晶圓需要清洗，在半導(dǎo)體行業(yè)屬于必須的事實(shí),。那么，不少人好奇的是,，晶圓清洗用純水可以嗎？對(duì)于這個(gè)問題,，我們馬上來給大家一個(gè)答案：

晶圓清洗可以用純水，但通常使用的是超純水,。因?yàn)槿绻褂眉兯烙?jì)會(huì)存在一些不穩(wěn)定因素：

雜質(zhì)影響

普通純水：雖然純水在一定程度上去除了大部分雜質(zhì),，但仍可能含有微量的離子、有機(jī)物,、顆粒等雜質(zhì),。在晶圓清洗中，即使是微量的雜質(zhì)也可能對(duì)晶圓的質(zhì)量和性能產(chǎn)生不良影響,，例如導(dǎo)致電路短路,、漏電等問題。

超純水：超純水是經(jīng)過深度凈化處理的水,，其純度高,，幾乎不含有除了氫原子和氧原子之外的任何細(xì)菌、有機(jī)物,、無機(jī)物,、礦物質(zhì)、二噁英等雜質(zhì),。使用超純水清洗晶圓可以減少雜質(zhì)對(duì)晶圓的影響,，保證晶圓的高質(zhì)量和高性能。

生產(chǎn)效率

干燥速度：超純水具有快速蒸發(fā)的特點(diǎn),，能夠使晶圓更快地干燥和冷卻,，從而縮短生產(chǎn)周期，提高生產(chǎn)效率,。相比之下,，普通純水的蒸發(fā)速度較慢，會(huì)延長(zhǎng)晶圓的干燥時(shí)間,，降低生產(chǎn)效率,。

工藝穩(wěn)定性：超純水中的溶解氣體、離子濃度等參數(shù)可以得到精確控制,，這有助于保持清洗工藝的穩(wěn)定性,。而普通純水中的這些參數(shù)可能會(huì)有一定的波動(dòng)，影響清洗效果和工藝的穩(wěn)定性,。

成本因素

設(shè)備投資：要獲得超純水,，需要配備專門的超純水設(shè)備,，如雙級(jí)反滲透系統(tǒng)、EDI 模塊等,，設(shè)備的投資成本較高,。

運(yùn)行維護(hù)：超純水設(shè)備的運(yùn)行和維護(hù)也需要一定的費(fèi)用，包括更換濾芯,、膜組件等耗材,，以及定期的檢測(cè)和維護(hù)工作。不過,，從長(zhǎng)遠(yuǎn)來看,，使用超純水清洗晶圓可以提高產(chǎn)品的質(zhì)量，減少因質(zhì)量問題導(dǎo)致的廢品率,，從而降低生產(chǎn)成本,。