有半導(dǎo)體膜層都可以測量,。其可測量薄膜厚度在 1nm 到 13mm 之間,測量精度高達(dá)1 埃,,測量穩(wěn)定性高達(dá) 0.7 埃,,測量時(shí)間只需一到二秒, 并有手動(dòng)及自動(dòng)機(jī)型可選??蓱?yīng)用領(lǐng)域包括:生物醫(yī)學(xué)(Biomedical), 液晶顯示(Displays), 硬涂層(Hard coats), 晶圓涂層,、金屬膜(Metal), 眼鏡涂層(Ophthalmic) , 聚對二甲笨(Parylene), 電路板(PCBs&PWBs), 多孔硅(Porous Silicon), 光阻材料(Thick Resist),半導(dǎo)體材料(Semiconductors)涂層測厚 , 太陽光伏(Solar photovoltaics),涂層測厚、 真空鍍層(Vacuum Coatings), 圈筒檢查(Web inspection applications)等,。

 

應(yīng)用:

通過Filmetrics膜厚測量儀新反射式光譜測量技術(shù),多達(dá)3-4層透明薄膜厚度,、 n、k值及粗糙度能在數(shù)秒鐘測得,。其應(yīng)用廣泛,,例如:

膜層實(shí)例:

幾乎任何光滑、半透明,、低吸收的膜都能測,。包括:

SiO2(二氧化硅)           SiNx(氮化硅)                    DLC(類金剛石碳)

Photoresist(光刻膠)     Polyer Layers(高分子聚合物層)      Polymide(聚酰亞胺)

Polysilicon(多晶硅)      Amorphous Silicon(非晶硅)

 

基底實(shí)例:

對于厚度測量,,大多數(shù)情況下所要求的只是一塊光滑、反射的基底,。對于光學(xué)常數(shù)測量,,需要一塊平整的鏡面反射基底;如果基底是透明的,,基底背面需要進(jìn)行處理使之不能反射,。

包括:

Silicon(硅)         Glass(玻璃)               Aluminum(鋁)

Gas(砷化鎵)        Steel(鋼)                 Polycarbonate(聚碳酸脂)

Polymer Films(高分子聚合物膜)

產(chǎn)品應(yīng)用,在可測樣品基底上有了飛躍:

●幾乎所有材料表面上的鍍膜都可以測量,,即使是藥片,,木材或紙張等粗糙的非透明基底。

●玻璃或塑料的板材,、管道和容器,。

●光學(xué)鏡頭和眼科鏡片。

 

優(yōu)勢:

*     提供在線診斷

*     配送獨(dú)立的軟件包

*     精通的歷史功能即程序數(shù)據(jù)可存儲,、**及策劃結(jié)果

*     免費(fèi)軟件升級

產(chǎn)品工作原理:

截圖1575429352.png

 

               

 

極易操作,、快速,、準(zhǔn)確,、機(jī)身輕巧及價(jià)格便宜為其主要優(yōu)點(diǎn),F(xiàn)ilmetrics提供以下型號以供選擇:

一,、單點(diǎn)測量系統(tǒng)(從 1nm 到 13mm 單層及多層厚度測量)

     30.jpg60.jpgf20_detail-large.jpgF40.pngf50_detail-large.jpgf54_angled-large.jpg

F20

*銷量好的薄膜測量系統(tǒng),,有各種不同附件和波長(由220nm紫外線區(qū) 至1700nm近紅外線區(qū))覆蓋范圍,為任意攜帶型,,可以實(shí)現(xiàn)反射率,、膜厚、n,、k值測量,。

F3-sX

在沉積過程中可實(shí)時(shí)監(jiān)測半導(dǎo)體與介電層薄膜厚度到3毫米, 例如硅片

F10-ARc

可測量鏡片和其他曲面的反射率,用于涂層厚度測量

F10-HC

測量硬涂層和防霧層厚度和折射率,,聚碳酸酯硬涂層在汽車等行業(yè)應(yīng)用普通

F3-CS

提供微小視野及微小樣品測量,,USB連接電腦即可使用,攜帶方便

F10-AR

測量眼科鏡頭和其他彎曲表面的反射率,。還可以提供測量硬涂層厚度和透射率的可選件

F10-RT

可同時(shí)測量反射率和透射率,,也可選配測量膜層厚度和折射率。普遍應(yīng)用于真空涂層領(lǐng)域

膜厚儀—FilmetricsF20實(shí)現(xiàn)反射率跟穿透率的同時(shí)測量,,特殊光源設(shè)計(jì)特別適用于透明基底樣品的測量,。

 

二、F40 系列- 基于微米(顯微)級別光斑尺寸厚度測量

膜厚儀—FilmetricsF40

可以固定到您的顯微鏡上來測量小至 1um 光斑點(diǎn)的厚度和折射率

這型號安裝在任何顯微鏡外,,可提供小到1um光點(diǎn)(100倍放大倍數(shù))來測量微小樣品,。

 

三,、F50/F60系列- 表面的自動(dòng)測繪

 

F50

為我們的膜厚儀—FilmetricsF20系列產(chǎn)品增添自動(dòng)測繪能力,以每秒鐘 2 個(gè)點(diǎn)的快速測繪厚度和折射率

這型號配備全自動(dòng)XY工作臺,,由8"x8"到18"x18"或客戶提供所需尺寸均可,。通過快速掃瞄功能,可取得整片樣品厚度分布情況(mapping),。

F54

能以每秒測量兩個(gè)點(diǎn)的速度快速的測繪薄膜厚度,,樣品直徑可達(dá)450毫米

F60-t

滿足生產(chǎn)環(huán)境的臺式測繪系統(tǒng),包括自動(dòng)基準(zhǔn)確定,、凹槽定位,、全封閉測量平臺以及其它裝置

 

四、F30 系列- 在線厚度監(jiān)控儀器

       

F30

檢測金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積(MOCVD),、陰極濺鍍和其他沉積工藝中監(jiān)控反射率,、厚度和沉積率

這型號可安裝在任何真空鍍膜機(jī)腔體外的窗口??蓪?shí)時(shí)監(jiān)控長晶速度,、實(shí)時(shí)提供膜厚、n,、k值,。并可切定某一波長或固定測量時(shí)間間距。更可加裝至三個(gè)探頭,,同時(shí)測量三個(gè)樣品,,具紫外線區(qū)或標(biāo)準(zhǔn)波長可供選擇。

F32

實(shí)時(shí)監(jiān)控薄膜頂部和底部的反射率和沉積速率

 

 

 

 



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