——多模態(tài)臨界尺寸測量和薄膜計量學

FilmTekTM CD光學臨界尺寸系統(tǒng)是我們解決方案,，可用于1x nm設計節(jié)點及更高級別的全自動化,、高通量CD測量和高級薄膜分析。該系統(tǒng)同時提供已知和*未知結構的實時多層堆疊特性和CD測量,。

FilmTek CD利用多模測量技術來滿足與開發(fā)和生產(chǎn)中復雜的半導體設計特征相關的挑戰(zhàn)性需求,。這項技術能夠測量極小的線寬，在低于10納米的范圍內(nèi)進行高精度測量,。

依賴傳統(tǒng)橢圓偏振儀或反射儀技術的現(xiàn)有計量工具在實時準確解析CD測量的能力方面受到限制,，需要在設備研究和開發(fā)期間生成繁瑣的庫,。FilmTek CD通過獲得多模態(tài)測量技術克服了這一限制，該技術甚至為*未知的結構提供了單一解決方案,。

FilmTek CD包括具有快速,、實時優(yōu)化功能的專有衍射軟件。實時優(yōu)化允許用戶以小的設置時間和配方開發(fā)輕松測量未知結構,，同時避免與庫生成相關的延遲和復雜度,。

測量能力：

·厚度、折射率和光盤計量
·未知薄膜的光學常數(shù)表征
·超薄膜疊層厚度
·廣泛的關鍵尺寸測量應用,，包括金屬柵極凹槽,、高k凹槽、側壁角,、抗蝕劑高度、硬掩模高度,、溝槽和接觸輪廓以及間距行走

Bruker FilmTek CD橢偏儀在爾迪儀器有售,，如有需要可聯(lián)系上海爾迪儀器科技有限公司！