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飛馳(北京)科學(xué)儀器有限公司

化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>物理特性分析儀器>粒度儀>激光粒度儀>YED5100-H 激光粒度儀-激光顆粒度分析儀

YED5100-H 激光粒度儀-激光顆粒度分析儀

參考價 14
訂貨量 ≥1
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
產(chǎn)品標(biāo)簽

激光粒度儀激光粒度分析儀

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廈門億恩達(dá)電子科技有限公司的總部位于廈門湖里*園, 是一家集生產(chǎn),、研發(fā),、銷售、服務(wù)于一體的儀器設(shè)備供應(yīng)商,,是提供實驗室分析儀器,、無損檢測儀器和檢測技術(shù)服務(wù)的*企業(yè)。精密儀器儀表企業(yè),,集生產(chǎn),、制造、銷售與一體,。是ISO90012000認(rèn)證單位,,是國內(nèi)儀器品種全面,規(guī)模龐大的專業(yè)企業(yè),。產(chǎn)品涵蓋顯微鏡,、水分測試儀、密度計,、比重計,、工具顯微鏡、投影儀,、硬度計,、測厚儀、放大鏡,、天平,、量具量儀、測繪儀器,、測量儀器,、實驗儀器、電化學(xué)儀器,、物理儀器,、分析儀器、生化儀器,、無損檢測,、醫(yī)療器械,、加工機(jī)械共18大類170余個小類共1800種產(chǎn)品。是目前國內(nèi)生產(chǎn)銷售精密儀器儀表品種Z多規(guī)模較大的專業(yè)企業(yè)之一,。

水分儀,,密度計

 主要技術(shù)參數(shù):

規(guī)格型號

YED5100(標(biāo)配)

YED5100(高配)

執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn)

ISO   13320-1:1999;GB/T19077.1-2008

測試范圍

0.1μm -600μm

0.1μm -800μm

探測器通道數(shù)

48

48

準(zhǔn)確性誤差

<1%(國家標(biāo)準(zhǔn)樣品D50值)

重復(fù)性誤差

<1%(國家標(biāo)準(zhǔn)樣品D50值)

免排氣泡

具備免排氣泡設(shè)計,,無氣泡干擾數(shù)據(jù)更準(zhǔn)確

誤操作保護(hù)

儀器具備誤操作自我保護(hù)功能,,儀器對誤操作不響應(yīng)

激光器參數(shù)

He-Ne激光器  λ=632.8nm,  p>2mW 

分散方法

超聲

頻率:f=40KHz,功率:p=80W,時間:隨意可調(diào)

循環(huán)、攪拌

循環(huán)攪拌一體化設(shè)計,,轉(zhuǎn)速:100-33950rpm轉(zhuǎn)速可調(diào)

循環(huán)流量

額定流量:0-10L/min可調(diào)   額定功率:25W

樣品池

自行設(shè)計沸騰式樣品池,,分散效果更好,容量:190-600mL均可正常測試

軟件功能

分析模式

包括自由分布,、R-R分布和對數(shù)正態(tài)分布,、按目分級統(tǒng)計模式等,滿足不同行業(yè)對被測樣品粒度統(tǒng)計方式的不同要求

統(tǒng)計方式

體積分布和數(shù)量分布,,以滿足不同行業(yè)對于粒度分布的不同統(tǒng)計方式

統(tǒng)計比較

可針對多條測試結(jié)果進(jìn)行統(tǒng)計比較分析,,可明顯對比不同批次樣品、加工前后樣品以及不同時間測試結(jié)果的差異,,對工業(yè)原料質(zhì)量控制具有很強(qiáng)的實際意義

自行DIY顯示模板

用戶自定義要顯示的數(shù)據(jù),,根據(jù)粒徑求百分比、根據(jù)百分比求粒徑或根據(jù)粒徑區(qū)間求百分比,,以滿足不同行業(yè)對粒度測試的表征方式,。徑距、*性,、區(qū)間累積等等

測試報告

測試報告可導(dǎo)出Word,、Excel、圖片(Bmp)和文本(Text)等多種形式的文檔,,滿足在任何場合下查看測試報告以及科研文章中引用測試結(jié)果

多語言支持

中英文語言界面支持,,還可根據(jù)用戶要求嵌入其他語言界面。

智能操作模式

真正全自動無人干預(yù)操作,,無人為因素干擾,,您只需按提示加入待測樣品即可,,測試結(jié)果的重復(fù)性更好,。

操作模式

電腦操作

測試速度

<2min/次(不含樣品分散時間)

體積

1170mm*460mm*470mm

重量

35Kg

 

散射理論的研究開始于上一世紀(jì)的70年代。1871年,,瑞利(Lord Rayleigh)首先提出了*的瑞利散射定律,,并用電子論的觀點(diǎn)解釋了光散射的本質(zhì)。瑞利散射定律的適用條件是散射體的尺寸要比光波波長小,。

 

1908年,,米氏(G. Mie)通過電磁波的麥克斯韋方程,,解出了一個關(guān)于光散射的嚴(yán)格數(shù)學(xué)解,得出了任意直徑,、任意成分的均勻粒子的散射規(guī)律,,這就是*的米氏理論。

 

1957年,, H. C. Van de Hulst 出版了關(guān)于微小粒子光散射現(xiàn)象的專著,,總結(jié)了粒子散射的普遍規(guī)律,受到科技界人士的廣泛注意,,這本專著被認(rèn)為是光散射理論領(lǐng)域的經(jīng)典文獻(xiàn),。

 

1969年,M . Kerker 系統(tǒng)論述了光及電磁波散射的一般規(guī)律,,為散射理論的進(jìn)一步發(fā)展做出了貢獻(xiàn),。1983年,C. F. Bo hren ,,O. R. Huff man綜合前人的成果,,又發(fā)表了關(guān)于微小粒子對光散射及吸收的一般規(guī)律,更全面地解釋了光的各種散射現(xiàn)象,。至此,,散射理論的體系建立起來了。

 

1976年J . Swit henbank 等人利用米氏理論在時( d為散射粒子的直徑,,λ為光波波長)的近似式 ——夫瑯和費(fèi)(Franhofer)衍射理論發(fā)展了激光粒度儀,,開辟了散射理論在計量測試中的又一新領(lǐng)域。

 

由于光散射法適用范圍寬,,測量時不受顆粒光學(xué)特性及電學(xué)特性參數(shù)的影響,,因此在隨后的三十年時間內(nèi)已成為粒度計量中zui為重要的方式之一。



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