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微流控制備儀

2024-10-14

產(chǎn)      地:
蘇州
所在地區(qū):
江蘇蘇州市
有效期還剩 69舉報(bào)該信息

MPE-L2型微流控制備儀,,是蘇州艾特森在大量微納米制劑微流控技術(shù)應(yīng)用的工藝研究和驗(yàn)證實(shí)驗(yàn)的基礎(chǔ)上,,特別開發(fā)的一款可用于科研及早期工藝驗(yàn)證和技術(shù)開發(fā)的微流控設(shè)備。MPE-L2以注射泵為動(dòng)力,,較少樣品即可展開實(shí)驗(yàn),,另外,,MPE-L2的創(chuàng)新設(shè)計(jì),支持在實(shí)驗(yàn)進(jìn)行中多次進(jìn)樣,。
 

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微流控制備儀功能應(yīng)用

 

♦ 化學(xué)藥品脂質(zhì)體(Liposome)制備,,如多柔·比星脂質(zhì)體,、伊立替康脂質(zhì)體等;

♦ 生物類脂質(zhì)納米顆粒顆粒(LNP)制備,,如mRNA脂質(zhì)體,、siRNA脂質(zhì)體等,;

♦ 聚合物納米顆粒/微球等制備,如PLGA微球,、PEG-PLGA納米顆粒等,;

♦ 乳劑(Emulsion)的制備,,如疫苗佐劑、脂肪乳制劑等,;

♦ 有機(jī)/無機(jī)納米粒,如金納米等,;

♦ 其他相關(guān)微納米制劑。

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微流控芯片

 

微流控芯片是基于應(yīng)用工藝的定制型特殊流道結(jié)構(gòu)部件,,其通道結(jié)構(gòu)和尺寸均與項(xiàng)目工藝需求相結(jié)合,屬定制型結(jié)構(gòu)件,。具體來說可實(shí)現(xiàn)以下四種功能:

① 兩相的混合、乳化,;

② 微粒形成后的孵育,;

③ 微粒形成后的粒徑控制,;

④ 二次混合或乳化。

 

典型芯片


艾特森微流控芯片基于微流體技術(shù),,結(jié)合微納米制劑相關(guān)制備原理,,經(jīng)特別設(shè)計(jì),精細(xì)加工而成,。艾特森獨(dú)·有的金屬微流控芯片,,擁有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán),,滿足各種類型的微納米制劑線性放大和連續(xù)生產(chǎn)的應(yīng)用需求,。

微流控制備系統(tǒng)介紹


艾特森微流控制備系統(tǒng)定位于微納米制劑,、復(fù)雜注射劑的科研和產(chǎn)業(yè)化技術(shù)應(yīng)用, 通過專·利設(shè)計(jì)的微流控芯片,,高度集成化,、體系化的硬件系統(tǒng)(輸送泵系統(tǒng),、PAT工 具包等),以及以工藝應(yīng)用為導(dǎo)向的人性化軟件系統(tǒng),,為L(zhǎng)iposome,、LNP,、微乳、微晶,、微球等不同藥物載體的科研和產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用提供了成熟,、豐富的解決方案?;诎厣⒘骺丶夹g(shù)的設(shè)備和方案,已用于多個(gè)臨床藥品的開發(fā)

 

微流控技術(shù)介紹

 

微流控(Microfluidic)技術(shù)是一種基于(微)流體力學(xué)理論,,在管線中實(shí)現(xiàn)樣品制備與加工的技術(shù)。完·美的將微流體的理化模型與流體力學(xué)理論相結(jié)合,,可實(shí)現(xiàn)樣品的混合、乳化及分離純化等功能,。

 

微流控技術(shù)將過程控制技術(shù)(Process Control Technology,PCT)與過程分析技術(shù)(Process Analytical Technology,,PAT)相結(jié)合,可實(shí)現(xiàn)良好的在線樣品制備技術(shù)(On-line Preparation Technology,,OPT)。樣品在連續(xù)化制備的過程中,,工藝過程中參數(shù)完·全可控,且具備良好重現(xiàn)性,,所以較傳統(tǒng)分步割裂式制備,、分批次生產(chǎn)的方法來說更具有可放大性,。

 

可實(shí)現(xiàn)樣品的初乳化,、復(fù)乳化、粒徑控制功能,。

 

微流控制備系統(tǒng)通過制備泵和高壓輸送泵與微流控芯片相連接,A相和B相可按照一定的比例恒速的輸送至芯片中進(jìn)行混合,,乳化,。在微流控芯片中通過設(shè)計(jì)不同的流道結(jié)構(gòu),,控制不同的速度,使得樣品在微流控芯片中達(dá)到湍流,、層流或霧化狀態(tài),,可以實(shí)現(xiàn)樣品的初乳化或復(fù)乳化的要求,。

 

制備好的樣品通過高壓泵輸送至高壓微流控芯片中,通過撞擊力和剪切力來控制粒徑,,使其達(dá)到所需范圍內(nèi)。粒徑最小可達(dá)到100nm以內(nèi),,PDI至0.1以下,。

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