雙靶磁控濺射儀是一款新型的鍍膜設備,，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜,、合金薄膜,、半導體薄膜,、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜,、光學薄膜,、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜,、聚四氟乙烯薄膜等,。與同類設備相比，其不僅應用廣泛,，且具有體積小便于操作的優(yōu)點,是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備,。

　　雙靶磁控濺射儀操作規(guī)范：

　　雙靶磁控濺射儀開機

　　1、打開冷水機,。設定溫度：冬天10-15℃,，夏天5℃

　　2、打開放氣閥破真空,，然后關(guān)閉放氣閥（之后整個工作過程務必保證放氣閥均是關(guān)閉狀態(tài),。本機閥門均是逆時針打開，順時針關(guān)閉）

　　3,、打開總控電源

　　4,、打開真空計（電阻單元真空范圍10Pa，電離單元0.1-10-6Pa）

　　5,、打開燈,，檢查鍍膜腔是否關(guān)緊（觀察腔四周是否有光線）

　　6、打開機械泵電磁閥,，此時務必保證放氣閥已經(jīng)關(guān)閉?。?！

　　7,、打開預抽閥

　　8、當壓強達到10Pa以下打開分子泵→運行→關(guān)閉預抽閥→*打開插板閥

　　雙靶磁控濺射儀使用

　　1,、當腔內(nèi)壓強真空度達到要求后,，打開氣罐（指針調(diào)至刻度1-2之間），關(guān)小插板閥,，儀器的工作氣壓為1-10Pa,。

　　2、關(guān)閉電離單元按下“自動”→電離→打開進氣閥→流量計（mL/min）

　　3,、在保持輸入氣體比例基本不變的條件下調(diào)節(jié)進氣量或者調(diào)節(jié)插板閥使氣壓處于1-10Pa,，是5Pa，流量計開關(guān)一般在“閥控”,。

　　4,、打開射頻開關(guān)“ON”觀察有無起灰，若無起灰再調(diào)節(jié)功率或進氣量 關(guān)機

　　氣體流量計歸零→關(guān)閉狀態(tài)→關(guān)閉進氣閥→關(guān)閉控氣閥→關(guān)閉插板閥→關(guān)閉氣瓶→射頻/直流功率歸零→“OFF” →溫度電源歸零關(guān)閉→流量計關(guān)閉→分子泵停止待轉(zhuǎn)速歸零→關(guān)閉開關(guān)→關(guān)閉電磁閥→關(guān)閉機械泵→放氣閥打開→放完氣以后關(guān)閉,。