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當(dāng)你在智能手機(jī)或平板電腦，用手指輕輕一劃,，就會(huì)出現(xiàn)各種頁(yè)面,，這就是屏幕上一種透明導(dǎo)電薄膜的功勞。
現(xiàn)在就帶你認(rèn)識(shí)用于生產(chǎn)透明導(dǎo)電薄膜的磁控濺射靶材,。它是眾多濺射靶材中發(fā)展迅速且應(yīng)用較廣的一種靶材,，目前廣泛應(yīng)用于平板顯示、節(jié)能低輻射玻璃,、LED,、半導(dǎo)體元器件等行業(yè),。
1,、磁控濺射靶材的分類
根據(jù)材料的成分不同，靶材可分為金屬靶材,、合金靶材,、無機(jī)非金屬靶材等。其中無機(jī)非金屬靶材又可分為氧化物,、硅化物,、氮化物和氟化物等不同種類靶材。
根據(jù)幾何形狀的不同,，靶材可分為長(zhǎng)（正）方體形靶材,、圓柱體靶材和不規(guī)則形狀靶材；此外,，靶材還可以分為實(shí)心和空心兩種類型靶材,。
目前靶材常用的分類方法是根據(jù)靶材應(yīng)用領(lǐng)域進(jìn)行劃分，主要包括半導(dǎo)體領(lǐng)域應(yīng)用靶材,、記錄介質(zhì)應(yīng)用靶材,、顯示薄膜應(yīng)用靶材,、光學(xué)靶材、超導(dǎo)靶材等,。
其中半導(dǎo)體領(lǐng)域用靶材,、記錄介質(zhì)用靶材和顯示靶材是市場(chǎng)需求最大的三類靶材。
2,、磁控濺射靶材的應(yīng)用領(lǐng)域
磁控濺射靶材主要應(yīng)用于電子及信息產(chǎn)業(yè),，如集成電路、信息儲(chǔ)存,、液晶存儲(chǔ),、液晶顯示器、電子控制器件等,，亦可應(yīng)用于玻璃鍍膜領(lǐng)域,，還可以應(yīng)用于耐磨材料、高溫耐蝕,、化學(xué)電鍍,、金屬泡沫材料、高檔裝飾用品等行業(yè),。
2.1信息存儲(chǔ)產(chǎn)業(yè)
在信息存儲(chǔ)產(chǎn)業(yè)中,，使用濺射靶材制備的相關(guān)薄膜產(chǎn)品有硬盤,、磁頭,、光盤（CD-R，CD,，DVD）,、磁光相變光盤（MO，C-RW,DVD-KAM）,。
2.2集成電路產(chǎn)業(yè)
集成電路用靶材在全球靶材市場(chǎng)中占較大份額。其濺射產(chǎn)品主要包括電極互相連線膜,、阻擋層薄膜,、接觸薄膜,、光盤掩膜,、電容器電極膜,、電阻薄膜等,。
2.3平面顯示器產(chǎn)業(yè)
平面顯示器包括：液晶顯示器（LCD）、等離子體顯示器（PDP）、場(chǎng)致發(fā)光顯示器（E-L）,、場(chǎng)發(fā)射顯示器（PED）。目前,，在平面顯示器市場(chǎng)中以液晶顯示器LCD市場(chǎng)最大,份額高達(dá)80%,。
2.4光學(xué)薄膜行業(yè)
玻璃鍍膜采用的靶材主要有：In2O3、SnO2,、Co-Cr,、Cu、Cr,、Ni,、Sn等,。汽車后鏡用靶材主要有：Cr,、Al、SnO2,、TiO2等,。
3、磁控濺射靶材的制備方法
磁控濺射靶材的制備技術(shù)方法按生產(chǎn)工藝可分為熔融鑄造法和粉末冶金法兩大類,，在靶材的制備過程中,，除嚴(yán)格控制材料的純度、致密度,、晶粒度以及結(jié)晶取向之外,，對(duì)熱處理工藝條件、后續(xù)成型加工過程亦需要加以嚴(yán)格的控制,，以保證靶材的質(zhì)量,。
3.1熔融鑄造法
與粉末冶金法相比,，熔融鑄造法生產(chǎn)的靶材產(chǎn)品雜質(zhì)含量低,，致密度高。
3.2粉末冶金法
通常,，熔融鑄造法無法實(shí)現(xiàn)難熔金屬濺射靶材的制備,，對(duì)于熔點(diǎn)和密度相差較大的兩種或兩種以上的金屬，采用普通的熔融鑄造法,，一般也難以獲得成分均勻的合金靶材,；
對(duì)于無機(jī)非金屬靶材、復(fù)合靶材,，熔融鑄造法更是無能為力,，而粉末冶金法是解決制備上述靶材技術(shù)難題的最佳途徑。同時(shí)，粉末冶金工藝還具有容易獲得均勻細(xì)晶結(jié)構(gòu),、節(jié)約原材料,、生產(chǎn)效率高等優(yōu)點(diǎn)。
相關(guān)產(chǎn)品
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