金屬有機化合物化學氣相沉積鍍膜設備

我們提供了一套完整的MOCVD,，主要產品包括臺式研發(fā)型,、中試型和生產型。其反應器的設計可以根據(jù)工藝的需要很容易提升到滿足大直徑晶片生產的需要,。我們也能為客戶設計以滿足客戶特殊工藝和應用的需要,。系統(tǒng)部件包括：反應器、氣體傳輸系統(tǒng),、電氣控制系統(tǒng)和尾氣處理系統(tǒng).
應用方向：氧化物,、氮化物、碳化物,、硫族（元素）化物,、半導體等,。
提供適用不同材料研究需要的反應器：
透明導體氧化物（TCO）應用于LCD、太陽能電池,、透明加熱器,、電極、LED,、OLED等方面包括：P型ZnO, ITO, SrCuO,MgAlO,SrRuOm等MOCVD系統(tǒng),；
MEMS & MOEMs包括：PZT, ZrO, NbO,LiNbO, TiO2，SiO2,，PbMgO, CMO,，Ta2O5等MOCVD系統(tǒng)；金屬有機金屬有機化合物化學氣相沉積鍍膜設備
儲存器 (DRAM & NVRAM)介電/鈍化材料應用于柵極,、介電層,、鐵電、高頻設備,、鈍化,、保護層等，包括：BST,，PZT, SBT, CMO, BLT,，Hf(Si)O, Ta2O5,，Zr(Si)O,Al2O3, MgO等MOCVD系統(tǒng),；
波導, 光電, WDMs. MOEMS 等材料,，包括：YBCO, PZT, ZnO, ZnSiO:Mn, GaN，SiC, Al, W, Cn等MOCVD系統(tǒng),；
其他材料如：超導,、氮化物、氧化物,、磁性材料,、包括：YBCO, PZT, ZnO, ZnSiO:Mn, GaN，SiC, Al, W, Cn等MOCVD系統(tǒng),；
金屬及合金, 氧化物, 氮化物, III-V, II-VI,...,；
半導體: SiO2, HfO2, Ta2O5, Cu, TiN, TaN, ...；
氮化物及合金: GaN, AlN, GaAs, GaAsN...,；
高介電材料:SrTiO3, BaTiO3, Ba(1-x)SrxTiO3 (BST)...,；
鐵電材料: SBT, SBTN, PLZT, PZT,…；
超導材料:YBCO, Bi-2223, Bi-2212, Tl-1223, …,；
壓電材料: (Pb, Sr)(Zr,Ti)O3, 改性鈦酸鉛...,；
金屬:Pt, Cu,...；
巨磁阻材料...,；
熱涂層, 阻擋層, 機械涂層, 光學材料...,。


我們提供了從桌面型反應器（針對研究和提高的需要）到自動化生產系統(tǒng),。出于材料變化種類的適應性和經濟價格的考慮，對任何研究人員來說桌面型反應器是最合適的選擇,，而且也極容易升級為量產型,。
科研型MOCVD設備，包含液體直接注入ALD工藝,，同一腔室完成沉積和退火,。
-更低的設備及使用成本、更少的前驅體源使用,、更小的腔體尺寸,、跟高的薄膜沉積品質,！
-非常適合高校及研究所科研使用,！

儀器參數(shù)：
1/ 1~4英寸MOCVD系統(tǒng)；
2/ 專為滿足科研單位需求而設計,；
3/ MOCVD系統(tǒng)可在不同基底上,，以MOCVD方式，在固體,、液體有機金屬基源上沉積氧化物,、氮化物、金屬,、III-V 和 II-VI膜層,；
4/ MOCVD配有前驅體直接處理單元，可在大范圍內使用MO源,，用于外延材料的研發(fā)和制備,；
5/ MOCVD腔室中的紅外燈加熱系統(tǒng)可實現(xiàn)在線退火工藝；

性能及特點：
1,， 溫度范圍: 室溫至1200°C ,；
2， 帶質量流量控制器的氣體混合性能,；
3,， 真空范圍: ~ 10-3 Torr，可選配高真空,；
4,， 選配手套箱；
5,， 已被客戶廣泛接受
6,， 堅固耐用
7， 可靠性高
8,， 良好的可重復性
9,， 經濟適用