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市場(chǎng)月報(bào) | 中標(biāo)金額持續(xù)上升 5月色譜儀中標(biāo)盤(pán)點(diǎn)
5月色譜儀市場(chǎng)需求仍舊持續(xù)上漲中,中標(biāo)總金額[詳細(xì)]

近期,,中國(guó)科學(xué)院微電子研究所連續(xù)發(fā)布多項(xiàng)儀器設(shè)備采購(gòu)意向,,預(yù)算金額達(dá)28366萬(wàn)元。涉及儀器設(shè)備包括全自動(dòng)光學(xué)顯微鏡,、刻蝕設(shè)備,、X射線(xiàn)光電子能譜儀、等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積設(shè)備,、干法去膠機(jī)等,。
采購(gòu)項(xiàng)目名稱(chēng) | 采購(gòu)需求概況 | 預(yù)算金額(萬(wàn)元) | 預(yù)計(jì)采購(gòu)日期 |
硅片 | 制備半導(dǎo)體器件,數(shù)量700片 | 150 | 2025年02月 |
4G-LTE Cat.1通信SOC芯片晶圓 | 4G-LTE Cat.1通信的SOC芯片及其配套的PMIC芯片,,晶圓數(shù)量各1張 | 160 | 2025年03月 |
高溫集成電路與元器件 | 高溫集成電路與元器件 | 140 | 2025年03月 |
全自動(dòng)光學(xué)顯微鏡 | 全自動(dòng)光學(xué)顯微鏡1臺(tái) | 150 | 2025年04月 |
新型存儲(chǔ)器刻蝕系統(tǒng) | 新型存儲(chǔ)器刻蝕系統(tǒng)1臺(tái) | 1500 | 2025年04月 |
激光發(fā)生裝置 | 激光發(fā)生裝置 | 130 | 2025年04月 |
12英寸槽式小尺寸高精度橫向濕法刻蝕設(shè)備 | 12英寸槽式小尺寸高精度橫向濕法刻蝕設(shè)備1臺(tái) | 3800 | 2025年04月 |
數(shù)?;旌暇C合老化系統(tǒng) | 數(shù)?;旌暇C合老化系統(tǒng)1臺(tái) | 114 | 2025年04月 |
穩(wěn)態(tài)熱阻測(cè)試系統(tǒng) | 穩(wěn)態(tài)熱阻測(cè)試系統(tǒng)1臺(tái) | 115 | 2025年04月 |
三維集成封裝動(dòng)態(tài)數(shù)字全息顯微分析儀 | 三維集成封裝動(dòng)態(tài)數(shù)字全息顯微分析儀1臺(tái) | 252 | 2025年05月 |
低溫變頻C-V測(cè)試設(shè)備 | 低溫變頻C-V測(cè)試設(shè)備 | 350 | 2025年05月 |
透射電子顯微鏡(TEM)、聚焦離子束顯微鏡(FIB)以及二次離子質(zhì)譜(SIMS)等半導(dǎo)體測(cè)試分析 | 透射電子顯微鏡(TEM),、聚焦離子束顯微鏡(FIB)以及二次離子質(zhì)譜(SIMS)等半導(dǎo)體測(cè)試分析 | 1000 | 2025年05月 |
離子刻蝕機(jī) | 離子刻蝕機(jī)1臺(tái) | 810 | 2025年05月 |
光譜檢測(cè)儀 | 日本橫河 AQ6380 光譜檢測(cè)儀1 臺(tái) | 100 | 2025年06月 |
低頻阻抗分析儀 | 低頻阻抗分析儀1 臺(tái) | 100 | 2025年06月 |
X射線(xiàn)光電子能譜儀 | X射線(xiàn)光電子能譜儀 | 900 | 2025年06月 |
激光隱形切割成套設(shè)備 | 激光隱形切割成套設(shè)備 | 1000 | 2025年06月 |
12吋晶圓等離子劃片機(jī) | 12吋晶圓等離子劃片機(jī) | 1880 | 2025年06月 |
12吋晶圓級(jí)激光去膠開(kāi)槽設(shè)備 | 12吋晶圓級(jí)激光去膠開(kāi)槽設(shè)備 | 800 | 2025年06月 |
12吋晶圓級(jí)無(wú)機(jī)紅外拆鍵合設(shè)備 | 12吋晶圓級(jí)無(wú)機(jī)紅外拆鍵合設(shè)備 | 5300 | 2025年06月 |
翹曲測(cè)量?jī)x | 翹曲測(cè)量?jī)x | 620 | 2025年06月 |
12吋物理氣相沉積設(shè)備 | 12吋物理氣相沉積設(shè)備 | 2300 | 2025年06月 |
PVTC-A1比容量?jī)x | PVTC-A1比容量?jī)x | 245 | 2025年06月 |
流片 | 流片50顆 | 100 | 2025年06月 |
低噪聲高頻信號(hào)發(fā)生器 | 低噪聲高頻信號(hào)發(fā)生器1臺(tái) | 180 | 2025年06月 |
high-K介質(zhì)電感耦合等離子體刻蝕設(shè)備 | high-K介質(zhì)電感耦合等離子體刻蝕設(shè)備1臺(tái) | 900 | 2025年06月 |
干法去膠機(jī) | 干法去膠機(jī)1臺(tái) | 200 | 2025年06月 |
高深寬比橫向濕法刻蝕設(shè)備 | 高深寬比橫向濕法刻蝕設(shè)備1臺(tái) | 1210 | 2025年06月 |
金屬及金屬氧化物原子層沉積設(shè)備 | 金屬及金屬氧化物原子層沉積設(shè)備1臺(tái) | 1800 | 2025年06月 |
金屬及金屬氧化物電感耦合等離子體刻蝕設(shè)備 | 金屬及金屬氧化物電感耦合等離子體刻蝕設(shè)備1臺(tái) | 860 | 2025年06月 |
等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積設(shè)備 | 等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積設(shè)備1臺(tái) | 1200 | 2025年06月 |
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