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XEIA3掃描電鏡 XEIA3掃描電鏡

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XEIA3掃描電鏡

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TESCAN泰思肯公司簡介


TESCAN是一家專注于微觀形貌,、結(jié)構(gòu)和成分分析的科學(xué)儀器的跨國公司,,是知名的電子顯微儀器制造商,總部位于電鏡制造基地-捷克布爾諾,,且已建立起國際的銷售和服務(wù)網(wǎng)絡(luò),,在捷克、法國和美國擁有4家研發(fā)中心,、2個生產(chǎn)基地以及6家海外子公司,,已有超過60年的電子顯微鏡研發(fā)和制造歷史。其產(chǎn)品主要有電子顯微鏡,、聚焦離子束系統(tǒng),、多通道全息顯微鏡及相關(guān)分析附件和軟件,,正被廣泛應(yīng)用于醫(yī)學(xué)、生物,、生化,、農(nóng)業(yè)、材料科學(xué),、冶金,、化學(xué)、石油,、制藥,、半導(dǎo)體和電子器件等領(lǐng)域中。

作為科學(xué)儀器的主要供應(yīng)商之一,,TESCAN正為其在設(shè)計(jì),、研發(fā)和制造掃描電子顯微鏡及掃描電子顯微鏡在不同領(lǐng)域的應(yīng)用方面樹立良好的聲譽(yù)和品牌。目前TESCAN的產(chǎn)品和解決方案已經(jīng)在微納米技術(shù)領(lǐng)域取得了優(yōu)勢的地位,,創(chuàng)造了掃描電子顯微鏡與拉曼光譜儀聯(lián)用技術(shù),、聚焦離子束與飛行時間質(zhì)譜儀聯(lián)用技術(shù)以及氙等離子聚焦離子束技術(shù),也是行業(yè)領(lǐng)域的先行者,。TESCAN憑借優(yōu)異的性能贏得越來越多的用戶認(rèn)可,,目前生產(chǎn)的各系列電鏡在世界范圍內(nèi)受到廣泛的好評。從2000年至今已有2500多臺電鏡積極地服務(wù)于全球客戶,。

 

TESCAN中國

 

TESCAN于2009年正式進(jìn)入中國市場,,成立了TESCAN CHINA中國分公司,總部設(shè)在上海,,且在北京,、上海兩地建立了DEMO實(shí)驗(yàn)室,在北京,、上海,、廣州、重慶,、南京,、武漢、西安,、無錫,、蘇州等城市設(shè)立9個維修站。TESCAN中國公司擁有經(jīng)驗(yàn)豐富的售前應(yīng)用和售后服務(wù)的技術(shù)團(tuán)隊(duì),,在上海的應(yīng)用中心有包含鎢燈絲電鏡,、場發(fā)射電鏡、FIB以及電制冷能譜儀、電鏡制樣設(shè)備等全系列產(chǎn)品的演示培訓(xùn)平臺,,為國內(nèi)用戶提供參觀,、交流和學(xué)習(xí)的平臺。

 

在進(jìn)入中國的短短幾年內(nèi),,TESCAN已逐步建立起了自己的品牌,,得到了廣大客戶的認(rèn)同。TESCAN在中國的高速發(fā)展得益于產(chǎn)品優(yōu)異的性能,、快捷的售后服務(wù)以及致力于成就客戶的信念,,未來TESCAN中國將持續(xù)提升個性化服務(wù),為國內(nèi)用戶提供更全面,、更專業(yè)的綜合解決方案,!

 

場發(fā)射掃描電鏡

價格區(qū)間 面議 儀器種類 冷場發(fā)射
應(yīng)用領(lǐng)域 環(huán)保

XEIA3掃描電鏡集非凡的超高分辨成像能力和優(yōu)異的微細(xì)加工于一體。強(qiáng)大且超快速的微/納米 FIB 加工,、低能電子束下的超高分辨率(UHR),、超快且可靠的微量分析和三維重構(gòu)功能,使得 XEIA3 成為一款理想易用的 FIB-SEM 系統(tǒng),。隨著 XEIA3 的問世,,TESCAN 不僅躋身儀器供應(yīng)商之列,還履行了其致力于繼續(xù)幫助科研人員推動科學(xué)研究與進(jìn)展的承諾,。TESCAN 的定制化系統(tǒng)能滿足各類客戶的具體需求,。從材料科學(xué)到生命科學(xué),從材料工程到半導(dǎo)體行業(yè),,TESCAN 的設(shè)備一直都表現(xiàn)出的高性能,。

XEIA3掃描電鏡

突出特點(diǎn)

Triglav™ -新型超高分辨率 ( UHR ) 電子光學(xué)鏡筒

  • TriLens™物鏡系統(tǒng):電子束無交叉模式與超高分辨率物鏡相結(jié)合
  • 具有多個 SE 及 BSE 探測器的探測系統(tǒng)
    • TriSE™TriBE™
  • Triglav™ - 低加速電壓下的超高分辨率:1 nm (1 kV ), 0.7 nm (15 kV )
  • EquiPower™ 進(jìn)一步提高電子束的穩(wěn)定性
  • 電子束流高達(dá) 400nA,并能實(shí)現(xiàn)電子束能量的快速改變
  • 優(yōu)化的鏡筒幾何設(shè)計(jì)大可容納 8” 晶圓

極其強(qiáng)大的 Xe 等離子源 FIB 鏡筒

高電子回旋共振(High-ECR)產(chǎn)生的 Xe 等離子源 FIB 鏡筒,,可完成 Ga 離子源 FIB 在納米工程領(lǐng)域不能完成的任務(wù)

  • 濺射速率比 Ga 液態(tài)金屬離子源快 50 倍
  • 離子束流范圍:1 pA ~ 2 µA,;分辨率:<25 nm
  • 新研發(fā)的高分辨率 Xe 等離子體 FIB 鏡筒(選配),分辨率優(yōu)于< 15 nm,,進(jìn)一步增強(qiáng)刻蝕能力
  • 大重量的 Xe 等離子具備更大的 FIB 電流范圍,,在無氣體輔助增強(qiáng)的條件下也可實(shí)現(xiàn)超快濺射
  • 相較于 Ga 液態(tài)金屬離子源,離子注入效應(yīng)顯著減少
  • Xe 惰性氣體原子不會改變圖樣區(qū)域附近的電學(xué)性能
  • 銑削過程中無金屬間化合物形成


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