HMDS 預(yù)處理真空烘箱是一種專門用于半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中的設(shè)備,。

在光刻工藝中,，光刻膠大多是疏水的,，而硅片等基片表面的羥基和殘留水分子是親水的,，這會導(dǎo)致光刻膠與基片的黏合性較差,。HMDS（六甲基二硅氮烷）可以改善這種狀況,。

HMDS 預(yù)處理真空烘箱的工作原理是：通過對烘箱預(yù)處理過程中的工作溫度,、處理時間,、保持時間等參數(shù)進(jìn)行控制,，能夠在硅片、基片表面均勻涂布一層 HMDS,。它首先將基片加熱到100℃-200℃去除表面水分,，然后使 HMDS 與基片表面的 OH-反應(yīng),，在其表面生成硅醚，從而將極性表面變?yōu)榉菢O性表面,，提高光刻膠與基片的黏附性,，降低了 HMDS 處理后的基片接觸角，減少光刻膠的用量,。

該設(shè)備的特點(diǎn)通常包括：

- 采用醫(yī)用級不銹鋼 316L 材質(zhì)制造,，內(nèi)膽為不銹鋼 316L，具有良好的耐腐蝕性,。

- 箱門閉合松緊可調(diào)節(jié),，有整體成型的硅橡膠門封圈，確保箱內(nèi)高真空度,。

- 配備微電腦智能控溫儀,，控溫精確、可靠,，具有設(shè)定和測定溫度雙數(shù)字顯示及 PID 自整定功能,。

- 擁有智能化觸摸屏控制系統(tǒng)，可根據(jù)不同制程條件改變程序,、溫度,、真空度及每一程序時間。

- HMDS 氣體采用密閉式自動吸取添加設(shè)計(jì),，真空箱密封性能佳,，確保 HMDS 氣體無外漏顧慮。

- 整個系統(tǒng)采用無發(fā)塵材料制造,，適用于 100 級光刻間凈化環(huán)境,。

其一般工作流程為：

先確定烘箱工作溫度，打開真空泵抽真空,，待腔內(nèi)真空度達(dá)到某一高值后,，開始充入氮?dú)猓涞竭_(dá)到某低真空度后,，再次進(jìn)行抽真空,、充入氮?dú)獾倪^程，如此循環(huán)達(dá)到設(shè)定的充入氮?dú)獯螖?shù)后,，保持一段時間使硅片充分受熱以減少表面水分,；接著再次抽真空，充入 HMDS 氣體,，到達(dá)設(shè)定時間后停止充入藥液,，進(jìn)入保持階段使硅片充分與 HMDS 反應(yīng)；最后再次抽真空并充入氮?dú)猓瓿烧麄€作業(yè)過程,。多余的 HMDS 蒸汽（尾氣）將由真空泵抽出,，排放到專用廢氣收集管道或做專門處理。