直流負壓濺射和直流濺射有什么區(qū)別

來源：鄭州科探儀器設備有限公司 2024年01月08日 15:05

直流負壓濺射和直流濺射在直流濺射中,，帶正電的離子被吸引到接地的、帶負電的濺射靶上,，從靶材上濺射出原子,，然后這些原子在樣品（也稱為襯底）上沉積形成薄膜。通常情況下,，濺射靶被接到正極,，而樣品端（襯底）被接到負極或接地。

然而,，有些情況下（如反濺射或偏壓濺射）,，樣品端會被接到正極以吸引多余的離子，從而實現(xiàn)清潔襯底表面或形成離子轟擊確保薄膜和基底的結合強度,。這種電源連接方式可以提高薄膜的層內應力,，改善其結晶性能，以及提高薄膜沉積效率,。

這種操作需要一定的注意事項,，因為樣品端上高電壓可能會導致放電，影響設備的穩(wěn)定性和薄膜的質量,，還有可能對樣品造成損壞,。根據(jù)具體的設備設計和操作要求，可能需要在樣品端和電源之間添加一個抗電弧裝置來降低這種風險,。

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