拋光液拋光綜合了化學和機械拋光的優(yōu)勢：

單純的化學拋光：拋光速率較快,、表面光潔度高、損傷低,，但表面平整度和平行度差,，拋光后表面*性差；

單純的機械拋光：表面*性好,、表面平整度和平行度高,，但表面光潔度差、損傷層深,。拋光液拋光可以獲得較為*的表面,，又可以得到較高的拋光速率，得到的平整度比其他方法高,，是目前能夠?qū)崿F(xiàn)全局平面化的有效方法,。

拋光膏和拋光粉的差別在于：拋光膏除開本身含有該粒度的優(yōu)質(zhì)拋光粉作為磨料以外，還含有濕潤劑,、表面活性劑,、分散穩(wěn)定劑和調(diào)整劑等配置而成。拋光膏集物理和化學原理于一身,，效能比拋光粉相對更優(yōu)異,。

拋光膏和拋光液的差別在于：拋光膏是粘度類似于牙膏狀的膏體，而拋光液是粘度類似于植物油狀的液體。拋光液相比拋光膏的流動性更好,！

拋光液的主要產(chǎn)品可以按主要成分的不同分為以下幾大類：金剛石拋光液（多晶金剛石拋光液,、單晶金剛石拋光液）、氧化鋁拋光液,、氧化鈰拋光液,、氧化硅拋光液（即CMP拋光液）、氧化鉻拋光液和碳化硅拋光液等幾類,。

碳化硅拋光液的特性如下:

我司碳化硅拋光液是以微米級碳化硅為磨料,，再配以濕潤劑、表面活性劑,、分散穩(wěn)定劑和調(diào)整劑生產(chǎn)的一種研磨拋光材料,。具有純度高、粒徑分布范圍小,、比表面積高,、微觀形狀呈六方晶體、化學性能穩(wěn)定,、硬度高,、高耐腐蝕性、懸浮穩(wěn)定性好,、拋光后容易清洗等特點,。

碳化硅拋光液廣泛應用于：

非金屬材料行業(yè)：太陽能硅片、半導體硅片,、石英芯片,、玉器寶石、光學玻璃,、工藝品,、水晶、石材,、瑪瑙及高級珠寶玉器等材料的研磨拋光,；

金屬材料行業(yè)：特殊鋼、硬質(zhì)合金和硬脆金屬,，如銅,、黃銅,、鋁和鎂等有色金屬的精密拋光,。

產(chǎn)品粒度： W0.3、W0.5,、W1,、W2、W3、W5,、W7,、W10等型號。

產(chǎn)品包裝：200毫升/瓶和500毫升/瓶,。