拋光液拋光綜合了化學和機械拋光的優(yōu)勢：

單純的化學拋光：拋光速率較快、表面光潔度高,、損傷低,，但表面平整度和平行度差，拋光后表面*性差,；

單純的機械拋光：表面*性好,、表面平整度和平行度高，但表面光潔度差,、損傷層深,。拋光液拋光可以獲得較為*的表面，又可以得到較高的拋光速率,，得到的平整度比其他方法高,，是目前能夠?qū)崿F(xiàn)全局平面化的有效方法。

拋光膏和拋光粉的差別在于：拋光膏除開本身含有該粒度的優(yōu)質(zhì)拋光粉作為磨料以外,，還含有濕潤劑、表面活性劑,、分散穩(wěn)定劑和調(diào)整劑等配置而成,。拋光膏集物理和化學原理于一身，效能比拋光粉相對更優(yōu)異,。

拋光膏和拋光液的差別在于：拋光膏是粘度類似于牙膏狀的膏體,，而拋光液是粘度類似于植物油狀的液體,。拋光液相比拋光膏的流動性更好！

拋光液的主要產(chǎn)品可以按主要成分的不同分為以下幾大類：金剛石拋光液（多晶金剛石拋光液,、單晶金剛石拋光液）,、氧化鋁拋光液、氧化鈰拋光液,、氧化硅拋光液（即CMP拋光液）,、氧化鉻拋光液和碳化硅拋光液等幾類。

碳化硅拋光液的特性如下:

我司碳化硅拋光液是以微米級碳化硅為磨料,，再配以濕潤劑,、表面活性劑、分散穩(wěn)定劑和調(diào)整劑生產(chǎn)的一種研磨拋光材料,。具有純度高,、粒徑分布范圍小、比表面積高,、微觀形狀呈六方晶體,、化學性能穩(wěn)定、硬度高,、高耐腐蝕性,、懸浮穩(wěn)定性好、拋光后容易清洗等特點,。

碳化硅拋光液廣泛應用于：

非金屬材料行業(yè)：太陽能硅片,、半導體硅片、石英芯片,、玉器寶石,、光學玻璃、工藝品,、水晶,、石材、瑪瑙及高級珠寶玉器等材料的研磨拋光,；

金屬材料行業(yè)：特殊鋼,、硬質(zhì)合金和硬脆金屬，如銅,、黃銅,、鋁和鎂等有色金屬的精密拋光。

產(chǎn)品粒度： W0.3,、W0.5,、W1、W2、W3,、W5,、W7、W10等型號,。

產(chǎn)品包裝：200毫升/瓶和500毫升/瓶,。