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Holmarc 的離子交換器是一種專用設(shè)備,，用于將基片浸入熱室中的熔體中形成薄膜。加熱器的溫度可以控制和固定,，最高可達(dá)環(huán)境溫度 400°C,。速度,、持續(xù)時間等由計算機(jī)控制精確保持。移動由精密伺服/步進(jìn)電機(jī)控制的線性平臺實現(xiàn),。
系統(tǒng)的前面板帶有鍵盤和 LCD 顯示屏,，使用方便。也可通過電腦進(jìn)行控制,。浸漬持續(xù)時間,、浸漬速度、退出速度等都是可編程功能,。
伺服電機(jī)（可選）用作執(zhí)行器,，可實現(xiàn)無振動浸漬和退出。該設(shè)備采用臺式設(shè)計和制造,，整個電子設(shè)備和伺服電機(jī)都安裝在一個緊湊的裝置中,。在實驗過程中,，基片支架的高度可根據(jù)溶液水平進(jìn)行調(diào)整。
規(guī)格
執(zhí)行器：步進(jìn)電機(jī)（可選伺服電機(jī)）
驅(qū)動機(jī)構(gòu)：精密滾珠絲杠
速度控制：可選
電源輸入：230 伏,，50 赫茲
電腦連接：串行端口（RS 232）
最大行程：150 毫米
最小牽引速度： 2 微米/秒
最大拉伸速度：9000 微米/秒
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