等離子清洗機顯著的特點是高均勻性輝光放電,，根據(jù)不同氣體發(fā)出從藍色到深紫色的色彩可見光，材料處理溫度接近室溫,。這些高度活躍微粒子和處理的表面發(fā)生作用,，得到了表面親水性,、拒水性、低摩擦,、高度清潔,、激活、蝕刻等各種表面改性,。

等離子處理機的工藝：
  表面激活Surface Activation
  表面清潔Surface Cleaning
  顯微蝕刻Micro Etching
  等離子接枝,、聚合Plasma Polymerization
  上述作用離子直接和處理物表面外層10 到1000A 厚度起作用,，不影響材料其本身性能。
等離子處理機的優(yōu)點：
1.環(huán)保技術(shù)：等離子體作用過程是氣- 固相干式反應 ,不消耗水資源,、無需添加化學藥劑,對環(huán)境無污染,。

2.廣適性：不分處理對象的基材類型,均可進行處理,對金屬、半導體,、氧化物和大多數(shù)高分子材料,，如聚丙烯、聚脂,、聚酰亞胺,、聚氯乙烷、環(huán)氧,、甚至聚四氟乙烯等都能很好地處理,，并可實現(xiàn)整體和局部以及復雜結(jié)構(gòu)的清洗改性。

3.溫度低：接近常溫,，特別適于高分子材料,，比電暈和火焰方法有較長保存時間和較高表面張力。

4.功能強：僅涉及高分子材料淺表面（10 -1000A ）,，可在保持材料自身特性的同時,，賦予其一種或多種新的功能； 

5.低成本：裝置簡單,，易操作維修,，可連續(xù)運行，往往幾瓶氣體就可以代替數(shù)千公斤清洗液,因此清洗成本會大大低于濕法清洗,。

6.全過程可控工藝：所有參數(shù)可由電腦設(shè)置和數(shù)據(jù)記錄,，進行質(zhì)量控制。

7.等離子清洗機處理物幾何形狀無限制：大或小,，簡單或復雜,，部件或紡織品，均可處理,。

等離子清洗機分類

按激發(fā)頻率分類

常用的等離子體激發(fā)頻率有三種：激發(fā)頻率為 40kHz的等離子體為超聲等離子體,，13.56MHz的等離子體為射頻等離子體，2.45GHz的等離子體為微波等離子體,。

不同等離子體產(chǎn)生的自偏壓不一樣,，超聲等離子體的自偏壓為1000V左右，射頻等離子體的自偏壓為250V左右,，微波等離子體的自偏壓很低,，只有幾十伏，而且三種等離子體的機制不同,。超聲等離子體發(fā)生的反應為物理反應,，射頻等離子體發(fā)生的反應既有物理反應又有化學反應,，微波等離子體發(fā)生的反應為化學反應。超聲等離子體清洗對被清潔表面產(chǎn)生的影響大,，因而實際半導體生產(chǎn)應用中大多采用射頻等離子體清洗機和微波等離子體清洗機,。

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