槽式濕法清洗設(shè)備
- 公司名稱 無(wú)錫亞電智能裝備有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào)
- 產(chǎn)地 江蘇無(wú)錫
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2020/3/9 9:28:16
- 訪問次數(shù) 3155
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產(chǎn)地類別 | 國(guó)產(chǎn) | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
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儀器種類 | 專用型 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子/電池 |
一,、 槽式濕法設(shè)備:
型號(hào)有DF-1500B、DF-2000B,、DF-3000B三大系列 ,,分Cassetteless type和Cassette type,適用于6吋,,8吋,12吋晶圓清洗,,主要工藝包括B Clean,,Oxide Remove, Nitride Remove, PR Strip, Particle Remove, Solvent Clean, Wafer Reclaim, Metal Etch等,可應(yīng)用于半導(dǎo)體,、LED和太陽(yáng)能電池等領(lǐng)域,。
產(chǎn)品詳情:
1、槽式濕法設(shè)備Cassetteless-type:適用于90~130nm工藝制程,,均勻性高,,顆粒度低和顆粒等級(jí)優(yōu)勢(shì)大,適用DMOS、50LOGIC,、35MIX等產(chǎn)品,。
- 滿足SEMI S2、SEMI S8和CE標(biāo)準(zhǔn),;
- 全自動(dòng)倒片,,兼容SMIF和FOUP;
- 支持EAP,、FDC等功能,;
- 多級(jí)Wafer保護(hù)措施;
- 支持Marangoni干燥,;
- 支持多任務(wù)并行處理,;
- 自動(dòng)補(bǔ)、配液,,可兼容多種濃度配比,;
- 支持自動(dòng)補(bǔ)液及配液;
- 配置煙感,,溫感,,光感及CO2 滅火裝置;
- BATH過溫保護(hù),,各MODULE 配置LEAK SENSOR,;
- INTERLOCK全面豐富。
2,、槽式濕法設(shè)備Cassette-type:適用于130nm及以上制程,,適用產(chǎn)品如:IGBT、MEMS等,,自動(dòng)化程度高,,價(jià)比高,穩(wěn)定性強(qiáng),。
- 搭載*超聲波,、兆生波清洗模塊,優(yōu)化清洗工藝效果,;
- 支持EAP,、FDC等功能;
- 多級(jí)wafer保護(hù)措施,;
- 集成多種干燥技術(shù),,如:馬蘭格尼干燥、IPA 干燥,;
- 多尺寸襯底兼容清洗,;
- 支持多任務(wù)并行處理;
- 全自動(dòng)滅火系統(tǒng),排風(fēng)系統(tǒng)防爆處理,,提高設(shè)備安全性,;
- 自動(dòng)補(bǔ)、配液,,可兼容多種濃度配比,。
大家好!無(wú)錫亞電智能裝備有限公司是半導(dǎo)體晶圓行業(yè)濕法制程服務(wù)商,,專注于晶圓前道濕法刻蝕清洗技術(shù),,是*批推進(jìn)半導(dǎo)體設(shè)備國(guó)產(chǎn)化的企業(yè)之一。公司核心產(chǎn)品為6吋,、8吋,、12吋濕法刻蝕清洗設(shè)備,包括槽式設(shè)備和單片設(shè)備,,涵蓋多種前道濕法工藝,,如:B Clean,Oxide Remove,Nitride Remove,PRStrip,Particle Remove,Solvent Clean,Wafer Reclaim,Metal Etch等,。此外,,為應(yīng)對(duì)個(gè)性化的清洗需求,公司還研發(fā)了多種輔助清洗機(jī)臺(tái),,如:爐管清洗機(jī),,片盒清洗機(jī),部件清洗機(jī),,本地化學(xué)品供液設(shè)備,,濕法工作臺(tái),烘箱等,。目前已與無(wú)錫上華,、寧波中芯、廣州粵芯,、無(wú)錫華虹,、重慶華潤(rùn)微電子等客戶達(dá)成友好合作。