PLD 脈沖激光沉積系統(tǒng)
- 公司名稱 北京匯德信科技有限公司
- 品牌
- 型號(hào) PLD
- 產(chǎn)地 荷蘭
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
- 更新時(shí)間 2016/9/27 15:22:01
- 訪問(wèn)次數(shù) 567
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分子束外延系統(tǒng),脈沖激光沉積系統(tǒng),電子束光刻/聚焦離子束系統(tǒng),紫外光刻機(jī),去膠機(jī),寬頻介電阻抗譜儀,三維表面形貌儀,納米壓印模板,光刻膠等
脈沖激光沉積 (Pulsed laser deposition),,就是將激光聚焦于靶材上一個(gè)較小的面積,利用激光的高能量密度將部分靶材料蒸發(fā)甚至電離,,使其能夠脫離靶材而向基底運(yùn)動(dòng),,進(jìn)而在基底上沉積,從而形成薄膜的一種方式,。 在眾多的薄膜制備方法中,,脈沖激光沉積技術(shù)的應(yīng)用較為廣泛,可用來(lái)制備金屬,、半導(dǎo)體,、氧化物、氮化物,、碳化物,、硼化物、硅化物,、硫化物及氟化物等各種物質(zhì)薄膜,,甚至還用來(lái)制備一些難以合成的材料膜,如金剛石,、立方氮化物膜等,。
脈沖激光沉積系統(tǒng)(PLD)
TSST配置:
- 生長(zhǎng)室,,進(jìn)樣室可選
- 兩種靶材臺(tái)可選
- 三種加熱器可選,zui高加熱溫度1200℃
- 高壓RHEED,工作氣壓可達(dá)100Pa
- 可預(yù)留法蘭,,用于LEED,,K-Cell等
- 可選項(xiàng):臭氧發(fā)生器,離子源,,掩膜系統(tǒng)等
TSST特點(diǎn)及優(yōu)勢(shì):
- 產(chǎn)品基于荷蘭Twente大學(xué)Prof. Blank和Dr. Rijnders研究組的原始設(shè)計(jì),,在提供產(chǎn)品的同時(shí),更能提供專業(yè)的,;
- 始終考慮到客戶的需求,,為其定制產(chǎn)品,具有很大的靈活性,;
- 靶材臺(tái)同時(shí)可以安裝5個(gè)靶,,并且5個(gè)靶可以同時(shí)更換,節(jié)省換靶時(shí)間,;
- TSST公司是高壓RHEED的發(fā)明人,,其在RHEED結(jié)果的分析上造詣很深,可以為用戶提供結(jié)果分析建議,;
- 用戶可以通過(guò)TSST公司與荷蘭Twente大學(xué)進(jìn)行學(xué)術(shù)交流,,包括訪問(wèn)甚至交換學(xué)生等,。
更多信息,,請(qǐng)查看:http://www.germantech。,。com.cn/new/cplook.asp?id=392