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退火爐

2024-11-18

產(chǎn)      地:
暫無(wú)
所在地區(qū):
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退火爐是用于制造半導(dǎo)體元件的制程方法,。該制程包括加熱多個(gè)半導(dǎo)體晶片以影響其電性能,。熱處理旨在達(dá)到不同的效果??梢约訜峋约せ顡诫s劑,,使沉積的膜至密化,并改變生長(zhǎng)的膜的狀態(tài),。暴露在高溫下可以修復(fù)損壞,。該過(guò)程稱為退火。 爐子退火可以集成到其他爐子處理步驟中,,例如氧化,,也可以單獨(dú)處理。

image.png

退火爐技術(shù)參數(shù)

應(yīng)用領(lǐng)域腔體
  • 半導(dǎo)體,。

  • MEMs,。

  • 納米技術(shù)。

  • LED,。

  • 太陽(yáng)能電池產(chǎn)業(yè)。

  • 平板顯示器,。

  • 通過(guò)使用加圈和水冷不銹鋼法蘭來(lái)控製石英管的溫度,。

  • 爐管配置:水平,結(jié)合傳送機(jī)構(gòu),。

  • 帶有視窗的手動(dòng)爐門,。


配置和優(yōu)點(diǎn)選件
  • 石英管尺寸:12英寸。

  • 單載片或多載片(最多50個(gè)晶圓),。

  • 控制精度:<±1°C,。

  • 製程氣體:N2、Ar,、H2,。

  • 溫度:1700°C。

  • 抽氣閥件前端會(huì)有冷凍捕捉器,。

  • 易於清潔和維護(hù),。

  • 和自動(dòng)傳送組成在一起,。







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